一种触摸屏制备方法技术

本发明专利技术公开了一种触摸屏制备方法，包括溴化银凹印制板，曝光显影，丝印导电图案，组合，绑定，贴合等步骤，本发明专利技术通过将纳米级溴化银浆料凹印导电膜膜材后制备溴化银膜材，再利用溴化银曝光分解为银单质和溴单质的作用，将溴化银膜材转化为由单质银网格线组成的透明导电膜材，相对于纳米银膜材和ITO膜材，显著降低触摸屏方阻，相较3D打印打印铜线，则可显著降低导电线的宽度，降低大尺寸触摸屏制作时导电线过粗对视觉效果产生的影响，并可降低大尺寸触摸屏生产的成本。

A preparation method of touch screen

The invention discloses a touch screen preparation method, which comprises the steps of silver bromide concave printed board, exposure development, silk screen conductive pattern, combination, binding, lamination, etc. the silver bromide film material is prepared after the nano-sized silver bromide slurry concave conductive film material, and then the silver bromide film material is transformed into a single silver mesh by the function of decomposing the silver bromide exposure into a single silver substance and a single bromine substance Compared with nano silver film and ITO film, the transparent conductive film composed of grid can significantly reduce the square resistance of touch screen. Compared with 3D printing copper wire, it can significantly reduce the width of wire, reduce the impact of wire Coarseness on the visual effect when making large-scale touch screen, and reduce the production cost of large-scale touch screen.

【技术实现步骤摘要】
一种触摸屏制备方法
本专利技术涉及触控
，特别涉及一种触摸屏制备方法。
技术介绍
目前，在触控领域，其中重要的一种触摸屏结构就是“盖板+膜结构”，特别是在大尺寸(43寸以上)，而在曲面屏上更是只有这种结构；目前所用的膜材有：ITO、纳米银、金属网格铜和3D打印铜线。简单说一下目前以上几种膜材情况：ITO膜材，方阻基本做到80Ω以上，适合用于小于20寸的触摸屏；纳米银膜材，用的是纳米级的银丝，涂布成网状的形式；方阻最低只可做到30Ω，用于目前大尺寸产品，但成本相对于3D打印铜线偏高。3D打印铜线，利用3D打印的技术，根据触摸所需打印出所需的铜线，拥有成本低，方阻低的优势，但目前可以做到最细的铜线约8μm以上，常规是12μm；这么粗的铜线是人肉眼容易看到(人眼可辨识的宽度约6μm左右)，从而影响整机外观效果。金属网格铜，用的是铜模，经过曝光、显影工艺形成纳米级网状铜丝；然后再根据触摸所需蚀刻成对应的触摸通道，拥有同纳米银一样的外观看不见金属线、方阻低的优势；但金属网格铜成本比纳米银更加高。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题：利用溴化银的技术，做到比纳米银膜材更低的成本和方阻，同时又不会出现3D打印铜线那样的影响外观效果的问题，在不影响使用者外观效果，实现降低成品，提高触摸功能体验效果。为解决上述技术问题，本专利技术提供以下的技术方案：一种触摸屏制备方法，具体步骤如下：(1)避光条件下，将溴化银浆料以凹版转印制成2～5μm线宽的溴化银膜材，膜材上的溴化银线条分布为网状的形式，网格的密度根据方阻以及透光效果所需调整；(2)把溴化银膜材经过曝光，然后再经过水洗显影，把多余的溴去掉，剩下所需要的银网格线，形成一张由单质银网格线组成的透明导电膜材；(3)利用干法或者湿法的蚀刻工艺蚀刻线路和边缘银浆走线，通道里为网格状的银线把整个通道连通形成完整的通道，最后形成触摸所需的触摸图案即得触摸功能片；(4)触摸功能片通过边缘银浆引线接到IC处理器进行组合和绑定，涂刷光学胶后与盖板玻璃粘结贴合即得触摸屏。优选地，所述干法的蚀刻方式为光斑直径0.035mm的激光镭射蚀刻，所述湿法蚀刻方式为一次黄光工艺。优选地，所述溴化银浆料由透明光学胶和溴化银组成，溴化银浓度为20～50wt％。优选地，所述曝光强度为1000～10000Lx，曝光时间30～60s。优选地，所述网格的密度与方阻和透光效果均成反比。一种触摸屏，由上述一种触摸屏制备方法制备获得。本专利技术获得的有益效果：本专利技术通过将纳米级溴化银浆料凹印导电膜膜材后制备溴化银膜材，在利用溴化银曝光分解为银单质和溴单质的作用，将溴化银膜材转化为由单质银网格线组成的透明导电膜材，相对于纳米银膜材和ITO膜材，显著降低触摸屏方阻，相较3D打印打印铜线，则可显著降低导电线的宽度，降低大尺寸触摸屏制作时导电线过粗对视觉效果产生的影响，并可降低大尺寸触摸屏生产的成本。附图说明图1溴化银凹印网格示意图。图2湿法蚀刻感应图案及边缘银浆后的触摸功能片示意图。具体实施方式下面通过对实施例的描述，对本专利技术的具体实施方式作进一步详细的说明，以帮助本领域的技术人员对本专利技术的专利技术构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。实施例1：按如下方法制备60英寸触摸屏：一、原料的预制溴化银浆料的制备：避光环境下，将溴化银固体研磨成粉，粉末平均粒径300nm，按溴化银浓度为20wt％将溴化银粉末加入韩国元化学OCR光学透明胶中，充分搅拌后避光保存备用。二、触摸屏的制备：(1)避光条件下，将溴化银浆料以凹版转印制成2μm线宽的溴化银膜材，膜材上的溴化银线条分布为网状的形式，网格的密度与方阻和透光效果均成反比，本实施例中网格密度为200目，方阻为1.89Ω/sq，透光率92％。(2)把溴化银膜材经过曝光，曝光强度为1000Lx，曝光时间30s，然后再经过纯水水洗显影，把多余的溴去掉，剩下所需要的银网格线，形成一张由单质银网格线组成的透明导电膜材，如图1所示；(3)利用湿法蚀刻方式蚀刻银浆线路和边缘银浆走线，湿法蚀刻方式为一次黄光工艺，湿法蚀刻后的图案见图2；湿法蚀刻采用SEMITOOL半导体湿法蚀刻机进行黄光曝光，酸液蚀刻操作，蚀刻酸液的配制比例如下：HCl(30-35％)：H2O(纯水)＝20：35(体积比)HCl(30-35％)：H2O(纯水)＝20：29(质量比)质量比浓度约为16.4％，摩尔浓度约为4.71mol/L，配制方法：取浓HCl慢慢加入纯水中边搅拌边加入)。配好后酸碱滴定测定蚀刻酸液的浓度，在上述浓度范围内方可使用。补充液量的计算：补加量为(使用查考配加药量计算)：VNaOH为蚀刻后槽液消耗标准氢氧化钠的体积(ml)。(4)通道里为网格状的银线把整个通道连通形成完整的通道，最后形成触摸所需的触摸图案即得触摸功能片；(5)触摸功能片通过边缘银浆引线接到IC处理器进行组合和绑定，涂刷OCR光学透明胶后与盖板玻璃粘结贴合即得触摸屏。实施例2：按如下步骤制备45英寸触摸屏：一、原料的预制溴化银浆料的制备：避光环境下，将溴化银固体研磨成粉，粉末平均粒径500nm，按溴化银浓度为50wt％将溴化银粉末加入韩国元化学OCR光学透明胶中，充分搅拌后避光保存备用。二、触摸屏的制备：(1)避光条件下，将溴化银浆料以凹版转印制成5μm线宽的溴化银膜材，膜材上的溴化银线条分布为网状的形式，网格的密度与方阻和透光效果均成反比，本实施例中网格密度为400目，方阻为0.68Ω/sq，透光率82％。(2)把溴化银膜材经过曝光，曝光强度为10000Lx，曝光时间30～60s，然后再经过纯水水洗显影，把多余的溴去掉，剩下所需要的银网格线，形成一张由单质银网格线组成的透明导电膜材；(3)干法蚀刻的蚀刻线路图见图，采用LF-PE-SOP033A0盛雄激光雕刻机进行多根平行激光走线的方式蚀刻，加工参数为：速度：2200mm/s功率：50％频率：250-300KHz，光斑直径0.035mm，蚀刻银浆线路和边缘银浆走线，通道里为网格状的银线把整个通道连通形成完整的通道，最后形成触摸所需的触摸图案即得触摸功能片；(4)触摸功能片通过边缘银浆引线接到IC处理器进行组合和绑定，涂刷OCR光学透明胶后与盖板玻璃粘结贴合即得触摸屏。实施例3：按如下步骤制备75英寸触摸屏：一、原料的预制溴化银浆料的制备：避光环境下，将溴化银固体研磨成粉，粉末平均粒径400nm，按溴化银浓度为35wt％将溴化银粉末加入韩国元化学OCR光学透明胶中，充分搅拌后避光保存备用。二、触摸屏的制备：(1)避光条件下，将溴化银浆料以凹版转印制成3.5μm线宽的溴化银膜材，膜材上的溴化银线条分布为网状本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触摸屏制备方法，其特征在于，具体步骤如下：/n(1)避光条件下，将溴化银浆料以凹版转印制成2～5μm线宽的溴化银膜材，膜材上的溴化银线条分布为网状的形式，网格的密度根据方阻以及透光效果所需调整；/n(2)把溴化银膜材经过曝光，然后再经过水洗显影，把多余的溴去掉，剩下所需要的银网格线，形成一张由单质银网格线组成的透明导电膜材；/n(3)利用干法或者湿法的蚀刻工艺蚀刻线路和边缘银浆走线，通道里为网格状的银线把整个通道连通形成完整的通道，最后形成触摸所需的触摸图案即得触摸功能片；/n(4)触摸功能片通过边缘银浆引线接到IC处理器进行组合和绑定，涂刷光学胶后与盖板玻璃粘结贴合即得触摸屏。/n

【技术特征摘要】
1.一种触摸屏制备方法，其特征在于，具体步骤如下：
(1)避光条件下，将溴化银浆料以凹版转印制成2～5μm线宽的溴化银膜材，膜材上的溴化银线条分布为网状的形式，网格的密度根据方阻以及透光效果所需调整；
(2)把溴化银膜材经过曝光，然后再经过水洗显影，把多余的溴去掉，剩下所需要的银网格线，形成一张由单质银网格线组成的透明导电膜材；
(3)利用干法或者湿法的蚀刻工艺蚀刻线路和边缘银浆走线，通道里为网格状的银线把整个通道连通形成完整的通道，最后形成触摸所需的触摸图案即得触摸功能片；
(4)触摸功能片通过边缘银浆引线接到IC处理器进行组合和绑定，涂刷光学胶后与盖板玻璃粘结贴合即得触摸屏。


2.根据权利要求1中...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡川，
申请(专利权)人：芜湖伦丰电子触摸屏产业技术研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34