一种头孢地尼杂质D的制备方法技术

技术编号:23334233 阅读:37 留言:0更新日期:2020-02-15 01:13
本发明专利技术涉及一种头孢地尼杂质D的制备方法,属于药物化学领域。本发明专利技术头孢地尼杂质D的制备方法为头孢地尼与双氧水反应,经分离纯化得到头孢地尼杂质D。本发明专利技术头孢地尼杂质D的制备方法,反应条件温和,不涉及超低温反应,减少了工艺步骤,适用于实验室中试放大;制备得到的头孢地尼杂质D纯度达到90%以上,能满足质量研究需要,同时为头孢地尼国家质量标准提升提供了技术基础。

A preparation method of cefdinir impurity D

【技术实现步骤摘要】
一种头孢地尼杂质D的制备方法
本专利技术涉及一种头孢地尼杂质D的制备方法,属于药物化学领域。
技术介绍
头孢地尼(Cefdinir)属第三代头孢,是日本藤泽药品工业株式会社开发的头孢类抗菌素,于1991年10月首次在日本上市,商品名为Cefzon,1997年12月在美国上市,1999年在韩国上市,2001年国产头孢地尼获准在中国上市,2009年4月上海安瀚特生物医药技术有限公司申请原料药进口,获得SFDA批准。头孢地尼对β-内酰胺酶稳定、抗菌谱广、抗菌作用强、临床疗效高、毒性低、过敏反应少、方便使用。与头孢克肟、头孢呋辛、头孢克洛和头孢丙烯等药物相比,头孢地尼对葡萄球菌的抗菌活性最强,而且对金黄色葡萄球菌、链球菌、肺炎球菌等革兰氏阳性菌表现出良好的抗菌能力。其化学结构的特点是在7-氨基头孢霉烷酸骨架的7位侧链上引入了氨基噻唑基和羟亚胺基,在3位侧链上引入了乙烯基。头孢地尼在临床上,可用于急性支气管炎、中耳炎、咽喉炎、肺炎、淋菌性尿道炎、乳腺炎、手术后伤口继发感染、淋巴管炎和皮肤及软组织感染等的治疗。头孢地尼杂质是在药品中没有任何药效作用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种头孢地尼杂质D的制备方法,其特征在于,所述制备方法为头孢地尼与双氧水反应,经分离纯化得到头孢地尼杂质D。/n

【技术特征摘要】
1.一种头孢地尼杂质D的制备方法,其特征在于,所述制备方法为头孢地尼与双氧水反应,经分离纯化得到头孢地尼杂质D。


2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:
(1)将头孢地尼加入纯水中,开启搅拌,逐滴加入氨水至头孢地尼溶解,然后加入双氧水,开始反应;
(2)反应结束后,用盐酸调节pH,得到混合液;
(3)将步骤(2)所得的混合液进行分离纯化,即得头孢地尼杂质D。


3.如权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,相对于每克头孢地尼,纯水的用量为4~30mL,双氧水的用量为2~8mL。


4.如权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,反应温度为20~40℃,反应时间为...

【专利技术属性】
技术研发人员:袁晓林顺权
申请(专利权)人:广州牌牌生物科技有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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