阵列基板及其制作方法、液晶显示装置制造方法及图纸

技术编号:22466461 阅读:31 留言:0更新日期:2019-11-06 10:23
本发明专利技术涉及液晶显示技术领域,本发明专利技术公开了一种阵列基板及其制作方法以及具有此阵列基板的液晶显示装置。本发明专利技术提供的阵列基板包括第一基板,该阵列基板具有显示区;该显示区设有多条扫描线、多条数据线、以及由多条扫描线与多条数据线交叉限定形成的呈阵列排布的多个像素区域,每个像素区域内包括第一电极、第二电极和设置在该第一电极和该第二电极之间的保护层;该显示区具有开口区域A和非开口区域,该保护层仅设置在该非开口区域,该保护层在该开口区域为镂空结构。阵列基板能有效地提高液晶显示装置的穿透率,以及降低响应时间和功耗。

Array substrate and its fabrication method, liquid crystal display device

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制作方法、液晶显示装置
本专利技术涉及液晶显示
,且特别是涉及一种阵列基板及其制作方法以及具有此阵列基板的液晶显示装置。
技术介绍
液晶显示装置(liquidcrystaldisplay,LCD)具有画质好、体积小、重量轻、低驱动电压、低功耗、无辐射和制造成本相对较低的优点,在显示领域占主导地位。穿透率(Transmittance,Tr)一直是液晶显示的一大问题,常规的大尺寸显示面板都存在保护层(OverCoat,OC)、绝缘层等制程,虽然该些膜层的光透过率很高,但一定程度上仍制约着穿透率的提升;且为了更长时间的使用,LCD的功耗也一直是改进的方向。因此,在液晶显示装置的显示尺寸越来越大的情况下,当下对液晶显示装置的主要功能需求仍然是“穿透率高、响应快、功耗低”等,如何进一步提高液晶显示装置的综合性能,是液晶显示装置当下亟待解决的问题之一。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,提供了一种阵列基板,其能有效地提高液晶显示装置的穿透率,以及降低响应时间和功耗。本专利技术的另一目的在于,提供了一种阵列基板的制作方法,由该方法制作的阵列基板能有效地提高穿透率,以及降低响应时间和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板(100),包括:第一基板(110),该阵列基板(100)具有显示区(101);其特征在于,该显示区(101)设有多条扫描线(121)、多条数据线(163)、以及由多条扫描线(121)与多条数据线(163)交叉限定形成的呈阵列排布的多个像素区域,每个像素区域内包括第一电极(151)、第二电极(221)和设置在该第一电极(151)和该第二电极(221)之间的保护层(181);该显示区(101)具有开口区域A和非开口区域(B),该保护层(181)设置在该非开口区域(B),该保护层(181)在该开口区域(A)为镂空结构。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板(100),包括:第一基板(110),该阵列基板(100)具有显示区(101);其特征在于,该显示区(101)设有多条扫描线(121)、多条数据线(163)、以及由多条扫描线(121)与多条数据线(163)交叉限定形成的呈阵列排布的多个像素区域,每个像素区域内包括第一电极(151)、第二电极(221)和设置在该第一电极(151)和该第二电极(221)之间的保护层(181);该显示区(101)具有开口区域A和非开口区域(B),该保护层(181)设置在该非开口区域(B),该保护层(181)在该开口区域(A)为镂空结构。2.如权利要求1所述的阵列基板(100),其特征在于,该阵列基板(100)还包括:第一金属层(120),形成在该第一基板(110)上,包括该扫描线(121)和栅极(122);第一绝缘层(130),形成在该第一基板(110)上并覆盖该第一金属层(120),该第一绝缘层(130)包括位于该显示区(101)的栅极绝缘层(131);半导体层(140),形成在该栅极绝缘层(131)上并位于该栅极(122)的上方;第一透明电极层(150),形成在该第一绝缘层(130)上,包括该第一电极(151);第二金属层(160),形成在该第一透明电极层(150)上,包括源极(161)、漏极(162)和该数据线(163);该源极(161)和该漏极(162)彼此分隔并分别与该半导体层(140)接触,以使部分的该半导体层(140)从该源极(161)和该漏极(162)之间露出,该源极(161)与该数据线(165)连接,该漏极(162)与该第一电极(151)连接;第二绝缘层(170),形成在该第二金属层(160)上,该第二绝缘层(170)为整面设置并覆盖整个该显示区(101);绝缘保护层(180),形成在该第二绝缘层(170)上,包括该保护层(181);第三金属层(210),形成在该绝缘保护层(180)上,包括导电条(211),该导电条(211)位于该扫描线(121)的上方;以及第二透明电极层(220),形成在绝缘保护层(180)上,该第二透明电极层(220)包括位于显示区(101)的该第二电极(221),该第二电极(221)覆盖该导电条(211)。3.如权利要求2所述的阵列基板(100),其特征在于,该阵列基板(100)还包括第三绝缘层(190),该第三绝缘层(190)形成在该绝缘保护层(180)上,该第三金属层(210)和该第二透明电极层(220)形成在该第三绝缘层(190)上。4.如权利要求3所述的阵列基板(100),其特征在于,该第三绝缘层(190)设置在该非开口区域(B),该第三绝缘层(190)在该开口区域(A)为镂空结构。5.如权利要求1所述的阵列基板(100),其特征在于,该阵列基板(100)还包括:第一金属层(120),形成在该第一基板(110)上,包括该扫描线(121)和栅极(122);第一绝缘层(130),形成在该第一基板(110)上并覆盖该第一金属层(120),该第一绝缘层(130)包括位于该显示区(101)的栅极绝缘层(131);半导体层(140),形成在该栅极绝缘层(131)上并位于该栅极(122)的上方;第一透明电极层(150),形成在该第一绝缘层(130)上,包括该第一电极(151);第二金属层(160),形成在该第一透明电极层(150)上,包括源极(161)、漏极(162)和该数据线(163);该源极(161)和该漏极(162)彼此分隔并分别与该半导体层(140)接触,以使部分的该半导体层(140)从该源极(161)和该漏极(162)之间露出,该源极(161)与该数据线(165)连接,该漏极(162)与该第一电极(151)连接;第二绝缘层(170),形成在该第二金属层(160)上,该第二绝缘层(170)仅设置在该非开口区域(B),该第二绝缘层(170)在该开口区域(A)为镂空结构;绝缘保护层(180),形成在该第二绝缘层(170)上,包括该保护层(181);第三绝缘层(190),形成在该绝缘保护层(180)上;第三金属层(210),形成在该第三绝缘层(190)上,包括导电条(211),该导电条(211)位于该扫描线(121)的上方;以及第二透明电极层(220),形成在该第三绝缘层(190)上,该第二透明电极层(220)包括位于显示区(101)的该第二电极(221),该第二电极(221)覆盖该导电条(211)。6.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:钟德镇郑会龙张军祝伟鹏
申请(专利权)人:昆山龙腾光电有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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