阵列基板及制作方法、显示面板及制作方法和显示装置制造方法及图纸

本申请提供了一种阵列基板及制作方法、显示面板及制作方法和显示装置。该阵列基板包括第一衬底以及依次制作在第一衬底上的第一导电层、第一绝缘层、有源层、第二导电层、第二绝缘层和第三导电层。其中，第一导电层包括公共电极和栅极线，第二导电层包括数据线、源极和漏极，第三导电层包括屏蔽结构和通过贯穿第二绝缘层的过孔与漏极连接的像素电极，屏蔽结构在第一衬底上的正投影覆盖数据线在第一衬底上的正投影，因此，在获得高开口率的同时能够减少掩膜板的数量，简化生产工艺，降低生产成本；第二绝缘层采用喷涂方法制作且各处的厚度相同，与平坦化处理的第二绝缘层相比，像素电极与公共电极之间的距离减小，有利于降低阵列基板的工作电压。

Array base plate, manufacturing method, display panel, manufacturing method and display device

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及制作方法、显示面板及制作方法和显示装置
本申请涉及显示
，具体而言，本申请涉及一种阵列基板及制作方法、显示面板及制作方法和显示装置。
技术介绍
液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay，LCD)通过控制液晶盒内电场的变化来实现液晶分子的偏转，从而达到显示效果。亮度是LCD的一个重要规格，影响LCD亮度的最重要的因素是LCD的开口率。在相关技术中，通常采用屏蔽层遮挡数据线的方式来提高显示面板的开口率，但这会使得阵列基板生产过程中所用的掩膜板(mask)的数量增加，提高了工艺的复杂度，生产成本也有所增加。
技术实现思路
本申请针对现有方式的缺点，提出一种阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置，用以解决现有技术存在的为提升LCD的开口率而使mask增加的技术问题。第一个方面，本申请实施例提供了一种阵列基板，该阵列基板包括：第一衬底；第一导电层，位于所述第一衬底的一侧且包括多个公共电极和多条栅极线；第一绝缘层，位于所述第一导电层远离所述第一衬底的一侧；有源层，位于所述第一绝缘层远离所述第一衬底的一侧；第二导电层，位于所述有源层远离所述第一衬底的一侧且包括多条数据线本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：第一衬底；第一导电层，位于所述第一衬底的一侧且包括多个公共电极和多条栅极线；第一绝缘层，位于所述第一导电层远离所述第一衬底的一侧；有源层，位于所述第一绝缘层远离所述第一衬底的一侧；第二导电层，位于所述有源层远离所述第一衬底的一侧且包括多条数据线、多个源极和多个漏极，所述源极与所述数据线连接；第二绝缘层，位于所述第二导电层远离所述第一衬底的一侧，所述第二绝缘层各处的厚度相同；贯穿所述第二绝缘层的多个过孔；以及第三导电层，位于所述第二绝缘层远离所述第一衬底的一侧，且包括多个像素电极和多个屏蔽结构，所述像素电极通过所述过孔与相应的所述漏极连接，所述屏蔽结构在所述第...

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：第一衬底；第一导电层，位于所述第一衬底的一侧且包括多个公共电极和多条栅极线；第一绝缘层，位于所述第一导电层远离所述第一衬底的一侧；有源层，位于所述第一绝缘层远离所述第一衬底的一侧；第二导电层，位于所述有源层远离所述第一衬底的一侧且包括多条数据线、多个源极和多个漏极，所述源极与所述数据线连接；第二绝缘层，位于所述第二导电层远离所述第一衬底的一侧，所述第二绝缘层各处的厚度相同；贯穿所述第二绝缘层的多个过孔；以及第三导电层，位于所述第二绝缘层远离所述第一衬底的一侧，且包括多个像素电极和多个屏蔽结构，所述像素电极通过所述过孔与相应的所述漏极连接，所述屏蔽结构在所述第一衬底上的正投影覆盖所述数据线在所述第一衬底上的正投影。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二绝缘层的材料包括介电常数低于4的有机材料。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二绝缘层的厚度为0.5～1.2微米。4.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-3中任一项所述的阵列基板。5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括与所述阵列基板相对设置的彩膜基板，所述彩膜基板包括：第二衬底；黑色矩阵，位于所述第二衬底靠近所述阵列基板的一面；多个滤光部，位于所述第二衬底靠近所述阵列基板的一面；其中，所述黑色矩阵位于所述滤光部之间且与所述屏蔽结构接触，所述黑色矩阵在所述第一衬底上的正投影覆盖所述屏蔽结构在所述第一衬底上的正投影。6.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求4或5所述的显示面板。7.一种阵列基板的制作方法，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：林允植，张舜航，崔贤植，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11