硬涂薄膜、透明导电性薄膜、透明导电性薄膜层叠体以及图像显示装置制造方法及图纸

技术编号:22469432 阅读:55 留言:0更新日期:2019-11-06 12:23
本发明专利技术涉及硬涂薄膜、透明导电性薄膜、透明导电性薄膜层叠体以及图像显示装置。硬涂薄膜具备透明基材、以及配置在透明基材的厚度方向一侧的硬涂层。硬涂层含有二氧化硅颗粒、氧化锆颗粒、以及树脂,硬涂层中的二氧化硅颗粒的含有比率为0.5质量%以上且低于3.0质量%,硬涂层中的氧化锆颗粒的含有比率为35.0质量%以上且低于70.0质量%。

Hard coating film, transparent conductive film, transparent conductive film stack and image display device

【技术实现步骤摘要】
硬涂薄膜、透明导电性薄膜、透明导电性薄膜层叠体以及图像显示装置
本专利技术涉及硬涂薄膜、透明导电性薄膜、透明导电性薄膜层叠体以及图像显示装置。
技术介绍
迄今为止,在透明基材上以成为期望的电极图案的方式形成有铟锡复合氧化物等透明导电层的透明导电性薄膜被用于触摸面板等光学用途。例如,日本特开2017-62609号公报公开了一种透明导电性薄膜,其依次具备透明树脂薄膜、硬涂层、光学调整层、以及透明导电层。在这种透明导电性薄膜中,为了对透明导电性薄膜赋予耐擦伤性而设置硬涂层,为了使电极图案不会被辨识而设置光学调整层。另外,该透明导电性薄膜中,在PET等机械强度良好的透明基材上层叠有透明导电层。
技术实现思路
然而,近年,从能够使通过电极图案(图案部)的光量与通过电极图案以外的部分(非图案部)的光量之差降低(减半)、容易抑制电极图案的辨识的观点出发,研究了将透明导电性薄膜配置在比偏光薄膜更靠近液晶单元侧(与辨识侧处于相反侧)的图像显示装置。在这样的图像显示装置中,由于通过偏光薄膜的偏光会通过透明导电性薄膜,因此从抑制偏光的消除的观点出发,对于透明基材,需要相位差低的基材(例如零相位差薄膜)。作为这种相位差低的基材薄膜,可列举出环烯烃系树脂。然而,该环烯烃系树脂与PET等相比机械强度差,因此对于弯折会产生容易破裂的不良情况。因此,要求基材破裂的改善。另一方面,为了改善基材破裂而改变硬涂层、光学调整层的配方时,会产生透明导电层的耐擦伤性、图案辨识抑制等达不到期望水平的不良情况。另外,对透明导电性薄膜还要求耐湿热性、图案化性、耐碱性等期望的物性。本专利技术提供可实现抑制基材破裂、并且满足光学用途所要求的各物性的硬涂薄膜、透明导电性薄膜、透明导电性薄膜层叠体以及图像显示装置。本专利技术[1]包括一种硬涂薄膜,其具备透明基材、以及配置在前述透明基材的厚度方向一侧的硬涂层,前述硬涂层含有二氧化硅颗粒、氧化锆颗粒、以及树脂,前述硬涂层中的前述二氧化硅颗粒的含有比率为0.5质量%以上且低于3.0质量%,前述硬涂层中的前述氧化锆颗粒的含有比率为35.0质量%以上且低于70.0质量%。本专利技术[2]包括[1]所述的硬涂薄膜,其中,前述透明基材为环烯烃系基材。本专利技术[3]包括[1]或[2]所述的硬涂薄膜,其中,前述硬涂层中的前述二氧化硅颗粒与前述氧化锆颗粒的合计含有比率为65.0质量%以下。本专利技术[4]包括[1]~[3]中任一项所述的硬涂薄膜,其中,前述硬涂薄膜的弹性模量为4.2GPa以上。本专利技术[5]包括[1]~[4]中任一项所述的硬涂薄膜,其中,前述硬涂薄膜的厚度为0.7μm以上且2.0μm以下。本专利技术[6]包括一种透明导电性薄膜,其具备[1]~[4]中任一项所述的硬涂薄膜、以及配置在前述硬涂薄膜的厚度方向一侧的透明导电层。本专利技术[7]包括一种透明导电性薄膜层叠体,其具备偏光件和[6]所述的透明导电性薄膜。本专利技术[8]包括一种图像显示装置,其具备图像显示元件和权利要求7所述的透明导电性薄膜层叠体,前述透明导电性薄膜配置在前述偏光件与前述图像显示元件之间。本专利技术的硬涂薄膜、透明导电性薄膜、透明导电性薄膜层叠体以及图像显示装置具备透明基材和硬涂层,硬涂层含有二氧化硅颗粒、氧化锆颗粒以及树脂。另外,硬涂层中的二氧化硅颗粒的含有比率为0.5质量%以上且低于3.0质量%,硬涂层中的氧化锆颗粒的含有比率为35.0质量%以上且低于70.0质量%。即,本专利技术的硬涂薄膜、透明导电性薄膜、透明导电性薄膜层叠体以及图像显示装置中,硬涂层内的二氧化硅颗粒和氧化锆颗粒以特定的含有比率存在。因此,可实现抑制基材破裂、并且满足光学用途所要求的各物性(层叠透明导电层时的、图案辨识抑制、耐擦伤性、耐湿热性、图案化性、耐碱性)。附图说明图1示出本专利技术的硬涂薄膜的一个实施方式的截面图。图2A~图2B为图1所示的具备硬涂薄膜的透明导电性薄膜的截面图,图2A示出未图案化的透明导电性薄膜的截面图,图2B示出图案化的透明导电性薄膜的截面图。图3示出具备图2B所示的透明导电性薄膜的透明导电性薄膜层叠体的截面图。图4示出具备图3所示的透明导电性薄膜层叠体的图像显示装置的截面图。具体实施方式参照图1~图4,对本专利技术的硬涂薄膜、透明导电性薄膜、透明导电性薄膜层叠体以及图像显示装置各自的一个实施方式进行说明。图1中,纸面上下方向为上下方向(厚度方向、第1方向),纸面上侧为上侧(厚度方向一侧、第1方向一侧),纸面下侧为下侧(厚度方向另一侧、第1方向另一侧)。另外,纸面左右方向以及纵深方向为与上下方向正交的面方向。具体依照各图的方向箭头。1.硬涂薄膜如图1所示,硬涂薄膜1具有具备规定厚度的薄膜形状(包括薄片形状),在与厚度方向正交的规定方向(面方向)上延伸,具有平坦的上表面和平坦的下表面。硬涂薄膜1是具备透明基材2、以及配置于透明基材2的上表面(厚度方向的一个面)的硬涂层3的带硬涂层的薄膜。优选硬涂薄膜1由透明基材2与硬涂层3组成。(透明基材)透明基材2是用于确保硬涂薄膜1(进而透明导电性薄膜4)的机械强度的透明基材。即,透明基材2支承硬涂层3,另外,在后述透明导电性薄膜4中,支承硬涂层3以及后述透明导电层5。透明基材2是硬涂薄膜1的最下层,具有薄膜形状。透明基材2以与硬涂层3的下表面接触的方式配置在硬涂层3的下表面整面。透明基材2例如为具有透明性的高分子薄膜。作为透明基材2的材料,可列举出:例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂;例如聚甲基丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸类树脂(丙烯酸类树脂和/或甲基丙烯酸类树脂);例如聚乙烯、聚丙烯、环烯烃聚合物(例如降冰片烯系、环戊二烯系)等烯烃树脂;例如聚碳酸酯树脂、聚醚砜树脂、聚芳酯树脂、三聚氰胺树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、纤维素树脂、聚苯乙烯树脂等。透明基材2可以单独使用或组合使用2种以上。透明基材2可优选列举出由环烯烃聚合物形成的环烯烃系基材(COP基材)。使用COP基材作为透明基材2时,透明性优异。另外,COP基材的面内双折射率低,相位差实质为零,因此在后述透明导电性薄膜层叠体8中,能够抑制通过偏光件10的偏光的消除,能够使偏光确实地通过。透明基材2的总透光率(JISK7375-2008)例如为80%以上、优选为85%以上。透明基材2的面内双折射率例如为10nm以下、优选为5nm以下。面内双折射率例如可以利用双折射测量测定系统(AxometricsInc.制、商品名“AxoScan”)来测定。从机械强度、将透明导电性薄膜4作为触摸面板用薄膜时的打点特性等观点出发,透明基材2的厚度例如为2μm以上、优选为20μm以上,另外,例如为300μm以下、优选为150μm以下。透明基材2的厚度例如可以使用测微式厚度计进行测定。(硬涂层)硬涂层3是用于抑制透明基材2破损的层。另外,也是用于抑制配置透明导电层5时在透明导电层5中产生损伤的层。硬涂层3是硬涂薄膜1的最上层,具有薄膜形状。硬涂层3以与透明基材2的上表面接触的方式配置于透明基材2的上表面整面。硬涂层3为固化树脂层,由硬涂组合物形成。硬涂组合物含有树脂和无机颗粒。作为树脂,例如可列举出固化性树脂、热塑性树脂(例如聚烯烃树脂)等,可优选列举出固化性树脂。作为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硬涂薄膜,其特征在于,其具备:透明基材、以及配置在所述透明基材的厚度方向一侧的硬涂层,所述硬涂层含有二氧化硅颗粒、氧化锆颗粒、以及树脂,所述硬涂层中的所述二氧化硅颗粒的含有比率为0.5质量%以上且低于3.0质量%,所述硬涂层中的所述氧化锆颗粒的含有比率为35.0质量%以上且低于70.0质量%。

【技术特征摘要】
2018.04.27 JP 2018-0871831.一种硬涂薄膜,其特征在于,其具备:透明基材、以及配置在所述透明基材的厚度方向一侧的硬涂层,所述硬涂层含有二氧化硅颗粒、氧化锆颗粒、以及树脂,所述硬涂层中的所述二氧化硅颗粒的含有比率为0.5质量%以上且低于3.0质量%,所述硬涂层中的所述氧化锆颗粒的含有比率为35.0质量%以上且低于70.0质量%。2.根据权利要求1所述的硬涂薄膜,其特征在于,所述透明基材为环烯烃系基材。3.根据权利要求1或2所述的硬涂薄膜,其特征在于,所述硬涂层中的所述二氧化硅颗粒与所述氧化锆颗粒的合计含有比率为...

【专利技术属性】
技术研发人员:松本圭祐竹下翔也安藤豪彦
申请(专利权)人:日东电工株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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