【技术实现步骤摘要】
一种平面波导阵列光栅解复用器的测试制具及其测试方法
本专利技术涉及光通讯
，尤其涉及一种平面波导阵列光栅解复用器的测试制具及其测试方法。
技术介绍
随着通信技术的快速发展和实际应用的迅猛增长，大容量光纤通信系统的研究具有很大的应用价值,粗波分复用系统(CWDM)越来越受到人们的重视。早期应用于北美骨干网络的CWDM，现在已经迅速的推进到全世界，而且广泛应用到了城域网之中。目前国内外开发的CWDM技术主要有三种类型，他们分别基于阵列波导光栅和介质膜滤光片(TFF)以及光纤光栅(FBG)技术。波导阵列光栅是一种平面波导器件，是利用PLC技术在芯片衬底上制作的阵列波导光栅。目前与介质膜滤光片和光纤光栅相比，波导阵列光栅具有集成度高、通道数目多、插入损耗小，易于批量自动化生产等优点。四通道的波导阵列光栅CWDM目前主要应用于100G、400G等高速有源光模块中，而四通道的波导阵列光栅CWDM不同于分光器芯片的主要成分二氧化硅，其主要成分为硅基衬底，0.2mm-0.3mm厚的波导层为二氧化硅。在实际使用中，为节约模块的空...
【技术保护点】
1.一种平面波导阵列光栅解复用器的测试制具,其特征在于：包括底座(1)、竖直挡板(2)、三维调节架(10)、吸附组件和负压组件，所述竖直挡板(2)设置在所述底座(1)上，所述竖直挡板(2)的上端朝向所述三维调节架(10)的一侧设有用于固定高速光功率计(13)的定位治具(12)，所述三维调节架(10)滑动设置在所述底座(1)上并位于所述竖直挡板(2)的一侧，且当所述三维调节架(10)滑动至与所述竖直挡板(2)接触设置时，所述吸附组件将所述三维调节架(10)与所述竖直挡板(2)连接固定，且所述定位治具(12)恰好悬空位于所述三维调节架(10)的正上方，所述竖直挡板(2)上表面设...
【技术特征摘要】
1.一种平面波导阵列光栅解复用器的测试制具,其特征在于：包括底座(1)、竖直挡板(2)、三维调节架(10)、吸附组件和负压组件，所述竖直挡板(2)设置在所述底座(1)上，所述竖直挡板(2)的上端朝向所述三维调节架(10)的一侧设有用于固定高速光功率计(13)的定位治具(12)，所述三维调节架(10)滑动设置在所述底座(1)上并位于所述竖直挡板(2)的一侧，且当所述三维调节架(10)滑动至与所述竖直挡板(2)接触设置时，所述吸附组件将所述三维调节架(10)与所述竖直挡板(2)连接固定，且所述定位治具(12)恰好悬空位于所述三维调节架(10)的正上方，所述竖直挡板(2)上表面设有真空吸附治具(11)，所述真空吸附治具(11)的上表面设有用于容纳待测平面波导阵列光栅解复用器(14)的条形槽(1102)，且所述条形槽(1102)内靠近待测平面波导阵列光栅解复用器(14)的反射区(1401)的一端底壁与所述负压组件连通。
2.根据权利要求1所述的平面波导阵列光栅解复用器的测试制具,其特征在于：所述底座(1)上位于所述竖直挡板(2)的一侧设有导轨(3)，所述导轨(3)靠近所述竖直挡板(2)的一端与所述竖直挡板(2)接触设置，所述导轨(3)上滑动设有滑块(8)，所述三维调节架(10)设置在所述滑块(8)上，且所述滑块(8)可带动所述真空吸附治具(11)沿着所述导轨(3)滑动，以靠近或远离所述竖直挡板(2)。
3.根据权利要求2所述的平面波导阵列光栅解复用器的测试制具,其特征在于：所述底板(1)上沿着所述滑块(8)的滑动方向间隔设有用于对所述滑块(8)的形成进行限位的限位柱(4)。
4.根据权利要求3所述的平面波导阵列光栅解复用器的测试制具,其特征在于：当所述滑块(8)滑动至与靠近所述竖直挡板(2)一侧的所述限位柱(4)接触时，所述三维调节架(10)恰好与所述竖直挡板(2)接触。
5.根据权利要求1所述的平面波导阵列光栅解复用器的测试制具,其特征在于：所述吸附组件包括定位柱(5)和磁铁(9)，所述定位柱(5)和磁铁(9)分别设置在所述竖直挡板(2)和所述三维调节架(10)彼此相互靠近一侧表面，且所述三维调节架滑动至(10)与所述竖直挡板(2)接触时，所述磁铁(9)与定位柱(5)接触并吸附连接。
6.根据权利要求1所述的平面波导阵列光栅解复用器的测试制具,其特征在于：所述条形槽(1102)的内靠近所述反射区(1401)的一端延伸...
【专利技术属性】
技术研发人员：余创，黄望隆，
申请(专利权)人：武汉驿路通科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42
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