一种防止硅片粘连的慢提拉槽体结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种防止硅片粘连的慢提拉槽体结构，包括慢提拉槽，所述慢提拉槽内设置有托盘，所述托盘上等距间隔设置有若干隔离板，所述隔离板两侧面均开设有引流槽。所述隔离板两侧面设置的引流槽呈交叉分布，每个侧面的引流槽设置有10‑15根，且引流槽宽度为0.5‑0.7mm，深度为0.3‑0.4mm。本实用新型专利技术在不对现有槽体结构与夹具工装进行改变的情况下，简单对慢提拉槽体内的托盘进行改造，增加一组等距间隔的隔离板，并且通过其上开设的引流槽，能够有效防止薄硅片的粘连，提高硅片良品率，实用性很强，非常值得推广。

A Slow Lifting Slot Structure for Preventing Silicon Wafer Adhesion

【技术实现步骤摘要】
一种防止硅片粘连的慢提拉槽体结构
本技术涉及硅片制绒
，具体为一种防止硅片粘连的慢提拉槽体结构。
技术介绍
提效降本是光伏制造业的长久主题。在目前的硅基电池片制造成本中，来料硅片成本仍占据50％以上，采用更薄的硅片显然能直接降低电池片成本，提高竞争力。但是更薄的硅片意味着更高的柔性和可弯曲度。当单晶硅片厚度降低到160μm以下时，制绒机台传统的工装夹具已经不足以保证硅片拥有足够的间距来防止硅片在进入烘干槽之前有粘连现象的发生。硅片在从液体中被提起时，由于硅片间水的吸附力，导致两片硅片吸附在一起，相邻片的粘连，不仅会导致药液残留在硅片上，还会导致硅片的烘干效果不佳，表面残留水迹，影响当工序良率，并对接下来的扩散工序生产造成困难，水汽在扩散过程中将对高温炉管造成污染，影响生产良率。影响硅片粘连的因素不仅有硅片的厚度，还有硅片在花篮中的间距。在现有条件下，花篮工装的整体尺寸为适应制绒槽体的大小已经固定，改变花篮尺寸势必要对整个制绒设备进行改造，成本和难易程度都较高，而不改变花篮整体尺寸大小，硅片间距已经没有进一步加大的空间。因而在硅片厚度进一步减小的趋势下，寻找一种简单易行的改善硅片粘连的方法是有必要的，但是目前行业内的单晶制绒机台多为槽式，在烘干槽之前设置有慢提拉槽，通过把花篮从水中缓慢提起以使硅片表面吸附的液体量降低，防止硅片粘连。但是，此种方法在硅片厚度较小，韧度较高时，由于毛细现象，硅片贴近处的水分无法下流，导致硅片粘连，粘连的硅片在烘干槽中的热风循环烘干效果欠佳，硅片下料后通常仍带有水分，而且一般的慢提拉槽内部具有可升降的底部托盘，以实现花篮的提升，通常托盘结果较为简单，只具备可升降功能，所以需要一种新型的慢提拉槽结构去解决粘连问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种防止硅片粘连的慢提拉槽体结构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种防止硅片粘连的慢提拉槽体结构，包括慢提拉槽，所述慢提拉槽内设置有托盘，所述托盘上等距间隔设置有若干隔离板，所述隔离板两侧面均开设有引流槽。优选的，所述托盘的四个拐角处均固定设置有花篮卡点。优选的，所述隔离板厚度为1.0-1.5mm，高度为6-8cm，宽度为3-4cm。优选的，所述隔离板两侧面设置的引流槽呈交叉分布，每个侧面的引流槽设置有10-15根，且引流槽宽度为0.5-0.7mm，深度为0.3-0.4mm。优选的，每两块相邻所述隔离板之间的间距为4mm。与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术在不对现有槽体结构与夹具工装进行改变的情况下，简单对慢提拉槽体内的托盘进行改造，增加一组等距间隔的隔离板，并且通过其上开设的引流槽，能够有效防止薄硅片的粘连，提高硅片良品率，实用性很强，非常值得推广。附图说明图1为本技术的整体结构俯视示意图；图2为本技术的整体结构主视示意图；图3为本技术的整体结构左视示意图；图4为本技术的托盘与隔离板连接结构主视示意图；图5为本技术的托盘与隔离板连接结构左视示意图；图6为本技术的隔离板上引流槽结构细节示意图。图中：1慢提拉槽、2托盘、3隔离板、4引流槽、5花篮卡点。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-6，本技术提供一种技术方案：一种防止硅片粘连的慢提拉槽体结构，包括慢提拉槽1，慢提拉槽1内设置有托盘2，托盘2的四个拐角处均固定设置有花篮卡点5，花篮卡点5用来卡住盛放硅片的花篮，托盘2上等距间隔设置有若干隔离板3，隔离板3厚度为1.0-1.5mm，高度为6-8cm，宽度为3-4cm，隔离板3两侧面设置的引流槽4呈交叉分布，每个侧面的引流槽4设置有10-15根，且引流槽4宽度为0.5-0.7mm，深度为0.3-0.4mm，每两块相邻隔离板3之间的间距为4mm，隔离板3两侧面均开设有引流槽4。实施例一：慢提拉槽1内部具有可升降的底部托盘2，本技术通过在托盘2的中间加入一排带有引流槽4的隔离板3，隔离板3可以进入硅片的间隙中，在花篮提升过程中，将硅片之间的液体通过引流槽4导入下方槽体，避免液体在硅片间残留导致粘连，本技术在现有结构基础上，通过简单添加构件，实现防硅片粘连的能力。隔离板3厚度为1.5mm，顶部扁平，间距与硅片间距相当，约4mm，花篮进入慢提拉槽1放置在托盘2上时，通过激光定位，对于本领域人员来说，花篮内硅片间距常设置为约4mm左右，精度足够保证隔离板3进入硅片间隙，隔离板3高度为8cm，可到达硅片中部区域，顶部光滑，避免划伤硅片，宽度在4cm，引流槽宽度0.7mm，深度0.4mm，间距2.5mm，两面交叉分布，每面均匀分布有11根引流槽，在不对现有槽体结构与夹具工装进行改变的情况下，简单对慢提拉槽1内的托盘2上的结构进行改造，增加一组隔离板3，有效防止薄硅片的粘连，提高良率。尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防止硅片粘连的慢提拉槽体结构，包括慢提拉槽(1)，所述慢提拉槽(1)内设置有托盘(2)，其特征在于：所述托盘(2)上等距间隔设置有若干隔离板(3)，所述隔离板(3)两侧面均开设有引流槽(4)。

【技术特征摘要】
1.一种防止硅片粘连的慢提拉槽体结构，包括慢提拉槽(1)，所述慢提拉槽(1)内设置有托盘(2)，其特征在于：所述托盘(2)上等距间隔设置有若干隔离板(3)，所述隔离板(3)两侧面均开设有引流槽(4)。2.根据权利要求1所述的一种防止硅片粘连的慢提拉槽体结构，其特征在于：所述托盘(2)的四个拐角处均固定设置有花篮卡点(5)。3.根据权利要求1所述的一种防止硅片粘连的慢提拉槽体结构，其特征在于：所述隔离板(3...

【专利技术属性】
技术研发人员：王涛，余波，杨蕾，
申请(专利权)人：通威太阳能安徽有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34