一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备制造技术

本发明专利技术公开了一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其结构包括：旋转底座、控制器、大臂连接座、一号力臂、分离控制器、微调小臂、喷釉枪，旋转底座顶部的壳体与控制器的外壳通过螺栓相固定，大臂连接座垂直安设在旋转底座的顶部并与一号力臂底部的轴体相连接，一号力臂顶部的旋轴与分离控制器的控制电机相连接，分离控制器水平安设在微调小臂的右侧，综上所述，本发明专利技术改进后前期利用气流对内部残留的釉液进行冲撞分离，在气流正常工作后分散的釉液雾化效果提高，避免前期底部残留造成釉液析出过多造成釉层过厚的情况。

A kind of uniform glaze spraying equipment through airflow impedance

The invention discloses a uniform glaze spraying device through air flow impedance, the structure of which comprises a rotating base, a controller, a large arm connecting seat, a No.1 force arm, a separation controller, a fine tuning small arm and a glaze spraying gun. The shell at the top of the rotating base is fixed with the shell of the controller by bolts, and the large arm connecting seat is vertically arranged on the top of the rotating base and is in phase with the shaft at the bottom of the No.1 force arm Connection: the rotating shaft at the top of the No.1 arm is connected with the control motor of the separation controller, and the separation controller is horizontally arranged on the right side of the micro adjustment arm. To sum up, in the early stage after the improvement of the invention, the air flow is used to collide and separate the internal residual glaze liquid, and the atomization effect of the dispersed glaze liquid is improved after the air flow works normally, so as to avoid the excessive separation of the glaze liquid caused by the residue at the bottom in the early stage Too thick layer.

【技术实现步骤摘要】
一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备
本专利技术涉及一种喷釉设备，特别的，是一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备。
技术介绍
喷釉主要是利用喷枪或喷雾器使釉浆雾化喷到坯体表面使其形成釉层并且为了提高表面釉体的硬度需要多次进行喷涂使其具备一定的厚度才能够更加的具有光泽以及硬度防止开裂的情况，但是在喷涂的过程中：由于需要多次喷涂，为了提高操作效率需要将喷枪暂停对附着一段时间的釉层二次喷涂，但是喷枪喷头处会出现一定的釉浆残留，一次喷出后容易造成出料过多的情况，并且压缩空气压力过大，或喷釉角度与距离不适当会对已经粘附的釉层造成影响。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术提供一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备。为了实现上述目的，本专利技术是通过如下的技术方案来实现：一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其结构包括：旋转底座、控制器、大臂连接座、一号力臂、分离控制器、微调小臂、喷釉枪，所述旋转底座顶部的壳体与控制器的外壳通过螺栓相固定，所述大臂连接座垂直安设在旋转底座的顶部并与一号力臂底部的轴体相连接，所述一号力臂顶部的旋轴与分离控制器的控制电机相连接，所述分离控制器水平安设在微调小臂的右侧，所述喷釉枪通过螺栓安设在微调小臂右侧套轴内，所述喷釉枪其内部结构包括：匀液喷枪、微动摇臂、釉液罐、配重衔铁、连接气腔，所述匀液喷枪水平固定在微动摇臂的右侧，并且连接边缘通过密封处理，所述釉液罐通过底部的外螺纹与微动摇臂顶部的内螺纹相咬合，所述配重衔铁通过螺栓紧扣在微动摇臂底部的架体底部，所述连接气腔固定在匀液喷枪的右侧并且内部相通。作为本专利技术的进一步改进，所述匀液喷枪由扰流腔、同步滑腔、控制气阀、滑动副腔、主腔组成，所述扰流腔焊接固定在同步滑腔的右侧二者形成一体结构，并且内部相通，所述控制气阀紧密嵌套在同步滑腔上部的通孔内，且边缘平齐，所述滑动副腔水平嵌套在主腔的右侧。作为本专利技术的进一步改进，所述防护套管由轴心套管、固定壳体、双向滑轴、携流中管、接连悬架、防护管组成，所述轴心套管垂直贯穿固定壳体的顶部，并且与釉液罐相连接，所述固定壳体的两侧轴心均与双向滑轴相互嵌套固定，所述接连悬架焊接安设在固定壳体底部的中心，所述携流中管横向贯穿双向滑轴的中心与匀液喷枪内部相通，所述防护管设有两个且固定在固定壳体与匀液喷枪连接缝之间。作为本专利技术的进一步改进，所述扰流腔由压力阀板、限压弹环、套环、旋流套圈、引流管组成，所述压力阀板与套环相互嵌套，并且二者夹缝处设有限压弹环，所述，所述套环的内径与旋流套圈的外径大小一致，所述引流管垂直固定在旋流套圈的顶部。作为本专利技术的进一步改进，所述同步滑腔设有两部分，分别固定在滑动副腔与主腔的顶部。作为本专利技术的进一步改进，所述釉液罐设有联通阀，能够与外部的主液罐进行连接。作为本专利技术的进一步改进，所述旋流套圈内部设有螺旋状的风槽。作为本专利技术的进一步改进，所述压力阀板中部为镂空结构。作为本专利技术的进一步改进，所述引流管的风口处于引流管的正上方。本专利技术的有益效果是：针对前期喷釉釉液会出现过多，以及启动初期气流较大会对釉层造成破坏的问题进行改进，对匀液喷腔内部的压力进行控制，通过扰流腔对一开始喷射的气流进行搅乱，使其夹带的釉液的液化效果增强，同时避免一开始的高压直接对釉体进行破坏。综上所述，本专利技术改进后前期利用气流对内部残留的釉液进行冲撞分离，在气流正常工作后分散的釉液雾化效果提高，避免前期底部残留造成釉液析出过多造成釉层过厚的情况。附图说明图1为本专利技术一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备的结构示意图。图2为本专利技术喷釉枪的结构示意图。图3为本专利技术匀液喷枪的结构示意图。图4为本专利技术微动摇臂的结构示意图。图5为本专利技术扰流腔的结构示意图。图6为本专利技术喷液枪两种工作状态下气流结构示意图。图7为本专利技术微动摇臂与配重衔铁的固定的立体结构示意图。图8为本专利技术匀液喷枪的立体结构示意图。图中：旋转底座-1、控制器-2、大臂连接座-3、一号力臂-4、分离控制器-5、微调小臂-6、喷釉枪-7、匀液喷枪-71、微动摇臂-72、釉液罐-73、配重衔铁-74、连接气腔-75、扰流腔-711、同步滑腔-712、控制气阀-713、滑动副腔-714、主腔-715、轴心套管-721、固定壳体-722、双向滑轴-723、携流中管-724、接连悬架-725、防护管-726、压力阀板-7111、限压弹环-7112、套环-7113、旋流套圈-7114、引流管-7115。具体实施方式为使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，图1～图8示意性的显示了本专利技术实施方式的喷釉枪的结构，下面结合具体实施方式，进一步阐述本专利技术。实施例如图1-图8所示，本专利技术提供一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其结构包括：旋转底座1、控制器2、大臂连接座3、一号力臂4、分离控制器5、微调小臂6、喷釉枪7，所述旋转底座1顶部的壳体与控制器2的外壳通过螺栓相固定，所述大臂连接座3垂直安设在旋转底座1的顶部并与一号力臂4底部的轴体相连接，所述一号力臂4顶部的旋轴与分离控制器5的控制电机相连接，所述分离控制器5水平安设在微调小臂6的右侧，所述喷釉枪7通过螺栓安设在微调小臂6右侧套轴内，所述喷釉枪7其内部结构包括：匀液喷枪71、微动摇臂72、釉液罐73、配重衔铁74、连接气腔75，所述匀液喷枪71水平固定在微动摇臂72的右侧，并且连接边缘通过密封处理，所述釉液罐73通过底部的外螺纹与微动摇臂72顶部的内螺纹相咬合，所述配重衔铁74通过螺栓紧扣在微动摇臂72底部的架体底部，所述连接气腔75固定在匀液喷枪71的右侧并且内部相通。作为本专利技术的进一步改进，所述匀液喷枪71由扰流腔711、同步滑腔712、控制气阀713、滑动副腔714、主腔715组成，所述扰流腔711焊接固定在同步滑腔712的右侧二者形成一体结构，并且内部相通，所述控制气阀713紧密嵌套在同步滑腔712上部的通孔内，且边缘平齐，所述滑动副腔714水平嵌套在主腔715的右侧。作为本专利技术的进一步改进，所述防护套管72由轴心套管721、固定壳体722、双向滑轴723、携流中管724、接连悬架725、防护管726组成，所述轴心套管721垂直贯穿固定壳体722的顶部，并且与釉液罐73相连接，所述固定壳体722的两侧轴心均与双向滑轴723相互嵌套固定，所述接连悬架725焊接安设在固定壳体722底部的中心，所述携流中管724横向贯穿双向滑轴723的中心与匀液喷枪71内部相通，所述防护管726设有两个且固定在固定壳体722与匀液喷枪71连接缝之间。作为本专利技术的进一步改进，所述扰流腔711由压力阀板7111、限压弹环7112、套环7113、旋流套圈7114、引流管7115组成，所述压力阀板7111与套环7113相互嵌套，并且二者夹缝处设有限压弹环7112，所述，所述套环7113的内径与旋流套圈7114的外径大小一致，所述引流管7115垂直固定在旋流本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其结构包括：旋转底座(1)、控制器(2)、大臂连接座(3)、一号力臂(4)、分离控制器(5)、微调小臂(6)、喷釉枪(7)，其特征在于：/n所述旋转底座(1)顶部的壳体与控制器(2)的外壳通过螺栓相固定，所述大臂连接座(3)垂直安设在旋转底座(1)的顶部并与一号力臂(4)底部的轴体相连接，所述一号力臂(4)顶部的旋轴与分离控制器(5)的控制电机相连接，所述分离控制器(5)水平安设在微调小臂(6)的右侧，所述喷釉枪(7)通过螺栓安设在微调小臂(6)右侧套轴内；/n所述喷釉枪(7)其内部结构包括：匀液喷枪(71)、微动摇臂(72)、釉液罐(73)、配重衔铁(74)、连接气腔(75)，所述匀液喷枪(71)水平固定在微动摇臂(72)的右侧，并且连接边缘通过密封处理，所述釉液罐(73)通过底部的外螺纹与微动摇臂(72)顶部的内螺纹相咬合，所述配重衔铁(74)通过螺栓紧扣在微动摇臂(72)底部的架体底部，所述连接气腔(75)固定在匀液喷枪(71)的右侧并且内部相通。/n

【技术特征摘要】
1.一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其结构包括：旋转底座(1)、控制器(2)、大臂连接座(3)、一号力臂(4)、分离控制器(5)、微调小臂(6)、喷釉枪(7)，其特征在于：
所述旋转底座(1)顶部的壳体与控制器(2)的外壳通过螺栓相固定，所述大臂连接座(3)垂直安设在旋转底座(1)的顶部并与一号力臂(4)底部的轴体相连接，所述一号力臂(4)顶部的旋轴与分离控制器(5)的控制电机相连接，所述分离控制器(5)水平安设在微调小臂(6)的右侧，所述喷釉枪(7)通过螺栓安设在微调小臂(6)右侧套轴内；
所述喷釉枪(7)其内部结构包括：匀液喷枪(71)、微动摇臂(72)、釉液罐(73)、配重衔铁(74)、连接气腔(75)，所述匀液喷枪(71)水平固定在微动摇臂(72)的右侧，并且连接边缘通过密封处理，所述釉液罐(73)通过底部的外螺纹与微动摇臂(72)顶部的内螺纹相咬合，所述配重衔铁(74)通过螺栓紧扣在微动摇臂(72)底部的架体底部，所述连接气腔(75)固定在匀液喷枪(71)的右侧并且内部相通。


2.根据权利要求1所述的一种通过气流阻抗的均匀喷釉设备，其特征在于：所述匀液喷枪(71)由扰流腔(711)、同步滑腔(712)、控制气阀(713)、滑动副腔(714)、主腔(715)组成，所述扰流腔(711)焊接固定在同步滑腔(712)的右侧二者形成一体结构，并且内部相通，所述控制气阀(713)紧密嵌套在同步滑腔(712)上部的通孔内，且边缘平齐，所述滑动副腔(714)水平嵌套在主腔(715)的右侧。


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【专利技术属性】
技术研发人员：王高锋，
申请(专利权)人：王高锋，
类型：发明
国别省市：浙江;33