反射涂膜基板制造技术

本发明专利技术提供反射涂膜基板，其包括透明基板、形成在所述透明基板上的底层和形成在所述底层上的反射金属层，其中所述底层包含锌‑铝的氧化物、氮氧化物或氮化物。

Reflective Coating Substrate

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】反射涂膜基板
本专利技术涉及反射涂膜基板。
技术介绍
反射涂膜基板是涂覆有反射金属层的基板，所述反射金属层包括具有高反射率的金属用于增加反射。通常，银(Ag)用于反射金属层。然而，存在的问题是，常规用于沉积银以形成反射金属层的湿化学方法伴随着含有化学试剂、银、铜和锡的清洁水的生成，这需要对其进行环境友好处置的额外成本和设备。因此，已经提议溅射方法作为银沉积方法。然而，通过溅射方法进行银沉积具有以下问题：银对通常用作基板的玻璃或塑料材料的粘附较弱，导致反射涂膜基板具有低的耐久性。因此，已经提议通过常规溅射方法制造反射涂膜基板，但是包括在基板与反射金属层之间所形成的镍-铬氮化物层等，使得可以改善银与基板之间的粘附性，然而，还存在以下缺点：获得相对低的反射率，或者不容易确保期望水平的耐久性。因此，对于开发出尽管通过溅射方法制备但表现出优异的耐久性、同时确保高反射率的反射涂膜基板存在需求。(专利文件0001)日本专利注册号2,831,932
技术实现思路
技术问题本专利技术涉及提供尽管通过溅射方法制备但表现出优异的耐久性、同时确保高反射率的反射涂膜基板。技术方案提供反射涂膜基板，所述反射涂膜基板包括透明基板、设置在所述透明基板上的底层和设置在所述底层上的反射金属层，其中所述底层包含锌-铝的氧化物、氮氧化物或氮化物。在本专利技术的一个实施方案中，所述底层可以具有2nm至10nm的厚度。在本专利技术的一个实施方案中，所述反射涂膜基板可以进一步包括设置在所述反射金属层上的金属保护层和设置在所述金属保护层上的无机保护层。在本专利技术的一个实施方案中，所述反射涂膜基板可以进一步包括设置在所述无机保护层上的UV保护层。有益效果由于具有设置在透明基板与反射金属层之间的底层，本专利技术的反射涂膜基板表现出高的反射率和优异的耐久性。附图说明图1为示意性地示出根据本专利技术的一个实施方案的反射涂膜基板的横截面视图。具体实施方案在下文中，将更为详细地描述本专利技术。在其一个实施方案中，本专利技术涉及反射涂膜基板，其包括透明基板、设置在所述透明基板上的底层和设置在所述底层上的反射金属层。在本专利技术的一个实施方案中，所述透明基板为玻璃基板或塑料基板，但本专利技术不限于此。在这种情况下，玻璃基板可以由例如钠钙玻璃(sodalimeglass)、钠钙-硅酸盐玻璃(soda-lime-silicateglass)、硼硅酸盐玻璃、铅玻璃等制成，但是本专利技术不限于此。此外，如有必要，可以使用退火或热处理的玻璃。同时，塑料基板可以为包含选自聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚酰亚胺和电木(Bakelite)中的一种或多种类型的聚合物的塑料基板，但本专利技术不限于此。取决于使用目的，透明基板的厚度可以自由选择，例如，为1至10mm。在本专利技术的一个实施方案中，底层用于通过增强透明基板与反射金属层之间的粘附性来改善耐久性。在根据本专利技术的一个实施方案的反射涂膜基板中，由于底层包含锌-铝的氧化物、氮氧化物或氮化物，不仅得到了透明基板与反射金属层之间的优异的粘附性，还可以将反射率的降低最小化。在根据本专利技术的一个实施方案的反射涂膜基板中，由于在透明基板与反射金属层之间设置的底层，透明基板上朝向反射金属层入射的可见光的反射率的降低可以被最小化。根据本专利技术的一个实施方案的反射涂膜基板可以表现出85％或更大、例如85％至90％以及特别地87％至90％的可见光反射率。在此，可见光反射率可以是指在380nm至780nm波长带中的反射率。上述锌-铝氧化物可以由ZnAlOx表示，其中x可以为0.9≤x≤1.1。上述锌-铝氮氧化物可以由ZnAlOxNy表示，其中x可以为0.4≤x≤0.6，并且y可以为0.4≤y≤0.6。上述锌-铝氮化物可以由ZnAlNx表示，其中x可以为0.8≤x≤1.2。上述底层可以具有2nm至10nm的厚度，例如2nm至5nm。当底层具有小于2nm的厚度时，由底层提供的粘附性可以是相对低的，并且当底层具有大于10nm的厚度时，可能牺牲反射率。在本专利技术的一个实施方案中，上述反射金属层设置在底层上，由于包含具有高反射率的金属，可以改善反射涂膜基板的反射率。反射金属层可以包含银(Ag)、银合金、铝(Al)、铂(Pt)、钛(Ti)，或其合金。特别地，反射金属层可以包含银或银合金，用于改善可见光反射率和粘附性。在此，银合金可以选自银-锡合金、银-铟合金、银-铑合金、银-钌合金、银-金合金、银-钯合金、银-镍合金、银-硒合金和银-锑合金。此外，反射金属层可以具有50nm至100nm的厚度，例如50nm至70nm，再例如55nm至60nm。当反射金属层具有小于50nm的厚度时，可以得到相对低的反射率，并且当反射层具有大于100nm的厚度时，可以表现出相对低的反射率改善效率。同时，根据本专利技术的一个实施方案的反射涂膜基板可以进一步包括设置在反射金属层上的金属保护层和设置在金属保护层上的无机保护层。在本专利技术的一个实施方案中，金属保护层可防止反射金属层的氧化。金属保护层可以包含一种或多种选自元素周期表第2-16族的元素金属，例如镍、铁、铝、铜、铬、钛、钴、锌、锡、锆、钼、钨、铌、铟、铅和铋，或其氮化物，但本专利技术不限于此。特别地，金属保护层可包含镍、镍铬合金或镍-铬氮化物。金属保护层可以具有1.2nm至10nm的厚度。当金属保护层具有小于1.2nm的厚度时，可以表现出相对低的耐盐水性和相对低的耐刮擦性，并且当金属保护层具有大于10nm的厚度时，可能牺牲反射涂膜基板的耐久性。在本专利技术的一个实施方案中，上述无机保护层用于改善耐久性。无机保护层可以包含氧化硅或氮化硅。无机保护层可以具有5nm至30nm的厚度，例如10nm。当无机保护层具有小于5nm的厚度时，可以表现出相对低的耐刮擦性，并且当无机保护层具有大于30nm的厚度时，可以表现出相对低的生产率。同时，根据本专利技术的一个实施方案的反射涂膜基板可以进一步包括设置在无机保护层上的UV保护层。UV保护层用于改善反射涂膜基板的耐久性，特别是耐刮擦性。UV保护层可以包含氨基甲酸酯丙烯酸酯、丙烯酸异冰片酯(IBOA)、丙烯酸月桂酯、α-氨基酮等。UV保护层可以具有10μm至100μm的厚度。当UV保护层具有小于10μm的厚度时，可以得到相对低的耐久性，并且当UV保护层具有大于100μm的厚度时，可以表现出相对低的生产率和相对低的可加工性。图1为示意性地示出根据本专利技术的一个实施方案的反射涂膜基板的横截面视图。参考图1，根据本专利技术的一个实施方案的反射涂膜基板包括透明基板10、设置在透明基板上的底层20、设置在底层上的反射金属层30、设置在反射金属层上的金属保护层40、设置在金属保护层上的无机保护层50和设置在无机保护层上的UV保护层60。在本专利技术的一个实施方案中，各个上述层可以通过合适的真空沉积方法沉积，特别是通过物理气相沉积(PVD)方法(例如溅射方法)，或通过化学气相沉积(CVD)方法，例如低压CVD、大气压CVD或基于等离子体的CVD。特别地，所有上述层可以通过溅射方法以连续的方式沉积。溅射方法是能够分别在氧或氮存在下通过溅射相应的目标金属来沉积氧化物层或氮化物层的方法。此类溅射方法可以特别适于大尺寸的透明基板。此类溅射方法能够实现在单个真本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.反射涂膜基板，包括透明基板、设置在所述透明基板上的底层和设置在所述底层上的反射金属层，其中所述底层包含锌‑铝的氧化物、氮氧化物或氮化物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.02.17 KR 10-2017-00214211.反射涂膜基板，包括透明基板、设置在所述透明基板上的底层和设置在所述底层上的反射金属层，其中所述底层包含锌-铝的氧化物、氮氧化物或氮化物。2.根据权利要求1所述的反射涂膜基板，其中所述透明基板为玻璃基板或塑料基板，所述塑料基板包含选自聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚酰亚胺和电木(Bakelite)中的一种或多种类型的聚合物。3.根据权利要求1所述的反射涂膜基板，其中所述底层具有2nm至10nm的厚度。4.根据权利要求1所述的反射涂膜基板，其中所述反射金属层包含选自银(Ag)、银合金、铝(Al)、铂(Pt)和钛(Ti)中的一种或多种。5.根据权利要求1所述的反射涂膜基板，其中所述反射金属层具有50nm至100nm的厚度。6.根据权利要求1所述的反射涂膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：柳宝娜，姜贤旻，金相律，李炫周，金大焕，安廷镐，
申请(专利权)人：KCC公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR