Described for use in gravure press (1
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于给凹版印刷机的凹版印刷滚筒上墨的上墨系统、包括该上墨系统的凹版印刷机以及给该凹版印刷滚筒上墨的工艺
本专利技术总体上涉及给凹版印刷机的凹版印刷滚筒上墨的系统和方法,该凹版印刷滚筒携带一个或更多个凹版印刷介质。更准确地说,本专利技术涉及用于给这种凹版印刷滚筒上墨的上墨系统、包括这种上墨系统的凹版印刷机以及给这种凹版印刷滚筒上墨的工艺的各种实施例。专利技术背景国际公开号WO2014/131479A1公开了一种用于给凹版印刷机的凹版印刷滚筒上墨的上墨系统,该凹版印刷滚筒携带一个或更多个凹版印刷介质,该上墨系统包括集墨滚筒,该集墨滚筒被设计成与凹版印刷滚筒协作,并且从分布在集墨滚筒圆周的一部分周围的多个上墨装置收集油墨图案,其中至少一个上墨装置(优选地,每个上墨装置)包括与集墨滚筒配合的选择性上墨滚筒,其中选择性上墨印版包括涂层,该涂层被选择性地构造成呈现斥墨部分,并在对应于一个或更多个凹版印刷介质的雕刻区域的位置处执行油墨的选择性转移,该凹版印刷介质将利用由相关联的上墨单元供应的油墨来上墨。公布US4516496A公开了一种用于为凹版印刷滚筒上墨的上墨系统,该上墨系统包括设计成从多个上墨装置收集油墨图案的集墨滚筒,每个上墨装置具有选择性上墨滚筒,该上墨装置分布在集墨滚筒圆周的一部分周围。此外,凹版印刷机在本领域中是已知的,例如从瑞士专利号CH685380A5、欧洲专利公开号EP0406157A1、EP0415881A2、EP0563007A1、EP0873866A1以及国际公开号WO03/0 ...
【技术保护点】
1.一种用于给凹版印刷机(1
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170504 EP 17169509.11.一种用于给凹版印刷机(1I;1IV)的凹版印刷滚筒(8)上墨的上墨系统,所述凹版印刷滚筒(8)携带一个或更多个凹版印刷介质(8a、8b、8c),所述上墨系统包括集墨滚筒(9),所述集墨滚筒(9)被设计成与所述凹版印刷滚筒(8)配合并从多个上墨装置(95;905)收集油墨图案,所述上墨装置(95;905)围绕所述集墨滚筒(9)的圆周的一部分分布,
其中所述上墨装置(95;905)中的至少一个优选每个上墨装置(95;905)包括选择性上墨滚筒(98),所述选择性上墨滚筒(98)与所述集墨滚筒(9)配合并携带选择性上墨印版(90a),所述选择性上墨印版(90a)接收由相关联的上墨单元(96/96a/97;906/906a/910/915)供应的油墨,
其中所述选择性上墨印版(90a)包括涂层(900),所述涂层(900)被选择性地构造成显示出斥墨部分(910),并在对应于所述一个或更多个凹版印刷介质(8a、8b、8c)的雕刻区域的位置(920)处执行油墨的选择性转移,所述雕刻区域将利用由相关联的上墨单元(96/96a/97;906/906a/910/915)供应的油墨来上墨,
其中所述选择性上墨印版(90a)基本上没有显示出凸起,
并且其中所述涂层(900)是:
(i)形成在油墨接受层的顶部或基底的顶部上的斥墨涂层(900),所述斥墨涂层(900)被选择性地去除,特别是激光烧蚀,以在油墨被选择性转移的位置(920)处暴露下面的油墨接受层或基底;或者
(ii)形成在斥墨层的顶部或基底的顶部上的油墨接受涂层,所述油墨接受涂层被选择性地去除,特别是被激光烧蚀,以暴露下面的斥墨层或基底,并在要选择性转移油墨的位置之外形成所述斥墨部分。
2.一种用于给凹版印刷机(1II)的凹版印刷滚筒(8)上墨的上墨系统,所述凹版印刷滚筒(8)携带一个或更多个凹版印刷介质(8a、8b、8c),所述上墨系统包括多个上墨装置(95*),所述上墨装置(95*)围绕所述凹版印刷滚筒(8)的圆周的一部分分布,每个上墨装置(95*)包括模版滚筒(99*),所述模版滚筒(99*)与所述凹版印刷滚筒(8)配合并携带模版印版(99a),所述模版印版(99a)接收由相关联的上墨单元(96*/96a*/97*)供应的油墨,
其中每个模版印版(99a)是包括凸起部分(99A)的凸版,所述凸起部分(99A)对应于所述一个或更多个凹版印刷介质(8a、8b、8c)的雕刻区域,所述雕刻区域将利用由相关联的上墨单元(96*/96a*/97*)供应的油墨来上墨,
并且其中所述上墨装置(95*)中的至少一个优选每个上墨装置(95*)还包括介于所述模版滚筒(99*)和相关联的上墨单元(96*/96a*/97*)之间的选择性上墨滚筒(98*),所述选择性上墨滚筒(98*)携带选择性上墨印版(90a),所述选择性上墨印版(90a)包括涂层(900),所述涂层(900)被选择性地构造成呈现出斥墨部分(910),并且在对应于所述一个或更多个凹版印刷介质(8a、8b、8c)的雕刻区域的位置(920)处执行油墨的选择性转移,所述雕刻区域将利用由相关联的上墨单元(96*/96a*/97*)供应的油墨来上墨,
其中所述选择性上墨印版(90a)基本上没有显示出凸起,
并且其中所述涂层(900)是:
(i)形成在油墨接受层的顶部或基底的顶部上的斥墨涂层(900),所述斥墨涂层(900)被选择性地去除,特别是被激光烧蚀,以在油墨被选择性转移的位置(920)处暴露下面的油墨接受层或基底;或者
(ii)形成在斥墨层的顶部或基底的顶部上的油墨接受涂层,所述油墨接受涂层被选择性地去除,特别是被激光烧蚀,以暴露下面的斥墨层或基底,并在要选择性转移油墨的位置之外形成所述斥墨部分。
3.一种用于给凹版印刷机(1III;1V)的凹版印刷滚筒(8)上墨的上墨系统,所述凹版印刷滚筒(8)携带一个或更多个凹版印刷介质(8a、8b、8c),所述上墨系统包括集墨滚筒(9),所述集墨滚筒(9)被设计成与所述凹版印刷滚筒(8)配合并从多个上墨装置(95**;905*)收集油墨图案,所述上墨装置(95**;905*)围绕所述集墨滚筒(9)的圆周的一部分分布,每个上墨装置(95**;905*)包括模版滚筒(99**),所述模版滚筒(99**)与所述集墨滚筒(9)配合并携带模版印版(99a),所述模版印版(99a)接收由相关联的上墨单元(96**/96a**;906*/906a*/910*/915*)供应的油墨,
其中每个模版印版(99a)是包括凸起部分(99A)的凸版,所述凸起部分(99A)对应于所述一个或更多个凹版印刷介质(8a、8b、8c)的雕刻区域,所述雕刻区域将利用由相关联的上墨单元(96**/96a**;906*/906a*/910*/915*)供应的油墨来上墨,
并且其中所述上墨装置(95**;905*)中的至少一个优选每个上墨装置(95**)还包括介于所述模版滚筒(99**)和相关联的上墨单元(96**/96a**;906*/906a*/910*/915*)之间的选择性上墨滚筒(98**),所述选择性上墨滚筒(98**)携带选择性上墨印版(90a),所述选择性上墨印版(90a)包括涂层(900),所述涂层(900)被选择性地构造成呈现出斥墨部分(910),并且在对应于所述一个或更多个凹版印刷介质(8a、8b、8c)的雕刻区域的位置(920)处执行油墨的选择性转移,所述雕刻区域将利用由相关联的上墨单元(96**/96a**;906*/906a*/910*/915*)供应的油墨来上墨,
其中所述选择性上墨印版(90a)基本上没有显示出凸起,
并且其中所述涂层(900)是:
(i)形成在油墨接受层的顶部或基底的顶部上的斥墨涂层(900),所述斥墨涂层(900)被选择性地去除,特别是被激光烧蚀,以在油墨被选择性转移的位置(920)处暴露下面的油墨接受层或基底;或者
(ii)形成在斥墨层的顶部或基底的顶部上的油墨接受涂层,所述油墨接受涂层被选择性地去除,特别是被激光烧蚀,以暴露下面的斥墨层或基底,并在要选择性转移油墨的位置之外形成所述斥墨部分。
4.根据权利要求1或2所述的上墨系统,其中,向所述选择性上墨印版(90a)供应油墨的所述上墨单元(96/96a/97;96*/96a*/97*)被设计成短上墨单元,所述短上墨单元包括油墨槽(96,96a;96*,96a*),所述油墨槽(96,96a;96*,96a*)具有通过...
【专利技术属性】
技术研发人员:丹尼尔·沙索,艾伦·伍尔奇,安娜·迪米特里杰维奇,约翰尼斯·谢德,
申请(专利权)人:卡巴诺塔赛斯有限公司,
类型:发明
国别省市:瑞士;CH
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