成像光学系统、取像装置及电子装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种成像光学系统、取像装置及电子装置。成像光学系统从物侧至像侧依序包括具有正屈折力的第一透镜、具有负屈折力的第二透镜、具有正屈折力的第三透镜和具有屈折力的第四透镜。第一透镜的物侧面为凸面，像侧面为凹面。第二透镜的物侧面为凹面，像侧面为凹面或平面。第三透镜的物侧面为凹面，像侧面为凸面。第四透镜的物侧面及像侧面为非球面，且其物侧面与像侧面中至少一面包含至少一反曲点。成像光学系统满足以下条件：TTL/Imgh≤0.75。本发明专利技术实施方式的成像光学系统通过上述四枚透镜的合理搭配，既满足超短超薄的要求，又满足高像素的需求，同时具有大光圈、大视场角的特点。

【技术实现步骤摘要】
成像光学系统、取像装置及电子装置
本专利技术涉及光学成像
，特别涉及一种成像光学系统、取像装置及电子装置。
技术介绍
随着芯片技术的发展，应用于成像光学系统的芯片的像素尺寸越来越小，成像光学系统逐渐往高像素及小型化趋势发展。传统搭载于电子装置上的成像光学系统，多采用三片式的透镜结构。然而，现有的三片式透镜组无法满足高像素以及高成像品质的需求。
技术实现思路
本专利技术实施方式提供一种成像光学系统、取像装置及电子装置。本专利技术实施方式的成像光学系统从物侧至像侧依序包括具有正屈折力的第一透镜、具有负屈折力的第二透镜、具有正屈折力的第三透镜和具有屈折力的第四透镜。所述第一透镜的物侧面为凸面，像侧面为凹面。所述第二透镜的物侧面为凹面，像侧面为凹面或平面。所述第三透镜的物侧面为凹面，像侧面为凸面。所述第四透镜的物侧面及像侧面为非球面，且其物侧面与像侧面中至少一面包含至少一反曲点。所述成像光学系统满足以下条件：TTL/Imgh≤0.75；其中，TTL为所述第一透镜的物侧面至成像面于光轴上的距离，Imgh为所述成像光学系统本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统从物侧至像侧依序包括：/n第一透镜，具有正屈折力，其物侧面为凸面，其像侧面为凹面；/n第二透镜，具有负屈折力，其物侧面为凹面，其像侧面为凹面或平面；/n第三透镜，具有正屈折力，其物侧面为凹面，其像侧面为凸面；/n第四透镜，具有屈折力，其物侧面及像侧面为非球面，且所述第四透镜的物侧面与所述第四透镜的像侧面中至少一面包含至少一反曲点；/n所述成像光学系统满足以下条件：/nTTL/Imgh≤0.75；/n其中，TTL为所述第一透镜的物侧面至成像面于光轴上的距离，Imgh为所述成像光学系统的最大成像高度。/n

【技术特征摘要】
1.一种成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统从物侧至像侧依序包括：
第一透镜，具有正屈折力，其物侧面为凸面，其像侧面为凹面；
第二透镜，具有负屈折力，其物侧面为凹面，其像侧面为凹面或平面；
第三透镜，具有正屈折力，其物侧面为凹面，其像侧面为凸面；
第四透镜，具有屈折力，其物侧面及像侧面为非球面，且所述第四透镜的物侧面与所述第四透镜的像侧面中至少一面包含至少一反曲点；
所述成像光学系统满足以下条件：
TTL/Imgh≤0.75；
其中，TTL为所述第一透镜的物侧面至成像面于光轴上的距离，Imgh为所述成像光学系统的最大成像高度。


2.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统满足以下条件：
TTL/Imgh≤0.68。


3.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统满足以下条件：
CT2/∑CT≥0.15；
其中，CT2为所述第二透镜的中心厚度，∑CT为所述第一透镜、所述第二透镜、所述第三透镜、所述第四透镜的中心厚度的总和。


4.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统满足以下条件：
T12/TD≥0.05；
其中，T12为所述第一透镜与所述第二透镜之间的空气间隙，TD为所述第一透镜的物侧面至所述第四透镜的像侧面于光轴上的距离。


5.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统满足以下条件：
|R2/R3|<1；
其中，R2为所述第一透镜的像侧面的曲率半径，R3为所述第二透镜的物侧面...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹海荣，俞炳泽，兰宾利，
申请(专利权)人：南昌欧菲精密光学制品有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36