粘合剂制品及其制造和使用方法技术

本发明专利技术公开了一种粘合剂制品，其包括设置在基底的相应的相对的第一主表面和第二主表面上的第一粘性潜在粘合剂层和第二粘性潜在粘合剂层。所述第一粘性潜在粘合剂层和所述第二粘性潜在粘合剂层中的每一者独立地包含至少一种可聚合组分；和氧化还原引发剂体系，所述氧化还原引发剂体系包含参与氧化还原循环的过渡金属络合物；氧化剂；和由式(I)表示的封端还原剂。

Adhesive products and methods of manufacture and use

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】粘合剂制品及其制造和使用方法
本公开广义上涉及粘合剂制品、其制造方法及其使用方法。
技术介绍
高强度粘结带已存在于商业市场中多年。这些胶带通常在膜或泡沫芯的相对侧上具有强力压敏粘合剂的粘合剂层。例如，由明尼苏达州圣保罗的3M公司(3MCompany,SaintPaul,Minnesota)销售的3MVHB胶带和片材是一系列高强度压敏双面粘合剂制品，其允许在多种条件下快速长期地粘结到多种表面。VHB家族包括4900、5900和RP系列高强度胶带。通常，VHB胶带和片材由丙烯酸泡沫粘合剂构成，在一侧或两侧上具有衬垫。这种类型的粘合剂制品对许多基底具有超强粘附力，并且可能需要精确地初始放置胶带，不具有移除和重新放置的能力。
技术实现思路
有利的是，根据本公开的粘合剂制品在暴露于光化辐射之后通常表现出延长的开放时间，其中对基底相对较低的初始粘附力可允许移除和重新放置粘合剂制品，然后随着时间的推移粘附力增加，直到最终实现高水平的粘附性。在第一方面，本公开提供了一种粘合剂制品，所述粘合剂制品包括：具有相对的第一主表面和第二主表面的基底；第一粘性潜在粘合剂层和第二粘性潜在粘合剂层，其设置在所述基底的相应的相对的第一主表面和第二主表面上，其中所述第一粘性潜在粘合剂层和所述第二粘性潜在粘合剂层中的每一者独立地包含：至少一种可聚合组分，和氧化还原引发剂体系，其包含：参与氧化还原循环的过渡金属络合物；氧化剂；以及由下式表示的封端还原剂>其中R1和R2中的每一者独立地为H、烷基、芳基、或RPhoto，前提条件是R1和R2中的至少一者是RPhoto；RPhoto表示光可去除基团；R3和R4中的每一者独立地表示H、烷基基团或包含单价酯、醚、氨基甲酸酯或碳酸酯基团的芳基基团。根据本公开的粘合剂制品可为例如胶带、片材或垫圈。在第二方面，本公开提供一种制造粘合剂制品的方法，所述方法包括：将第一粘性潜在粘合剂层和第二粘性潜在粘合剂层设置在基底的相应的相对的第一主表面和第二主表面上，其中所述第一粘性潜在粘合剂层和所述第二粘性潜在粘合剂层独立地包含：至少一种可聚合组分，和氧化还原引发剂体系，其包含：参与氧化还原循环的过渡金属络合物；氧化剂；以及由下式表示的封端还原剂其中R1和R2中的每一者独立地为H、烷基、芳基、或RPhoto，前提条件是R1和R2中的至少一者是RPhoto；RPhoto表示光可去除基团；R3和R4中的每一者独立地表示H、烷基基团或包含单价酯、醚、氨基甲酸酯或碳酸酯基团的芳基基团。在又一方面，本公开提供一种使用根据本公开的粘合剂制品的方法，所述方法包括：将所述第一粘性潜在粘合剂层和所述第二粘性潜在粘合剂层暴露于光化电磁辐射，以提供暴露的第一粘性潜在粘合剂层和第二粘性潜在粘合剂层；以及使所述暴露的第一粘性潜在粘合剂层和第二粘性潜在粘合剂层与相应的第一粘附体和第二粘附体接触。如本文所用：术语“光化辐射”是指能够被暴露于它的组合物吸收，并且从而引起至少一种化学反应或转化发生的波长的电磁辐射；术语“封端还原剂”是指直到移除封端基团才充当还原剂的化合物；术语“(甲基)丙烯酰基”是指“丙烯酰基和/或甲基丙烯酰基”；并且术语“光可去除基团”意指可通过暴露于光化辐射，任选地利用一个或多个后续的化学步骤来移除的基团。在考虑具体实施方式以及所附权利要求书时，将进一步理解本公开的特征和优点。附图说明图1为根据本公开的一个实施方案的示例性粘合剂制品100的示意性侧视图。图2为根据本公开的另一实施方案的示例性粘合剂制品200的示意性侧视图。结合附图来考虑本公开的以下各个实施方案的详细描述可以更全面地理解本公开。应当理解，本领域的技术人员可以设计出许多落入本公开原理的范围内及符合本公开原理的实质的其它修改形式和实施方案。附图可以不按比例绘制。具体实施方式现在参照图1，示例性粘合剂制品100包括具有第一主表面112的基底110。第一粘性潜在粘合剂层120设置在第一主表面112上。任选的第一剥离衬垫130可释放地粘附到与基底110相对的第一粘性潜在粘合剂层120。第二粘性潜在粘合剂层122设置在与第一主表面112相对的第二主表面114上。任选的第二剥离衬垫132可释放地粘附到第二粘性潜在粘合剂层122。现在参照图2，替代的示例性粘合剂制品200包括具有第一主表面112的基底110。第一粘性潜在粘合剂层120设置在第一主表面112上。剥离衬垫230的第一主表面234可释放地粘附到与基底110相对的第一粘性潜在粘合剂层120。第二粘性潜在粘合剂层122设置在与第一主表面112相对的第二主表面114上。剥离衬垫230的第二主表面236可释放地粘附到第二粘性潜在粘合剂层122。在此实施方案中，第二主表面236/第二粘性潜在粘合剂层122粘结通常比第一主表面234/第一粘性潜在粘合剂层120粘结强，以便允许干净展开。第一粘性潜在粘合剂层和第二粘性潜在粘合剂层包含至少一种可聚合组分和氧化还原自由基引发剂体系，所述引发剂体系包括与氧化剂和还原剂一起(在将所述封端基团解封/光去除之后)参与氧化还原循环的过渡金属络合物，氧化剂和下文通式I的封端还原剂：其中：R1和R2中的每一者独立地为H、烷基、芳基、或RPhoto，前提条件是R1和R2中的至少一者是RPhoto；RPhoto为光可去除基团；并且R3和R4中的每一者独立地表示H、烷基基团或包含酯、醚、氨基甲酸酯或碳酸酯官能团中的至少一种的芳基基团。例如，R3和R4可以是烷基-NHC(＝O)-、烷基-O-或芳基-C(＝O)-O-。在一些实施方案中，R3和R4可诸如通过形成缩酮或缩醛基团来共同形成五元或六元环。在一些优选的实施方案中，R3和R4中的至少一者包含C12-C30烷基链，其包括酯、醚、氨基甲酸酯、碳酸酯官能团以赋予还原剂在可聚合组分中的溶解性和/或可混溶性。可使用在暴露于光化电磁辐射时裂解或分裂以释放还原剂的任何光可去除基团。例如，参考皮特·克兰等人，化学和生物学中光可去除的保护基团：反应机制和效率，《化学评论》，2013，第113卷，第119-191页(PetrKlanetal.,PhotoremovableProtectingGroupsinChemistryandBiology:ReactionMechanismsandEfficiency,ChemicalReviews,2013,vol.113,pp.119-191)和雅各·维兹等人，光可去除的保护基团：反应机制和应用，《光化学和光生物学科学》，2002，第1卷，第441-458页(JacobWirzetal.,PhotoremovableProtectingGro本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种粘合剂制品，所述粘合剂制品包括：/n具有相对的第一主表面和第二主表面的基底；/n第一粘性潜在粘合剂层和第二粘性潜在粘合剂层，其设置在所述基底的相应的相对的第一主表面和第二主表面上，其中所述第一粘性潜在粘合剂层和所述第二粘性潜在粘合剂层中的每一者独立地包含：/n至少一种可聚合组分，和/n氧化还原引发剂体系，其包含：/n参与氧化还原循环的过渡金属络合物；/n氧化剂；以及/n由下式表示的封端还原剂/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170524 US 62/510,3631.一种粘合剂制品，所述粘合剂制品包括：
具有相对的第一主表面和第二主表面的基底；
第一粘性潜在粘合剂层和第二粘性潜在粘合剂层，其设置在所述基底的相应的相对的第一主表面和第二主表面上，其中所述第一粘性潜在粘合剂层和所述第二粘性潜在粘合剂层中的每一者独立地包含：
至少一种可聚合组分，和
氧化还原引发剂体系，其包含：
参与氧化还原循环的过渡金属络合物；
氧化剂；以及
由下式表示的封端还原剂



其中
R1和R2中的每一者独立地为H、烷基、芳基、或RPhoto，前提条件是R1和R2中的至少一者是RPhoto；
RPhoto表示光可去除基团；
R3和R4中的每一者独立地表示H、烷基基团或包含单价酯、醚、氨基甲酸酯或碳酸酯基团的芳基基团。


2.根据权利要求1所述的粘合剂制品，其中所述基底包含丙烯酸核心。


3.根据权利要求1所述的粘合剂制品，其中所述第一粘性粘合剂层和所述第二粘性粘合剂层具有相同组成。


4.根据权利要求1所述的粘合剂制品，还包括可释放地粘附到所述第一粘性潜在粘合剂层的第一剥离衬垫。


5.根据权利要求4所述的粘合剂制品，其中所述第二粘性潜在粘合剂层与所述第一粘性潜在粘合剂层相对可释放地粘附到所述第一剥离衬垫，并且其中所述粘合剂制品包括辊。


6.根据权利要求4所述的粘合剂制品，还包括可释放地粘附到所述第二粘性潜在粘合剂层的第二剥离衬垫。


7.根据权利要求1所述的粘合剂制品，其中所述光可去除基团RPhoto选自苯甲酰甲基基团、2-烷基苯甲酰甲基基团、亚乙基桥接的苯甲酰甲基基团、对羟基苯甲酰甲基基团、单价苯偶姻基团、邻或对硝基苄基基团、邻-硝基-2-苯乙基氧基羰基基团、香豆素-4-基-甲基基团、苄基基团、邻或对羟基苄基基团、邻或对羟基萘基基团、2,5-二羟基苄基基团、9-苯基噻吨酮基基团、9-苯基呫吨基基团、蒽醌-2-基基团、8-卤基-7-羟喹啉-2-基-甲基基团和单价O,O-二(新戊酰基)乙二醇基团。


8.根据权利要求1所述的粘合剂制品，其中所述过渡金属络合物由下式表示：
[MLp]n+A-，其中M为参与氧化还原循环的过渡金属，
L为配体，
A-为阴离子，
n为所述过渡金属上整数值为1至7的形式电荷，并且
p为所述过渡金属上数值为1至9的配体的数目。


9.根据权利要求8所述的粘合剂制品，其中M选自Cu、Fe、Ru、Cr、Mo、Pd、Ni、Pt、Mn、Rh、Re、Co、V、Au、Nb和Ag。


10.根据权利要求1所述的粘合剂制品，其中基于所述至少一种可聚合组分的100重量份计，所述氧化还原引发剂体系以0.1重量份至10重量份的量存在于所述第一粘性潜在粘合剂层中。


11.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：E·M·汤森，S·R·拉纳德，W·H·莫泽，K·S·谢弗，M·A·克洛普，J·塞斯，R·E·贝灵，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US