硝基咪唑类衍生物及其制备和应用制造技术

本发明专利技术涉及硝基咪唑类衍生物及其制备和应用。具体地，本发明专利技术化合物具有式I所示结构，其中各基团和取代基的定义如说明书中所述。本发明专利技术还公开了所述化合物的制备方法及其在预防、缓解和/或治疗厌氧菌感染所引起的疾病方面的用途。

Nitroimidazole derivatives and their preparation and Application

【技术实现步骤摘要】
硝基咪唑类衍生物及其制备和应用
本专利技术涉及医药领域，具体地涉及硝基咪唑类衍生物及其制备和应用，尤其涉及所述衍生物在抗厌氧菌中的应用。
技术介绍
在人类治疗细菌感染性疾病的过程中，由于抗生素的过多使用以及滥用，使得细菌耐药问题日益严重。其中，革兰氏阳性菌的耐药问题尤为严重，例如耐甲氧西林的金黄色葡萄球菌(Methicillin-resistantStaphylococcusaureus，MRSA)、表皮葡萄球菌(Methicillin-resistantStaphylococcusepidermidis，MRSE)、耐青霉素的肺炎链球菌(Penicillin-resistantStreptococcuspneumoniae，PRSP)及耐万古霉素的肠球菌(Vancomycin-resistantEnterococcu，VRE)等，这些耐药菌的出现严重降低了现有药物的疗效，导致患者治疗时间的显著延长和死亡率的提高。厌氧菌(anaerobicbacteria)是一类在无氧条件下生长，而不能在空气(含18％氧气)和/或10％二氧化碳浓度下的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种式I所示化合物、或其异构体、前药、稳定的同位素衍生物、水合物、溶剂化物、或药学上可接受的盐，/n

【技术特征摘要】
1.一种式I所示化合物、或其异构体、前药、稳定的同位素衍生物、水合物、溶剂化物、或药学上可接受的盐，



其中，R1选自取代或未取代的下组基团：氢、氘、C1-C6烷基、C3-C8环烷基、C1-C6烷氧基、C3-C8环烷氧基，所述取代指被选自下组的一个或多个取代基取代：卤素、C1-C6烷基、C3-C8环烷基、C1-C6烷氧基、C3-C8环烷氧基；
L选自下组：L0、L1-M1-L2，其中，L0为-(CRaRb)m-，L1为-(CRaRb)u-，L2为-(CRaRb)v-；其中，m为选自1、2、3、4、5、6的整数，u为选自0、1、2、3、4、5、6的整数，v为选自0、1、2、3、4、5、6的整数；
M1选自下组：-O-、-C(＝O)-、-C(＝O)O-、-OC(＝O)-、-OC(＝O)O-、-N(Rc)-C(＝O)-、-C(＝O)-N(Rc)-、-N(Rc)-C(＝O)-N(Rc)-、-S-、-C(＝S)-、-S(＝O)2-、-N(Rc)-S(＝O)2-、-S(＝O)2-N(Rc)-、-N(Rc)-S(＝O)2-N(Rc)-、-N(Rc)-、-(C2-C6亚烯基)-、-(C2-C6亚炔基)-、-C(＝NH)-、-S(＝O)(＝NCN)-、-S(＝O)(＝NRc)-、-S(＝O)(＝N-S(＝O)2-Rc)-；
Ra、Rb、Rc各自独立地选自取代或未取代的下组基团：氢、氘、卤素、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷氧基、环A、C6-C10芳基、环B、羟基、氨基；或者Ra和Rb与它们共同连接的C原子或N原子一起形成取代或未取代的C3-C8环烷基或环A；环A为含1-3个选自N、S、O的杂原子的3-8元杂环烷基，环B为含1-3个选自N、S、O的杂原子的5-8元杂芳基；所述Ra、Rb、Rc中的取代指被选自下组的一个或多个取代基取代：卤素、羟基、氨基、羧基、氰基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、卤代C1-C6烷基、C3-C8环烷基、卤代C3-C8环烷基、C1-C6烷氧基、卤代C1-C6烷氧基、C3-C8环烷氧基、卤代C3-C8环烷氧基、C1-C6烷基取代的氨基、-M1-Rc、-M1-NRaRb、-NRaRb、-N(Rc)-M1-Rc、-N(Rc)-M1-NRaRb；
R2为取代或未取代的5-15元环结构；
各Ra、Rb、Rc、环A、环B、M1每次出现时独立地相同或不同。


2.如权利要求1所述的化合物、或其异构体、前药、稳定的同位素衍生物、水合物、溶剂化物、或药学上可接受的盐，其特征在于，R2选自取代或未取代的下组基团：单环、并二环、并三环；所述单环选自下组：C3-C8环烷基、环A、苯基、环B；所述并二环选自下组：萘基、苯并C3-C8环烷基、苯并环A、苯并环B、环A并环B、环B并环B、环B并C3-C8环烷基；所述并三环为三个所述单环稠合所成三环结构；
其中，所述R2中的取代指被选自下组的一个或多个取代基取代：卤素、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、卤代C1-C6烷基、C3-C8环烷基、C1-C6烷氧基、卤代C1-C6烷氧基、C3-C8环烷氧基、环C、-L-环C、羟基、氰基、硝基、-M2-Rc、-M2-NRdRe、-M2-N(Rc)-M3-Rc、-NRdRe、-N(Rc)-M3-Rc、-N(Rc)-M3-NRdRe、-P(＝O)(ORc)2、-O-P(＝O)-(ORc)2、-B(ORc)2、＝O；且所述R2中的取代基是未取代的或被选自下组的一个或多个取代基取代：氰基、硝基、-Rc、-M4-Rc、-M4-NRdRe、-M4-N(Rc)-M5-Rc、-NRdRe、-N(Rc)-M5-Rc、-N(Rc)-M5-NRdRe、-N(Rc)-M4-N(Rc)-M5-Rc、-M4-N(Rc)-M5-NRdRe、-P(＝O)(ORc)2、-O-P(＝O)-(ORc)2、-B(ORc)2；
M2、M3、M4、M5各自独立地选自下组：-O-、-C(＝O)-、-C(＝O)O-、-OC(＝O)-、-OC(＝O)O-、-N(Rc)-C(＝O)-、-C(＝O)-N(Rc)-、-N(Rc)-C(＝O)-N(Rc)-、-S-、-C(＝S)-、-S(＝O)2-、-N(Rc)-S(＝O)2-、-S(＝O)2-N(Rc)-、-N(Rc)-S(＝O)2-N(Rc)-、-N(Rc)-、-(C2-C6亚烯基)-、-(C2-C6亚炔基)-、-C(＝NH)-、-S(＝O)(＝NCN)-、-S(＝O)(＝NRc)-、-S(＝O)(＝N-S(＝O)2-Rc)-；
各环C独立选自取代或未取代的下组基团：C3-C8环烷基、C6-C10芳基、环A、环B；
Rc、Rd、Re各自独立地选自取代或未取代的下组基团：氢、氘、卤素、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基、C3-C8环烷基、C3-C8环烷氧基、环A、C6-C10芳基、环B、羟基、氨基；或者Rd和Re与它们共同连接的N原子或C原子一起形成取代或未取代的环A；所述Rc、Rd、Re中的取代指被选自下组的一个或多个取代基取代：卤素、羟基、氨基、羧基、氰基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、卤代C1-C6烷基、C3-C8环烷基、卤代C3-C8环烷基、C1-C6烷氧基、卤代C1-C6烷氧基、C3-C8环烷氧基、卤代C3-C8环烷氧基、C1-C6烷基取代的氨基、-M4-Rc、-M4-NRdRe、-NRdRe、-N(Rc)-M5-Rc、-N(Rc)-M5-NRdRe；
各Rc、Rd、Re、环A、环B、环C、M2、M3、M4、M5每次出现时独立地相同或不同。


3.如权利要求1所述的化合物、或其...

【专利技术属性】
技术研发人员：李兵，
申请(专利权)人：诺沃斯达药业有限公司，
类型：发明
国别省市：河南;41