一种双面ITO导电膜及触摸屏制造技术

本实用新型专利技术公开了一种双面ITO导电膜，包括玻璃基板，所述玻璃基板的上表面依次向上镀有第一加硬层、第一抗氧化物层、第一ITO层、第一丝网屏蔽层和第一增透层；所述玻璃基板的下表面依次向下镀有第二加硬层、第二抗氧化物层、第二ITO层、第二丝网屏蔽层和第二增透层。本实用新型专利技术通过对透明导电膜膜层结构的创新，实现了多层复合膜的优化组合，大大提高了双面ITO导电膜的性能，本实用新型专利技术提供的双面ITO导电膜具有透过率高，低反射率和低电阻性能，耐候性极强的技术效果。

【技术实现步骤摘要】
一种双面ITO导电膜及触摸屏
本技术涉及触摸屏
，尤其涉及一种双面ITO导电膜及触摸屏。
技术介绍
近年来平面显示领域发展很快，尤其是手机触摸屏，平板电脑触摸屏等多种电子产品的按键方式由传统的机械按键向触控按键方式转变，触摸屏市场需求呈现上升趋势，ITO导电膜作为触摸屏制造中的重要原材料，处于供不应求的状态。而现有的双面ITO导电膜的性能难以满足人们的需求。
技术实现思路
为了解决上述现有技术的不足，本技术提供一种双面ITO导电膜及触摸屏。本技术所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：一种双面ITO导电膜，包括玻璃基板，所述玻璃基板的上表面依次向上镀有第一加硬层、第一抗氧化物层、第一ITO层、第一丝网屏蔽层和第一增透层；所述玻璃基板的下表面依次向下镀有第二加硬层、第二抗氧化物层、第二ITO层、第二丝网屏蔽层和第二增透层。进一步地，所述第一加硬层和第二加硬层为Al2O3薄膜层或ZrO2薄膜层，其厚度为2-30nm。进一步地，所述第一抗氧化物层和第二抗氧化物层均为SnO2薄膜层，厚度均为1-5nm。进一步地，所述第一ITO层和第二ITO层的厚度均为30-50nm。进一步地，所述第一丝网屏蔽层和第二丝网屏蔽层均为不锈钢金属丝网屏蔽层。进一步地，所述第一增透层和第二增透层均为氟化镁薄膜层。进一步地，所述第一增透层和第二增透层的厚度均为40-80nm，可见光折射率均为1.35-1.5。本技术还提供一种触摸屏，其包括上述双面ITO导电膜。本技术具有如下有益效果：本技术通过对透明导电膜膜层结构的创新，实现了多层复合膜的优化组合，大大提高了双面ITO导电膜的性能，本技术提供的双面ITO导电膜具有透过率高，低反射率和低电阻性能，耐候性极强的技术效果。附图说明图1为本技术的结构示意图。图中：1、玻璃基板，2、第一加硬层，3、第一抗氧化物层，4、第一ITO层，5、第一丝网屏蔽层，6、第一增透层，7、第二加硬层，8、第二抗氧化物层，9、第二ITO层，10、第二丝网屏蔽层，11、第二增透层。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。一种双面ITO导电膜，包括玻璃基板，所述玻璃基板的上表面依次向上镀有第一加硬层、第一抗氧化物层、第一ITO层、第一丝网屏蔽层和第一增透层；所述玻璃基板的下表面依次向下镀有第二加硬层、第二抗氧化物层、第二ITO层、第二丝网屏蔽层和第二增透层。该玻璃基板的材质优选为铁离子含量低于200PPM的超白浮法玻璃基板，其在可见光段透过率大于90%。该玻璃基板还可以选用本领域中其他常用的材质。所述第一加硬层和第二加硬层为Al2O3薄膜层或ZrO2薄膜层，其厚度为2-30nm。本技术中，通过增设加硬层，提高了导电膜整体的硬度，使导电膜具有更大的强度和使用寿命。所述第一抗氧化物层和第二抗氧化物层均为SnO2薄膜层，厚度均为1-5nm。本技术中设置抗氧化物层用于进行抗氧化性的保护。第一抗氧化物层和第二抗氧化物层的材料可以为本领域内常见的具有抗氧化性的氧化物材料(即阻隔材料)，例如SnO2等。第一抗氧化物层和第二抗氧化物层的厚度可以根据实际需要进行设定，本技术经过大量实验研究后发现，当厚度为1-5nm时，第一抗氧化物层和第二抗氧化物层与其他层之间具有更好的协同作用，使得双面导电膜具有更好的耐候性能。所述第一ITO层和第二ITO层的厚度均为30-50nm。该种双面ITO导电膜通过设置的ITO层，便利于使玻璃基板具有很好的导电性和透明性，可以切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线。第一丝网屏蔽层和第二丝网屏蔽层均为通用标准件或本领域技术人员知晓的部件，其结构和原理都为本技术人员均可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知。作为优选，所述第一丝网屏蔽层和第二丝网屏蔽层均为不锈钢金属丝网屏蔽层。传统的玻璃基板不具有对有害射线和信号的屏蔽功能，难以满足现在人们的需求。本技术中，通过设置的丝网屏蔽层，起到了屏蔽低频电磁波的功能。所述第一增透层和第二增透层的厚度均为40-80nm，可见光折射率均为1.35-1.5。本技术中，通过增加增透层，射入光在导电膜界面处发生相消干涉，实现该导电膜对可见光透过率的显著提升；特别结合上述的厚度，使得这种相消干涉的发生程度进一步提升，使导电膜在可见光的透过率进一步增强。透过越高，反射色及透过色就会越接近中性色，颜色值就有很大下降，达到工业应用的要求。该所述第一增透层和第二增透层的材质可以为氟化镁薄膜或其它在可见光范围内具有低吸收率及消光系数k≈0的其他增透膜。该增透层的增加，不会对导电膜的导电性能造成影响或影响微小。本技术还提供一种触摸屏，其包括上述双面ITO导电膜。以上所述实施例仅表达了本技术的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本技术专利范围的限制，但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案，均应落在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双面ITO导电膜，包括玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的上表面依次向上镀有第一加硬层、第一抗氧化物层、第一ITO层、第一丝网屏蔽层和第一增透层；所述玻璃基板的下表面依次向下镀有第二加硬层、第二抗氧化物层、第二ITO层、第二丝网屏蔽层和第二增透层。

【技术特征摘要】
1.一种双面ITO导电膜，包括玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的上表面依次向上镀有第一加硬层、第一抗氧化物层、第一ITO层、第一丝网屏蔽层和第一增透层；所述玻璃基板的下表面依次向下镀有第二加硬层、第二抗氧化物层、第二ITO层、第二丝网屏蔽层和第二增透层。2.如权利要求1所述的双面ITO导电膜，其特征在于，所述第一加硬层和第二加硬层为Al2O3薄膜层或ZrO2薄膜层，其厚度为2-30nm。3.如权利要求1所述的双面ITO导电膜，其特征在于，所述第一抗氧化物层和第二抗氧化物层均为SnO2薄膜层，厚度均为1-5nm。4.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：何秀凯，张佳衲，
申请(专利权)人：信利光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44