用于汽化器的液体原材料供应单元制造技术

液体原材料供应单元适于对汽化器供应液体原材料。该单元包括：集管，其内形成有流动通道；和多个流体控制阀，它们安装在集管上且包括：液体原材料控制阀；清洗溶液控制阀；吹扫气体控制阀；和第一引入控制阀，它可连接到汽化器上，用于控制从流动通道到汽化器的流体供应，吹扫气体控制阀、清洗溶液控制阀、液体原材料控制阀、和第一引入控制阀从集管的上游侧按此顺序安装在集管上。流动通道分别连接那些控制阀的阀口，这些阀口与相应控制阀的阀开口连通，而且流动通道构造成允许从吹扫气体控制阀供应来的吹扫气体直接在设置于吹扫气体控制阀下游的清洗溶液控制阀和液体原材料控制阀的阀口中流动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于向汽化器供应液体原材料的用于汽化器的液体原材料供应单元。
技术介绍
近年来，诸如DRAM(动态随机存取存储器)和FeRAM(铁电随机存取存储器)之类的利用电容器的半导体存储器装置和嵌入式存储器LSI已经需要高集成度的设计。响应于这样的需求，必须采用高介电常数的材料用于半导体的制造。高介电材料通常以液体形式加以采用。因此，在许多情况下，要将液体原材料供应到汽化器中，液体原材料在该汽化器中被汽化，而且将该汽化气体供应到反应器。因此，该过程需要用于将该液体原材料供应到汽化器中的液体原材料供应管路。如果液体原材料残留在液体原材料管路和汽化器中，可能会导致将要沉积在管路和汽化器中的反应产物。这样的沉积易于引起各种问题；例如，它们成为粒子产生源，导致较低的产率，它们阻塞控制阀和管路管道，或者它们阻塞汽化器的喷嘴。为了避免这些问题，在向汽化器供应液体原材料之后，液体原材料供应管路通常要进行清洗过程。在清洗过程中，用清洗溶液(通过液体-液体置换)对残留在管路管道和汽化器中的液体原材料进行清洗或洗涤，然后通过吹扫气体(通过液体-气体置换)从管路管道和汽化器去除清洗溶液。上述液本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于汽化器的液体原材料供应单元，该液体原材料供应单元适于对用于汽化液体原材料的该汽化器供应液体原材料，该单元包括：　　　　集管，该集管在内部形成有流动通道；和　　　　多个流体控制阀，所述多个流体控制阀安装在所述集管上，　　　　其中所述多个流体控制阀包括：　　　　液体原材料控制阀，该液体原材料控制阀用于控制对所述流动通道供应液体原材料；　　　　清洗溶液控制阀，该清洗溶液控制阀用于控制对所述流动通道供应清洗溶液；　　　　吹扫气体控制阀，该吹扫气体控制阀用于控制对所述流动通道供应吹扫气体；和　　　　第一引入控制阀，该第一引入控制阀可连接到汽化器上，用于控制从所述流动通道到所述汽化器的流体供应，　...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈部庸之，大仓成幸，土居广树，伊藤稔，森洋司，西村康典，
申请(专利权)人：喜开理株式会社，东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]