一种原位在线反射光学测量系统及方法技术方案

本发明专利技术公开了一种原位在线反射光学测量系统及方法，包括：用于提供材料生长环境的材料生长模块和用于实现材料生长原位监测的光学检测模块；所述材料生长模块包括材料生长部，所述材料生长部上设有用于提供入射光和出射光进出路径的窗口；所述光学检测模块包括光源，所述光源发出的光经过传递自所述的窗口入射到样品上，经反射后，出射光自所述窗口射出并被光谱仪收集。本发明专利技术实现了CVD生长设备与光学检测设备的联用，达到了原位、在线、实时、非接触的检测效果；生长设备采用通用的CVD生长设备，对原材料、衬底以及样品没有特殊要求，普适性高，适应性强。

An in-situ on-line reflective optical measurement system and method

【技术实现步骤摘要】
一种原位在线反射光学测量系统及方法
本专利技术涉及光学表征领域及在线测量仪器
，具体涉及一种适用于化学气相沉积法(chemicalvapordeposition,CVD)制备材料的原位在线反射光学测量系统，尤其适用于对材料科学、化学、物理学等领域二维材料制备的在线表征与分析。
技术介绍
本部分的陈述仅仅是提供了与本专利技术相关的
技术介绍
信息，不必然构成在先技术。由于化学气相沉积法制备材料需要高温、惰性气氛等特殊的生长条件，所以目前对于化学气相沉积法制备的二维材料大多数采用离线的方式进行表征。具体来讲，首先采用化学气相沉积法在生长设备(如管式炉等)中制备出材料，将材料从生长设备中取出后，再利用光学显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱等手段进行离线观察和分析。只有少数研究进行了对于化学气相沉积法制备二维材料的原位在线检测的报道。如，2015年Willinger等人介绍了通过环境扫描电子显微镜对原位石墨烯生长观测的研究，但是此表征方法对原材料要求较高，如高真空状态下只能检测导电的固体样品，并不适用于大多数的化学气相沉积法制备；2019年，Su本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种原位在线反射光学测量系统，其特征在于，包括：用于提供材料生长环境的材料生长模块和用于实现材料生长原位监测的光学检测模块；/n所述材料生长模块包括材料生长部，所述材料生长部上设有用于提供入射光和出射光进出路径的窗口；/n所述光学检测模块包括光源，所述光源发出的光经过传递自所述的窗口入射到样品上，经反射后，出射光自所述窗口射出并被光谱仪收集。/n

【技术特征摘要】
1.一种原位在线反射光学测量系统，其特征在于，包括：用于提供材料生长环境的材料生长模块和用于实现材料生长原位监测的光学检测模块；
所述材料生长模块包括材料生长部，所述材料生长部上设有用于提供入射光和出射光进出路径的窗口；
所述光学检测模块包括光源，所述光源发出的光经过传递自所述的窗口入射到样品上，经反射后，出射光自所述窗口射出并被光谱仪收集。


2.如权利要求1所述的一种原位在线反射光学测量系统，其特征在于，所述材料生长部包括管式炉，所述管式炉与气体供应装置和真空泵分别连接；
或者，所述所述管式炉与气体供应装置合常压排气装置分别连接。


3.如权利要求2所述的一种原位在线反射光学测量系统，其特征在于，所述气体供应装置包括：气瓶和气体流量控制器；通过所述气体流量控制器调节气瓶内气体的流速。


4.如权利要求1所述的一种原位在线反射光学测量系统，其特征在于，所述材料生长部内设有第一置物台和第二置物台，分别用于承载原材料和衬底。


5.如权利要求1所述的一种原位在线反射光学测量系统，其特征在于，所述光学检测模块还包括：入射光纤、第一准直镜、第一离轴抛物面镜、第二离轴抛物面镜、第二准直镜和出射光纤；
光源发出的光依次经过入射光纤、第一准直镜和第一离轴抛物面镜，通过所述窗口照射到原材料上；出射光通过所述窗口传出，依次经过第二离轴抛物面镜、第二准直镜和出射光纤进入光谱仪。


6.如权利要求5所述的一种原位...

【专利技术属性】
技术研发人员：张雷，王译那，姜明顺，张法业，隋青美，贾磊，
申请(专利权)人：山东大学，
类型：发明
国别省市：山东;37