阵列基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示领域，能够将彩膜制作于阵列基板上，且减少构图次数，降低成本。本发明专利技术的阵列基板制备方法，包括：薄膜晶体管和设置于所述薄膜晶体管之上的彩膜层，所述彩膜层包括：设置于像素区域的单基色色阻块和设置于遮光区域的多基色色阻块，所述单基色色阻块包括一种基色的色阻层，所述多基色色阻块包括多个层叠设置的色阻层，且每一色阻层对应一种基色。

Array substrate and its preparation method and display device

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制备方法、显示装置
本专利技术涉及显示领域，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
液晶显示器因其质量轻、功耗低，辐射小、能大量节省空间等优点，现已取代传统的阴极射线管显示器，广泛应用于各个显示领域，如家庭、公共场所、办公场及个人电子相关产品等。现有液晶面板的制作工艺都是单独制造阵列(Array)基板和彩膜(ColorFilter)基板，然后再将阵列基板和彩膜基板进行对位、成盒(Cell)。但在阵列基板与彩膜基板对位成盒时，由于对位精度的限制，极易出现对位偏差，而对位偏差又会导致漏光、透过率降低等不良；如果将黑矩阵做的足够宽来避免这些问题，又会损失面板的透过率，增加背光成本。目前解决的办法是将彩膜也制作于阵列基板上，该项技术通常称为COA(ColorFilterOnArray)。如图1所示，为现有采用COA技术的高级超维场转换(ADvancedSuperDimensionSwitch，简称ADS)模式的阵列基板的结构示意图。基板10上依次设置栅金属层11、栅绝缘层12、有源层13(半导体层)和源漏金属本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括：薄膜晶体管和设置于所述薄膜晶体管之上的彩膜层，其特征在于，/n所述彩膜层包括：设置于像素区域的单基色色阻块和设置于遮光区域的多基色色阻块，所述单基色色阻块包括一种基色的色阻层，所述多基色色阻块包括多个层叠设置的色阻层，且每一色阻层对应一种基色；/n所述阵列基板还包括：第二透明电极，设置于所述彩膜层上；金属层，设置于所述第二透明电极所在层之上；/n所述金属层包括：位于公共电极线上方非透光区域对应位置，并与所述公共电极线并联的第二公共电极线；位于数据线上方的第一遮蔽部；以及位于栅线上方的第二遮蔽部；/n所述金属层还包括：与隔垫物对应的隔垫物枕。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括：薄膜晶体管和设置于所述薄膜晶体管之上的彩膜层，其特征在于，
所述彩膜层包括：设置于像素区域的单基色色阻块和设置于遮光区域的多基色色阻块，所述单基色色阻块包括一种基色的色阻层，所述多基色色阻块包括多个层叠设置的色阻层，且每一色阻层对应一种基色；
所述阵列基板还包括：第二透明电极，设置于所述彩膜层上；金属层，设置于所述第二透明电极所在层之上；
所述金属层包括：位于公共电极线上方非透光区域对应位置，并与所述公共电极线并联的第二公共电极线；位于数据线上方的第一遮蔽部；以及位于栅线上方的第二遮蔽部；
所述金属层还包括：与隔垫物对应的隔垫物枕。


2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光区域包括薄膜晶体管的对应区域、数据线对应区域、栅线对应区域和阵列基板周边需要遮光的区域。


3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：第一透明电极，设置于所述彩膜层之下。


4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，还包括：钝化层，位于所述第一透明电极所在层和所述彩膜层之间。


5.一种显示装置，其特征在于，包括：权利要求1-4任一项所述的阵列基板。


6.一种阵列基板的制备方法，包括：形成栅金属层的工序，所述栅金属层包括栅线和公共电极线；形成栅绝缘层及有源层的工序；形成源漏金属层的工序，所述源漏金属层包括源极、漏极和数据线；形成第一透明电极的工序；以及，形成钝化层的工序；其特征在于，在形成钝化层的工序之后，还包括：
形成彩膜层...

【专利技术属性】
技术研发人员：余道平，金熙哲，
申请(专利权)人：重庆京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：重庆;50