覆盖式的闸门阀组制造技术

一种覆盖式闸门阀组（ｇａｔｅ　ｖａｌｖｅ　ａｓｓｅｍｂｌｙ），其包括有：　　　　一阀门座，其包括有一通道开口与一接触区域环绕于该通道开口的周围；以及　　　　一阀门，用来关闭该通道开口，其包括有：　　　　一凹槽，环设于该阀门的周边区域上，且该凹槽具有二个侧壁、以及一底侧连接于该各侧壁之间；以及　　　　一密封体装设于该凹槽内，其具有一圆弧状的上侧表面、一底侧平面、以及二个侧边平面，且该底侧平面与该底侧接触，而该上侧表面暴露于该凹槽之外；　　　　　其中该阀门以覆盖的方式来关闭该通道开口，且当该阀门闭合时，该密封体的上侧表面与该接触区域紧密接合，且该密封体的各该侧边平面分别与该凹槽的各该侧壁紧密接触，以避免该阀门与该阀门座摩擦而产生颗粒。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种覆盖式闸门阀组(gate valve assembly)，特别是涉及一种用来开启与关闭一真空腔体(vacuum chamber)的覆盖式闸门阀组。
技术介绍
一般而言，闸门阀组主要是用来隔离阻绝，并且闸门阀组被广泛地应用在各种设备上，例如自来水管线的止水阀、或汽机车引擎的排气阀等。另一方面，闸门阀组也常用于半导体的设备上，例如蚀刻机台、化学气相沉积机台等。请参考图1，图1为一化学气相沉积机台的示意图。如图1所示，一化学气相沉积机台10包括有二个承载腔体12，一基板转移腔体14，以及四个反应腔体16。其中，各承载腔体12用来将晶片载入化学气相沉积机台10、或自化学气相沉积机台10将晶片卸出。此外，基板转移腔体14用来作为一缓冲空间，以方便晶片在不同的腔体中转移，并且基板转移腔体14内另设有一基板转移装置18，用来执行移动晶片的工作。再者，各反应腔体16用来进行一化学气相沉积反应于晶片上，例如在晶片上沉积一介电层。化学气相沉积机台10内另包括有多个闸门阀组20，分别设于各承载腔体12与基板转移腔体14之间，以及各反应腔体16与基板转移腔体14之间，且闸门阀组20用来本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴维岳，
申请(专利权)人：吴维岳，
类型：发明
国别省市：