【技术实现步骤摘要】
用于微米厚度透射电镜金属样品的精磨器
本专利技术属于透射电镜样品制备器具
，具体涉及一种用于微米厚度透射电镜金属样品的精磨器。
技术介绍
理想的透射电镜薄膜样品要求具有面积大而均匀并且无人为缺陷的薄（电子束透明）区，制备出这样的样品通常需要经过多道程序的减薄。制备金属材料透射电镜样品的一般步骤为线切割（样品厚度约为1mm）→粗磨→细磨及抛光（厚度减小到50μm左右）→电解双喷或离子减薄(样品最终厚度在100nm以下)。本设计主要针对其中的细磨过程。目前，对于细磨步骤所使用的研磨器而言，还是以手工研磨装置为主，市场上已有的透射电镜金属薄膜样品制备的研磨抛光装置，存在以下问题：（1）一次只能制备一至两个样品，效率较低。（2）在放置样品的过程中需要使用到石蜡等粘接剂，工序复杂，且存在粘接剂涂抹不匀导致样品最终倾斜的问题。（3）研磨托盘在人为使用过程中，很难保证绝对水平，对砂纸的破坏性较大。经检索相关文献及专利，专利申请号为201310015073.3，名称为“一种用于透射电镜薄膜样品的...
【技术保护点】
1.一种用于微米厚度透射电镜金属样品的精磨器，其特征在于：包括测微器、研磨托盘和载玻片，所述研磨托盘的纵向截面为工字型，测微器通过设在研磨托盘上的通孔与研磨托盘垂直连接，测微器末端与通孔形成放置样品的凹槽；所述的测微器为多个，对称分布于研磨托盘上；所述的载玻片在研磨托盘倒置时放置在凹槽的上方。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于微米厚度透射电镜金属样品的精磨器，其特征在于：包括测微器、研磨托盘和载玻片，所述研磨托盘的纵向截面为工字型，测微器通过设在研磨托盘上的通孔与研磨托盘垂直连接，测微器末端与通孔形成放置样品的凹槽；所述的测微器为多个，对称分布于研磨托盘上；所述的载玻片在研磨托盘倒置时放置在凹槽的上方。
2.根据权利要求1所述的用于微米厚度透射电镜金属样品的精磨器，其特征在于：所述的测微器为螺旋测微器，螺旋测微器为四个，在研磨托盘上呈对称方形分布，方形分布之间的长度和宽度的距离均为40mm...
【专利技术属性】
技术研发人员：王双宝，韩相彬，刘玉莹，李伟洲，
申请(专利权)人：广西大学，
类型：发明
国别省市：广西;45
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