一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备制造技术

本发明专利技术公开了一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其结构包括：旋转底座、控制器、大臂连接座、一号力臂、分离控制器、微调小臂、喷釉枪，旋转底座顶部的壳体与控制器的外壳通过螺栓相固定，大臂连接座垂直安设在旋转底座的顶部并与一号力臂底部的轴体相连接，一号力臂顶部的旋轴与分离控制器的控制电机相连接，分离控制器水平安设在微调小臂的右侧，综上所述，本发明专利技术改进后前期利用气流对内部残留的釉液进行冲撞分离，在气流正常工作后分散的釉液雾化效果提高，避免前期底部残留造成釉液析出过多造成釉层过厚的情况。

A kind of uniform glaze spraying equipment through airflow impedance

The invention discloses a uniform glaze spraying device through air flow impedance, the structure of which comprises a rotating base, a controller, a large arm connecting seat, a No.1 force arm, a separation controller, a fine tuning small arm and a glaze spraying gun. The shell at the top of the rotating base is fixed with the shell of the controller by bolts, and the large arm connecting seat is vertically arranged on the top of the rotating base and is in phase with the shaft at the bottom of the No.1 force arm Connection: the rotating shaft at the top of the No.1 arm is connected with the control motor of the separation controller, and the separation controller is horizontally arranged on the right side of the micro adjustment arm. To sum up, in the early stage after the improvement of the invention, the air flow is used to collide and separate the internal residual glaze liquid, and the atomization effect of the dispersed glaze liquid is improved after the air flow works normally, so as to avoid the excessive separation of the glaze liquid caused by the residue at the bottom in the early stage Too thick layer.

【技术实现步骤摘要】
一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备
本专利技术涉及一种喷釉设备，特别的，是一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备。
技术介绍
喷釉主要是利用喷枪或喷雾器使釉浆雾化喷到坯体表面使其形成釉层并且为了提高表面釉体的硬度需要多次进行喷涂使其具备一定的厚度才能够更加的具有光泽以及硬度防止开裂的情况，但是在喷涂的过程中：由于需要多次喷涂，为了提高操作效率需要将喷枪暂停对附着一段时间的釉层二次喷涂，但是喷枪喷头处会出现一定的釉浆残留，一次喷出后容易造成出料过多的情况，并且压缩空气压力过大，或喷釉角度与距离不适当会对已经粘附的釉层造成影响。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术提供一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备。为了实现上述目的，本专利技术是通过如下的技术方案来实现：一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其结构包括：旋转底座、控制器、大臂连接座、一号力臂、分离控制器、微调小臂、喷釉枪，所述旋转底座顶部的壳体与控制器的外壳通过螺栓相固定，所述大臂连接座垂直安设在旋转底座的顶部并与一号力臂底部的轴体相连接，所述一号力臂顶部的旋轴与分离控制器的控本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其结构包括：旋转底座(1)、控制器(2)、大臂连接座(3)、一号力臂(4)、分离控制器(5)、微调小臂(6)、喷釉枪(7)，其特征在于：/n所述旋转底座(1)顶部的壳体与控制器(2)的外壳通过螺栓相固定，所述大臂连接座(3)垂直安设在旋转底座(1)的顶部并与一号力臂(4)底部的轴体相连接，所述一号力臂(4)顶部的旋轴与分离控制器(5)的控制电机相连接，所述分离控制器(5)水平安设在微调小臂(6)的右侧，所述喷釉枪(7)通过螺栓安设在微调小臂(6)右侧套轴内；/n所述喷釉枪(7)其内部结构包括：匀液喷枪(71)、微动摇臂(72)、釉液罐(73)、配重衔铁(74...

【技术特征摘要】
1.一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其结构包括：旋转底座(1)、控制器(2)、大臂连接座(3)、一号力臂(4)、分离控制器(5)、微调小臂(6)、喷釉枪(7)，其特征在于：
所述旋转底座(1)顶部的壳体与控制器(2)的外壳通过螺栓相固定，所述大臂连接座(3)垂直安设在旋转底座(1)的顶部并与一号力臂(4)底部的轴体相连接，所述一号力臂(4)顶部的旋轴与分离控制器(5)的控制电机相连接，所述分离控制器(5)水平安设在微调小臂(6)的右侧，所述喷釉枪(7)通过螺栓安设在微调小臂(6)右侧套轴内；
所述喷釉枪(7)其内部结构包括：匀液喷枪(71)、微动摇臂(72)、釉液罐(73)、配重衔铁(74)、连接气腔(75)，所述匀液喷枪(71)水平固定在微动摇臂(72)的右侧，并且连接边缘通过密封处理，所述釉液罐(73)通过底部的外螺纹与微动摇臂(72)顶部的内螺纹相咬合，所述配重衔铁(74)通过螺栓紧扣在微动摇臂(72)底部的架体底部，所述连接气腔(75)固定在匀液喷枪(71)的右侧并且内部相通。


2.根据权利要求1所述的一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其特征在于：所述匀液喷枪(71)由扰流腔(711)、同步滑腔(712)、控制气阀(713)、滑动副腔(714)、主腔(715)组成，所述扰流腔(711)焊接固定在同步滑腔(712)的右侧二者形成一体结构，并且内部相通，所述控制气阀(713)紧密嵌套在同步滑腔(712)上部的通孔内，且边缘平齐，所述滑动副腔(714)水平嵌套在主腔(715)的右侧。


...

【专利技术属性】
技术研发人员：王高锋，
申请(专利权)人：王高锋，
类型：发明
国别省市：浙江;33