触摸屏及其制作方法技术

本发明专利技术提供一种触摸屏及其制造方法。触摸屏包括阵列基板，所述阵列基板包括薄膜封装层、绝缘层、第一金属层、钝化层、第二金属层和平坦层。所述钝化层上设有过孔，所述第一金属层对应所述过孔的位置设有一凹陷，所述第二金属层延伸并穿过所述过孔且进一步延伸至所述第一金属层的凹陷内并于第一金属层电连接。触摸屏的制作方法包括步骤：提供一阵列基板、制作绝缘层、制作第一金属层、制作钝化层、制作第二金属层和制作平坦层。本发明专利技术利用挖孔蚀刻，加大了两层金属层的接触面积，降低了方块电阻，使连接强度增加且改善了弯折性能。

Touch screen and its making method

【技术实现步骤摘要】
触摸屏及其制作方法
本专利技术涉及触控领域，尤其涉及一种触摸屏及其制作方法。
技术介绍
随着显示技术的快速发展，有源矩阵有机发光二极体(AMOLED)柔性显示引起了人们极大关注，包括全面屏、可弯折，甚至可折叠，固定曲线形状的手机在未来市场会被广泛应用。柔性显示技术可以改变显示器件的形状，增加了显示的灵活性和多样性,因此有望为显示
带来重大变革。金属网格(Metalmesh)技术利用银、铜等金属材料在玻璃或聚乙二醇对苯二甲酸酯(PET)等塑胶薄膜上生长形成导电金属网格图案。金属网格的电阻率比氧化铟锡(ITO)低，通常氧化铟锡(ITO)的方块电阻(R□)目标值为10Ω时，其方块电阻的实际数值范围在8-12Ω之间，而金属网格的方块电阻小于10Ω/□，可以实现卷对卷生产，且网格的抗弯折性良好，可用于柔性折叠器件。Y-OCTA技术被三星开发且运用在柔性触控显示技术上，该设计利用金属网格直接在薄膜封装(TFE)上做触控线路，大大减少了原有外挂触摸屏(TP)和光学透明粘合剂(OCA)的厚度，使触控更薄更利于弯折。其利用碳纳米管(CNT)工艺连接上下两层金属形成网格用于柔性触控，但碳纳米管工艺使金属间阻抗加大，使得触控精度降低，影响整体柔性触控性能。因此，有必要提供一种新的触摸屏及其制作方法，以克服现有技术中存在的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种触摸屏及其制作方法，利用挖孔蚀刻，加大了两层金属层的接触面积，改善了碳纳米管的阻抗性能，从而提升了金属网格在连接处的可靠性能，并提升触控性能，而且在连接处采用加宽设计改善了柔性动态弯折性能。为了解决上述问题，本专利技术提供一种触摸屏，包括阵列基板。所述阵列基板包括薄膜封装层、绝缘层、第一金属层、钝化层、第二金属层和平坦层。具体地讲，所述绝缘层设于所述薄膜封装层上；所述第一金属层设于所述绝缘层上；所述钝化层设于所述第一金属层上；所述第二金属层设于所述钝化层上；所述平坦层设于所述第二金属层上。其中，所述第一金属层包括多个电极跨桥，所述第二金属层包括多个触控电极和金属走线；所述触控电极包括第一电极以及第二电极，所述第一电极与所述第二电极相互绝缘，相邻的所述第一电极沿第一方向通过所述电极跨桥电连接，相邻的第二电极沿与所述第一方向交叉的第二方向通过所述金属走线电连接；所述钝化层上设有多个过孔，所述过孔从所述钝化层临近所述第二金属层的第一电极表面朝向所述第一金属层的电极跨桥两端形成一内径逐渐减小的孔状结构，所述电极跨桥对应所述过孔的位置进一步凹设有一凹陷，所述第一电极延伸并穿过所述过孔且进一步延伸至所述电极跨桥的凹陷内并与所述第一电极电连接。进一步地，所述过孔的宽度范围为1.4um-1.6um。进一步地，所述过孔的侧壁与所述过孔的底边的垂线呈15°-30°的角。进一步地，所述凹陷的底部于所述第一金属层厚度的1/2处。进一步地，所述第一金属层或所述第二金属层包括层叠设置的第一钛金属层、铝金属层和第二钛金属层。具体的，所述铝金属层设于所述第一钛金属层的一侧；所述第二钛金属层设于所述铝金属层背离所述第一钛金属层的一侧。进一步地，所述第一金属层或所述第二金属层包括纳米银线。本专利技术还提供一种触摸屏的制作方法，包括步骤：提供一阵列基板，所述阵列基板包括薄膜封装层；在所述薄膜封装层上制作绝缘层；在所述绝缘层上制作第一金属层，所述第一金属层包括多个电极跨桥；在所述第一金属层上制作钝化层；在所述钝化层上设置过孔；在所述第一金属层对应过孔的位置进一步凹设一凹陷；在所述钝化层上制作第二金属层，所述第二金属层包括多个触控电极和金属走线，所述触控电极包括第一电极以及第二电极，所述第一电极与所述第二电极相互绝缘，相邻的所述第一电极沿第一方向通过所述电极跨桥电连接，相邻的第二电极沿与所述第一方向交叉的第二方向通过所述金属走线电连接；其中所述过孔从所述钝化层临近所述第二金属层的第一电极表面朝向所述第一金属层的电极跨桥两端形成一内径逐渐减小的孔状结构，所述电极跨桥对应所述过孔的位置进一步凹设有一凹陷，所述第一电极延伸并穿过所述过孔且进一步延伸至所述电极跨桥的凹陷内并与所述第一电极电连接；以及在所述第二金属层上制作平坦层。进一步地，所述过孔的宽度范围为1.4um-1.6um。进一步地，所述过孔的侧壁与所述过孔的底边的垂线呈15°-30°的角。进一步地，所述凹陷的底部位于所述第一金属层厚度的1/2处。本专利技术的有益效果是：本专利技术提供一种触摸屏及其制作方法，利用挖孔蚀刻，加大了两层金属层的接触面积，降低了方块电阻，提升了金属网格在连接处的可靠性能，使连接强度增加，并提升触控性能，而且在连接处采用加宽的设计改善了柔性动态弯折性能。附图说明图1为本专利技术实施例中一种触摸屏的截面图；图2为图1中所述第一金属层或所述第二金属层的一种结构示意图；图3为图1中所述过孔和所述凹陷的结构局部放大图；图4为本专利技术实施例中一种触摸屏的制作方法的流程图；图5为本专利技术实施例中一种触摸面板的结构示意图。图中部件标识如下：1、薄膜封装层，2、绝缘层，3、第一金属层，4、钝化层，5、第二金属层，6、平坦层，7、偏光片，8、过孔，9、凹陷，10、阵列基板，11、第一钛金属层，12、铝金属层，13、第二钛金属层，20、液晶层，30、彩膜基板，31、电极跨桥，51、触控电极，52、金属走线，511、第一电极，100、触摸屏，200、触摸面板。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1所示，本专利技术提供一种触摸屏100，包括阵列基板10。所述阵列基板10包括薄膜封装层1、绝缘层2、第一金属层3、钝化层4、第二金属层5、平坦层6和偏光片7。具体地讲，所述绝缘层2设于所述薄膜封装层1上；所述第一金属层3呈网格式设于所述绝缘层2上；所述钝化层4设于所述第一金属层3上；所述第二金属层5呈网格式设于所述钝化层4上；所述平坦层6设于所述第二金属层5上，所述平坦层6用于覆盖所述第二金属层5使其表面平整；所述偏光片7设于所述平坦层6上，用于偏光。其中所述绝缘层2、所述钝化层4、所述平坦层6均起到绝缘的作用。其中，所述第一金属层3包括多个电极跨桥31，所述第二金属层5包括多个触控电极51和金属走线52；所述触控电极51包括第一电极511以及第二电极(未图示)，所述第一电极511与所述第二电极相互绝缘，相邻的所述第一电极511沿第一方向通过所述电极跨桥31电连接，相邻的第二电极沿与所述第一方向交叉的第二方向通过与所述第二电极同层的所述金属走线52电连接。换句本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触摸屏，其特征在于，所述触摸屏包括阵列基板，所述阵列基板包括：/n薄膜封装层；/n绝缘层，设于所述薄膜封装层上；/n第一金属层，设于所述绝缘层上；/n钝化层，设于所述第一金属层上；/n第二金属层，设于所述钝化层上；以及/n平坦层，设于所述第二金属层上；/n其中，所述第一金属层包括多个电极跨桥，所述第二金属层包括多个触控电极和金属走线；所述触控电极包括第一电极以及第二电极，所述第一电极与所述第二电极相互绝缘，相邻的所述第一电极沿第一方向通过所述电极跨桥电连接，相邻的第二电极沿与所述第一方向交叉的第二方向通过所述金属走线电连接；所述钝化层上设有多个过孔，所述过孔从所述钝化层临近所述第二金属层的第一电极表面朝向所述第一金属层的电极跨桥两端形成一内径逐渐减小的孔状结构，所述电极跨桥对应所述过孔的位置进一步凹设有一凹陷，所述第一电极延伸并穿过所述过孔且进一步延伸至所述电极跨桥的凹陷内并与所述第一电极电连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种触摸屏，其特征在于，所述触摸屏包括阵列基板，所述阵列基板包括：
薄膜封装层；
绝缘层，设于所述薄膜封装层上；
第一金属层，设于所述绝缘层上；
钝化层，设于所述第一金属层上；
第二金属层，设于所述钝化层上；以及
平坦层，设于所述第二金属层上；
其中，所述第一金属层包括多个电极跨桥，所述第二金属层包括多个触控电极和金属走线；所述触控电极包括第一电极以及第二电极，所述第一电极与所述第二电极相互绝缘，相邻的所述第一电极沿第一方向通过所述电极跨桥电连接，相邻的第二电极沿与所述第一方向交叉的第二方向通过所述金属走线电连接；所述钝化层上设有多个过孔，所述过孔从所述钝化层临近所述第二金属层的第一电极表面朝向所述第一金属层的电极跨桥两端形成一内径逐渐减小的孔状结构，所述电极跨桥对应所述过孔的位置进一步凹设有一凹陷，所述第一电极延伸并穿过所述过孔且进一步延伸至所述电极跨桥的凹陷内并与所述第一电极电连接。


2.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述过孔的宽度范围为1.4um-1.6um。


3.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述过孔的侧壁与所述过孔的底边的垂线呈15°-30°的角。


4.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述凹陷的底部位于所述第一金属层厚度的1/2处。


5.根据权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，所述第一金属层或所述第二金属层包括：
第一钛金属层；
铝金属层，设于所述第一钛金属层的一侧；以及
第二钛金属层，设于所述铝金属层背离所述第一钛金属层的...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢铭，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42