一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极制造技术

本实用新型专利技术涉及磁控溅射阴极，公开了一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，其核心部件为磁钢组和磁轭组成的磁路模块，磁钢组通过磁力与磁轭连接，磁路模块包括两个磁钢组，两个磁钢组内的磁钢数量相同且左右对称分布，每侧的磁钢组包括磁路互相闭合的两列磁钢且两列磁钢的磁场方向相互垂直。本实用新型专利技术提供的磁路结构使得磁场提供更多的与靶材平行的磁场分量，能够对靶面进行更大面积的刻蚀，提升了靶材利用率，避免频繁更换靶材，降低开真空室的次数，既可以保证生产的连续性，提高工作效率，也可以改善产品的洁净度；此外，通过水路进行降温，可以有效的避免靶材被熔化。

【技术实现步骤摘要】
一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极
本技术涉及一种矩形磁控溅射阴极，具体涉及一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极。
技术介绍
镀膜是在表面镀上非常薄的薄膜，使其具有耐磨、润滑、导电、光学、装饰等功能。随着人们对产品的追求越来越高，越来越多的物品表面都会镀膜。镀膜最普遍的做法就是通过镀膜机镀膜，而使用较多的就是溅射类镀膜，可以简单的理解为利用离子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，最终沉积在基片表面，最后形成薄膜。如图3所示，目前镀膜行业中使用溅射类镀膜的通常是三道磁钢的磁控溅射阴极，受限于其工作原理，靶材利用率非常低，大概在20％，如图4所示，这样就导致大量的材料浪费；同时，靶材利用率低还会导致设备需要频繁的更换靶材，大大影响生产效率。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，可以有效解决
技术介绍
中的问题。为实现上述目的，本技术采取的技术方案为：一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，其核心部件为磁钢组和磁轭组成的磁路模块，磁钢组通过磁力与磁轭连接，一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，其核心部件为磁钢组(2)和磁轭(1)组成的磁路模块，磁钢组(2)通过磁力与磁轭(1)连接，其特征在于：一个磁路模块(5)包括两个磁钢组(2)，两个磁钢组(2)的磁钢数量相同且左右对称分布，每侧的磁钢组(2)包括磁路互相闭合的两列磁钢且两列磁钢的磁场方向不平行。/n

【技术特征摘要】
20181031 CN 20182178342921.一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，其核心部件为磁钢组(2)和磁轭(1)组成的磁路模块，磁钢组(2)通过磁力与磁轭(1)连接，其特征在于：一个磁路模块(5)包括两个磁钢组(2)，两个磁钢组(2)的磁钢数量相同且左右对称分布，每侧的磁钢组(2)包括磁路互相闭合的两列磁钢且两列磁钢的磁场方向不平行。


2.根据权利要求1所述的一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，其特征在于：两列磁钢的磁场方向相互垂直。


3.根据权利要求1所述的一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，其特征在于：还包括安装法兰(3)，安装法兰(3)的顶部外侧设有阳极(4)，磁路模块(5)位于两...

【专利技术属性】
技术研发人员：王志刚，张奇龙，王连之，李伟，
申请(专利权)人：中核包头核燃料元件股份有限公司，杭州朗为科技有限公司，
类型：新型
国别省市：内蒙;15