用于放置喷嘴的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种用于放置喷嘴的装置，其能够对喷嘴进行单独清洗，能够减少清洗液的使用量，避免不同的喷嘴之间的交叉污染，且能够预防多种光刻胶混合后发生反应形成结晶而堵塞排液管的情况发生，降低清洗腔及排液管的清洗频率；同时，喷嘴不需要移动就可以清洗，提高了设备的利用率，降低了生产成本；另外，在喷嘴闲置时，在清洗腔中可存放清洗液，利用清洗液的挥发，保证喷嘴闲置时也能够时刻处于湿润的状态，避免光刻胶在所述喷嘴上结晶，从而避免喷嘴被污染。

Device for nozzle placement

【技术实现步骤摘要】
用于放置喷嘴的装置
本技术涉及半导体设备领域，尤其涉及一种用于放置喷嘴的装置。
技术介绍
光刻胶涂布设备的光刻胶喷嘴只有在涂胶的时候使用，不使用时会固定放置在喷嘴室(Nozzlebath)内。光刻胶主要成分是树脂、光致酸产生剂、中和光致酸的碱性中和剂以及添加剂，但绝大部分是溶剂(solvent)，而溶剂极易挥发。如果光刻胶喷嘴长时间不处于湿润的环境中，光刻胶中的溶剂就会挥发，导致光刻胶喷嘴里光刻胶特性改变，在光刻胶喷嘴上产生结晶，而污染光刻胶喷嘴。为防止光刻胶喷嘴长期不使用而造成污染，光刻胶涂布设备会定期将光刻胶喷嘴一个一个的移动到清洗室(solventbath)里进行清洗。每个涂胶单元只有一个清洗室，所有光刻胶喷嘴长期在一个清洗室内进行清洗，会造成光刻胶喷嘴的交叉污染，同时还会造成清洗液的浪费，增加生产成本。同时，长期混合清洗会使得含有多种光刻胶的废液在排液管(Drain管)壁结晶，造成排液管堵塞，则排液管的清洗周期频率被提高，降低了光刻胶涂布设备的利用率。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是，提供一种用于放置喷嘴的装置，其能够避免喷嘴的交叉污染及清洗液的浪费，且能够降低清洗腔的清洗频率，提高设备的利用率，大大降低生产成本。为了解决上述问题，本技术提供了一种用于放置喷嘴的装置，其包括至少一喷嘴室，所述喷嘴室包括：一容纳腔，其允许一喷嘴插入：一清洗腔，设置在所述容纳腔底部，且与所述容纳腔连通，所述清洗腔内能够放置一清洗液，所述清洗腔具有一进液口及一排液口，所述进液口允许所述清洗液进入所述清洗腔，并喷向所述喷嘴，以清洗所述喷嘴，所述排液口允许所述清洗液自所述清洗腔排出。进一步，在与所述喷嘴插入的方向垂直的方向上，所述清洗腔的宽度大于所述容纳腔的宽度。进一步，在沿所述喷嘴插入的方向上，所述清洗腔的高度小于所述容纳腔的高度。进一步，在沿所述喷嘴插入的方向上，所述清洗腔的高度高于所述喷嘴需要清洗的部分的长度。进一步，所述进液口设置在所述清洗腔的侧壁。进一步，所述排液口设置在所述清洗腔的底部。进一步，所述喷嘴室还包括一进液管，所述进液管的一端与所述进液口连通，所述进液管的另一端与一清洗液源连通，以将清洗液导入所述清洗腔内。进一步，所述喷嘴室还包括一排液管，所述排液管的一端与所述排液口连通，所述排液管的另一端与一回收系统连通，以将清洗液自所述清洗腔排至所述回收系统。进一步，所述用于放置喷嘴的装置包括多个喷嘴室，所述喷嘴室的排液管经同一总排液管与所述回收系统连通。进一步，所述排液管还具有一阀门，以控制所述排液管的开启与关闭。本技术的优点在于，每一个喷嘴室均具有一清洗腔，多个喷嘴室的清洗腔彼此独立，能够对喷嘴进行单独清洗，从而能够减少清洗液的使用量，避免不同的喷嘴之间的交叉污染；且能够预防多种光刻胶混合后发生反应形成结晶而堵塞排液管的情况发生，降低清洗腔及排液管的清洗频率；同时，喷嘴不需要移动就可以清洗，提高了设备的利用率，降低了生产成本；另外，在喷嘴闲置时，在清洗腔中可存放清洗液，利用清洗液的挥发，保证喷嘴闲置时也能够时刻处于湿润的状态，避免光刻胶在所述喷嘴上结晶，从而避免喷嘴被污染。附图说明图1是本技术用于放置喷嘴的装置的结构示意图；图2是本技术用于放置喷嘴的装置的截面示意图。附图标记说明：1、喷嘴室；10、容纳腔；11、清洗腔；11A、进液口；11B、排液口；12、进液管；13、排液管；14、总排液管；15、阀门；X、喷嘴插入的方向；Y、与喷嘴插入的方向垂直的方向。具体实施方式下面结合附图对本技术提供的用于放置喷嘴的装置的具体实施方式做详细说明。图1是本技术用于放置喷嘴的装置的结构示意图，图2是本技术用于放置喷嘴的装置的截面示意图。请参阅图1及图2，本技术用于放置喷嘴的装置包括至少一喷嘴室1。在本实施例中，所述用于放置喷嘴的装置包括四个喷嘴室1。在本技术其他实施例中，所述用于放置喷嘴的装置可以包括一个喷嘴室，也可以包括多个喷嘴室，本技术对此不限定。所述喷嘴室1包括一容纳腔10及一清洗腔11。所述容纳腔10允许一喷嘴(附图中未绘示)插入，以保护所述喷嘴，避免所述喷嘴受到外界环境的破坏。也就是说，所述喷嘴能够插入所述容纳腔10内。其中，可通过一固定装置固定所述喷嘴，以使所述喷嘴相对于所述容纳腔10静止。所述喷嘴的固定方式为本领域的常规技术手段，在此不再进行说明。所述清洗腔11设置在所述容纳腔10的底部，且与所述容纳腔10连通。具体的说，在沿所述喷嘴插入的方向上(如图中箭头Y所示)，所述容纳腔10与所述清洗腔11依次放置。其中，所述清洗腔11具有一进液口11A及一排液口11B。所述进液口11A允许清洗液进入所述清洗腔11，并喷向所述喷嘴，以清洗所述喷嘴；所述排液口11B允许清洗液自所述清洗腔11排出。具体的说，在本实施例中，所述进液口11A设置在所述清洗腔11的侧壁，以便于所述清洗液自所述进液口11A喷向所述喷嘴，进而清洗所述喷嘴；所述排液口11B设置在所述清洗腔11的底部，以便于所述清洗液的充分排出。其中，所述喷嘴可置于所述容纳腔10内，所述清洗液自所述进液口11A喷向所述喷嘴，以清洗所述喷嘴；所述喷嘴还可以经所述容纳腔10进入所述清洗腔11中，所述清洗液自所述进液口11A喷向所述喷嘴，以清洗所述喷嘴。所述喷嘴不必全部插入所述清洗腔11中，以避免清洗腔11中残留的清洗液浸泡所述喷嘴。自所述进液口11A喷向所述喷嘴的清洗液的体积可根据所述喷嘴喷射的光刻胶的特性及所述喷嘴的使用情况进行设置。本技术用于放置喷嘴的装置的每一个喷嘴室均具有一清洗腔，多个喷嘴室的清洗腔彼此独立，能够对喷嘴进行单独清洗，从而能够减少清洗液的使用量，避免不同的喷嘴之间的交叉污染；且能够预防现有技术中的多种光刻胶混合后发生反应形成结晶而堵塞排液管的情况发生，降低清洗腔及排液管的清洗频率；同时，喷嘴不需要移动就可以清洗，提高了设备的利用率，降低了生产成本；另外，当所述喷嘴不使用时，其也可实时处于清洗液的环境中，从而保证喷嘴处于洁净状态。进一步，在本实施例中，在与所述喷嘴插入的方向垂直的方向上(如图中箭头X所示)，所述清洗腔11的宽度大于所述容纳腔10的宽度；在沿所述喷嘴插入的方向上(如图中箭头Y所示)，所述清洗腔11的高度小于所述容纳腔10的高度。在本技术其他实施例中，所述容纳腔10的高度及宽度、所述清洗腔11的高度及宽度及所述容纳腔10与所述清洗腔11的高度及宽度的相对关系可根据实际需求进行设置。进一步，在本实施例中，所述喷嘴室1还包括一进液管12。所述进液管12的一端与所述进液口11A连通，所述进液管12的另一端与一清洗液源(附图中未绘示)连通，以将清洗液导入所述清洗腔11内。其中，多个喷嘴室1的进液管12彼此独立，则可单独控制进入所述清洗腔11内的清洗液的体积，从而能够根本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于放置喷嘴的装置，其特征在于，包括至少一喷嘴室，所述喷嘴室包括：/n一容纳腔，其允许一喷嘴插入：/n一清洗腔，设置在所述容纳腔底部，且与所述容纳腔连通，所述清洗腔内能够放置一清洗液，所述清洗腔具有一进液口及一排液口，所述进液口允许所述清洗液进入所述清洗腔，并喷向所述喷嘴，以清洗所述喷嘴，所述排液口允许所述清洗液自所述清洗腔排出。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于放置喷嘴的装置，其特征在于，包括至少一喷嘴室，所述喷嘴室包括：
一容纳腔，其允许一喷嘴插入：
一清洗腔，设置在所述容纳腔底部，且与所述容纳腔连通，所述清洗腔内能够放置一清洗液，所述清洗腔具有一进液口及一排液口，所述进液口允许所述清洗液进入所述清洗腔，并喷向所述喷嘴，以清洗所述喷嘴，所述排液口允许所述清洗液自所述清洗腔排出。


2.根据权利要求1所述的用于放置喷嘴的装置，其特征在于，在与所述喷嘴插入的方向垂直的方向上，所述清洗腔的宽度大于所述容纳腔的宽度。


3.根据权利要求1所述的用于放置喷嘴的装置，其特征在于，在沿所述喷嘴插入的方向上，所述清洗腔的高度小于所述容纳腔的高度。


4.根据权利要求1所述的用于放置喷嘴的装置，其特征在于，所述进液口设置在所述清洗腔的侧壁。


5.根据权利要求1所述的用...

【专利技术属性】
技术研发人员：张海陆，王立聪，颜廷彪，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32