【技术实现步骤摘要】
一种优化导热的半导体激光器及其制备方法
本专利技术涉及一种优化导热的半导体激光器及其制备方法,属于半导体激光器的
技术介绍
光电子技术是当代高新科技的重要组成部分,对发展国民经济、国防建设起到举足轻重的作用。半导体激光器的应用覆盖了整个光电子学领域,已成为当今光电子科学的核心技术。由于半导体激光器的体积小、结构简单、输入能量低、效率高、可靠性好、较宽的波长选探性、易于调制和价格低廉等优点,使它已广泛应用于光纤通信、信息存储户、医疗、激光打印、材料加工、光电子集成以及泵浦固体激光器等领域。对于半导体激光器,影响其温度特性及可靠性的主要因素包括,材料内部缺陷对光子的散射及吸收,有源区温度升高使载流子溢出,最终导致高功率密度下载流子的非辐射复合产生大量热;如果不及时散热,会导致COD现象(灾难性光损伤),使芯片的温度急剧升高,破坏腔面,输出功率严重下降,波长增加,寿命降低。因此散热能力的好坏对半导体激光器的性能和稳定性尤为重要。因此,在生产半导体激光器时,一方面要优化管芯封装工艺,使得芯片产生的热量尽快释 ...
【技术保护点】
1.一种优化导热的半导体激光器,其特征在于,包括自下而上依次设置的衬底、下包层、有源区、上包层和接触层;所述接触层的上表面设置有多个脊型结构,相邻脊型结构之间形成沟槽;所述沟槽的底面和两个侧面上设置有介质膜;所述介质膜和接触层的上表面设置有第一金属电极层;所述沟槽的两侧设置有导热柱;所述导热柱从第一金属层依次穿过介质膜、接触层和上包层与有源区的上表面接触。/n
【技术特征摘要】
1.一种优化导热的半导体激光器,其特征在于,包括自下而上依次设置的衬底、下包层、有源区、上包层和接触层;所述接触层的上表面设置有多个脊型结构,相邻脊型结构之间形成沟槽;所述沟槽的底面和两个侧面上设置有介质膜;所述介质膜和接触层的上表面设置有第一金属电极层;所述沟槽的两侧设置有导热柱;所述导热柱从第一金属层依次穿过介质膜、接触层和上包层与有源区的上表面接触。
2.根据权利要求1所述的优化导热的半导体激光器,其特征在于,所述衬底的下表面设置有第二金属电极层;所述第二金属电极层为Ge/Ni/Au。
3.根据权利要求1所述的优化导热的半导体激光器,其特征在于,所述衬底为通用的GaAs衬底;所述下包层、有源区和上包层均采用与GaAs衬底晶格匹配的AlGaInP材料;所述接触层为重掺杂Zn的GaAs,掺杂浓度为1×1019~1×1020cm-3;所述介质膜为氧化硅;第一金属电极层为Ti/Pt/Au。
4.根据权利要求1所述的优化导热的半导体激光器,其特征在于,所述上包层与接触层的总厚度为1~4μm。
5.根据权利要求1所述的优化导热的半导体激光器,其特征在于,所述脊型结构的宽度为30~200μm,高度为1~4μm;沟槽...
【专利技术属性】
技术研发人员:张新,张雨,于军,朱振,郑兆河,
申请(专利权)人:潍坊华光光电子有限公司,
类型:发明
国别省市:山东;37
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