触控装置制造方法及图纸

一种触控装置，包含阵列基板、显示介质层、滤光基板、触控电极层、以及遮蔽电极层。显示介质层位于阵列基板上。滤光基板位于显示介质层上，对应于阵列基板，滤光基板定义出主动区及周边区，周边区环绕主动区。触控电极层位于滤光基板上。遮蔽电极层位于滤光基板与显示介质层之间，且遮蔽电极层向滤光基板的垂直投影是位于周边区中，并围绕主动区。通过设置遮蔽电极层，在向滤光基板的垂直投围绕主动区的布局方式，达到遮蔽的效果，大幅降低触控装置在主动区边缘的噪声问题，而提升了触控的灵敏度及精确性。

touch device

A touch device comprises an array substrate, a display medium layer, a filter substrate, a touch electrode layer and a mask electrode layer. The display media layer is located on the array substrate. The filter substrate is located on the display medium layer, corresponding to the array substrate. The filter substrate defines the active area and the surrounding area, and the surrounding area surrounds the active area. The touch electrode layer is located on the filter substrate. The shield electrode layer is located between the filter substrate and the display medium layer, and the vertical projection of the shield electrode layer to the filter substrate is located in the surrounding area and around the active area. By setting the shielding electrode layer, the vertical projection around the active area of the filter substrate can achieve the shielding effect, greatly reduce the noise problem of the touch device at the edge of the active area, and improve the sensitivity and accuracy of the touch control.

【技术实现步骤摘要】
触控装置
本专利技术涉及电子电机领域，尤其涉及一种触控装置。
技术介绍
传统的触控面板，其具有触控层、以及作为显示功能的阵列电极及共用电极，由于在面板四周与面板中央电极的布局不相同，容易造成电场不均。因此，在信号传送时，容易有噪声产生。这些现象，尤其在触控面板的主动区(显示区)的周边特别明显，噪声较大，而干扰到触控的灵敏度。特别在使用触控笔操作时，这些噪声会导致明显的灵敏度失效，而造成触控操作上的不便。
技术实现思路
有鉴于此，在此提供一种触控装置。触控装置包含阵列基板、显示介质层、滤光基板、触控电极层、以及遮蔽电极层。显示介质层位于阵列基板上。滤光基板位于显示介质层上，对应于阵列基板，滤光基板定义出主动区及周边区，周边区环绕主动区。触控电极层位于滤光基板上。遮蔽电极层，位于滤光基板与显示介质层之间，且遮蔽电极层向滤光基板的垂直投影是位于周边区中，并围绕主动区。在一些实施例中，遮蔽电极层向滤光基板的垂直投影与主动区之间的间距至少一像素。进一步地，在一些实施例中，间距为30至700μm。在一些实施例中，遮蔽电极层向滤光基板的垂直投影与滤光基板的边缘之间为第一间距，阵列基板包含下基板及阵列电极层，阵列电极层位于下基板及显示介质层之间，阵列电极层至下基板的垂直投影至边缘的距离为第二间距，第一间距小于第二间距。进一步地，在一些实施例中，遮蔽电极层向滤光基板的垂直投影与滤光基板的边缘切齐。在另一些实施例中，触控电极层至滤光基板边缘的距离为第三间距，第一间距小于第三间距。>在一些实施例中，滤光基板包含上基板及平坦层，平坦层位于上基板及显示介质层之间，且遮蔽电极层位于平坦层与显示介质层之间。进一步地，阵列基板包含下基板及阵列电极层，阵列电极层位于下基板及显示介质层之间，遮蔽电极层电性连接至阵列电极层中的接地电极或共用电极。在一些实施例中，滤光基板包含上基板及平坦层，平坦层位于上基板及显示介质层之间，且遮蔽电极层位于上基板及平坦层之间。在一些实施例中，遮蔽电极层包含第一侧边、第二侧边、第三侧边及第四侧边，第一侧边位于第二侧边的相对侧，第三侧边位于第四侧边的相对侧，且第三侧边及第四侧边分别连接第一侧边及第二侧边。进一步地，在一些实施例中，第一侧边、第二侧边、第三侧边及第四侧边中至少两个的宽度不相同。在一些实施例中，遮蔽电极为铟锡氧化物(IndiumTinOxide，ITO)或金属。在一些实施例中，遮蔽电极层为实心结构。而在另一些实施例中，遮蔽电极层包含多个第一狭缝。进一步地，在一些实施例中，阵列基板包含下基板及阵列电极层，阵列电极层位于下基板及显示介质层之间。更进一步地，在一些实施例中，阵列电极层包含多个第二狭缝，且第二狭缝的形状与第一狭缝的形状相同。进一步地，触控装置还包含触控笔，触控笔产生触控信号，触控信号与触控电极层相互感应。综上所述，通过在滤光基板与显示介质层之间，在垂直投影于在滤光基板的周边区的位置设置遮蔽电极层。遮蔽电极层向滤光基板的垂直投影，可以围绕主动区，从而达到遮蔽的效果，大幅降低触控装置在主动区边缘的噪声问题，而提升了触控的灵敏度及精确性。以下在实施方式中详细叙述本专利技术的详细特征及优点，其内容足以使任何熟习相关技艺者了解本专利技术的
技术实现思路
并据以实施，且根据本说明书所公开的内容、权利要求及附图，任何熟习相关技艺者可轻易地理解本专利技术相关的目的及优点。附图说明图1为触控装置第一实施例的剖面示意图。图2为触控装置第一实施例的局部俯视图。图3为触控装置第一实施例的局部剖面示意图。图4为触控装置第二实施例的局部剖面示意图。图5A为触控装置第三实施例的局部剖面示意图。图5B为触控装置第四实施例的局部剖面示意图。图6为触控装置第五实施例的局部剖面示意图。图7为触控装置第六实施例的局部俯视图。图8A为触控装置第五实施例的局部剖面示意图。图8B为图8A中共用电极/接地电极的单元图案。图8C为图8A中遮蔽电极的单元图案。附图标记说明：1触控装置10阵列基板11下基板13阵列电极层131接地电极/共用电极133第一绝缘层135像素电极层137第二绝缘层150第二狭缝155第二电极图案160连接线路S触控信号20显示介质层30滤光基板31上基板321主动区323周边区33平坦层35滤光层40触控电极层50遮蔽电极层511第一侧边512第二侧边513第三侧边514第四侧边550第一狭缝555第一电极图案61上偏光片63下偏光片70保护盖板200触控笔d1横向间距d2纵向间距D1第一间距D2第二间距D3第三间距A主动区F外框线路区82金球84银或铝具体实施方式在附图中，为了清楚起见，放大了部分元件、区域等的宽度。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。应当理解，当诸如元件被称为在另一元件“上”或“连接到”另一元件时，其可以直接在另一元件上或与另一元件连接，或者中间元件可以也存在。相反，当元件被称为“直接在另一元件上”或“直接连接到”另一元件时，不存在中间元件。应当理解，尽管术语“第一”、“第二”、“第三”等在本文中可以用于描述各种元件、部件、区域、或部分，但是这些元件、部件、区域、及/或部分不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件、部件、区域、或部分与另一个元件、部件、区域、层或部分区分开。因此，下面讨论的“第一元件”、“部件”、“区域”、或“部分”可以被称为第二元件、部件、区域、或部分而不脱离本文的教导。此外，诸如“下”或“底部”和“上”或“顶部”的相对术语可在本文中用于描述一个元件与另一元件的关系，如图所示。应当理解，相对术语旨在包括除了图中所示的方位之外的装置的不同方位。例如，如果一个附图中的装置翻转，则被描述为在其他元件的“下”侧的元件将被定向在其他元件的“上”侧。因此，示例性术语“下”可以包括“下”和“上”的取向，取决于附图的特定取向。类似地，如果一个附图中的装置翻转，则被描述为在其它元件“下方”的元件将被定向为在其它元件“上方”。因此，示例性术语“下面”或“下面”可以包括上方和下方的取向。图1为触控装置第一实施例的剖面示意图。图2为触控装置第一实施例的局部俯视图。如图1所示，触控装置1包含阵列基板10、显示介质层20、滤光基板30、触控电极层40以及遮蔽电极层50。显示介质层20位于阵列基板10上。滤光基板30位于显示介质层20上，且对应于阵列基板10，滤光基板30定义出主动区321及周边区323，周边区323环绕主动区321。触控电极层40位于滤光基板30上。遮蔽电极层50位于滤光基板30与显示介质层20之间，且遮蔽电极层50朝向滤光基板30的垂直投影，位于周边区323，并围绕主动区321。在此，显示介质层20可以为液晶、蓝相液晶本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触控装置，包含：/n一阵列基板；/n一显示介质层，位于该阵列基板上；/n一滤光基板，位于该显示介质层上，对应于该阵列基板，该滤光基板定义出一主动区及一周边区，该周边区环绕该主动区；/n一触控电极层，位于该滤光基板上；以及/n一遮蔽电极层，位于该滤光基板与该显示介质层之间，且该遮蔽电极层向该滤光基板的垂直投影，位于该周边区，并围绕该主动区。/n

【技术特征摘要】
20190130 TW 1081036421.一种触控装置，包含：
一阵列基板；
一显示介质层，位于该阵列基板上；
一滤光基板，位于该显示介质层上，对应于该阵列基板，该滤光基板定义出一主动区及一周边区，该周边区环绕该主动区；
一触控电极层，位于该滤光基板上；以及
一遮蔽电极层，位于该滤光基板与该显示介质层之间，且该遮蔽电极层向该滤光基板的垂直投影，位于该周边区，并围绕该主动区。


2.如权利要求1所述的触控装置，其中该遮蔽电极层向该滤光基板的垂直投影与该主动区之间的一间距至少一像素。


3.如权利要求2所述的触控装置，其中该间距为30至700μm。


4.如权利要求1所述的触控装置，其中该遮蔽电极层向该滤光基板的垂直投影与该滤光基板的边缘之间为一第一间距，该阵列基板包含一下基板及一阵列电极层，该阵列电极层位于该下基板及该显示介质层之间，该阵列电极层与该下基板的边缘的距离为一第二间距，该第一间距小于该第二间距。


5.如权利要求4所述的触控装置，其中该遮蔽电极层向该滤光基板的垂直投影与该滤光基板的边缘切齐。


6.如权利要求4所述的触控装置，其中该触控电极层至该滤光基板边缘的距离为一第三间距，该第一间距小于该第三间距。


7.如权利要求1所述的触控装置，其中该滤光基板包含一上基板及一平坦层，该平坦层位于该上基板及该显示介质层之间，且该遮蔽电极层位于该平坦层与该显示介质层之间。


8.如权利要求7所述的触控...

【专利技术属性】
技术研发人员：林韦霖，邱孝豪，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;TW