掩膜板、掩膜装置及其应用方法制造方法及图纸

为实现OLED CUP技术，本发明专利技术提供一种掩膜板、掩膜装置及掩膜板的应用方法，掩膜板用于基板成膜，所述基板包括一预设的开孔区，所述掩膜板被一分隔线分为遮光区和开口区两部分；所述掩膜板包括一遮挡区；当所述掩膜板与所述基板被对位设置时，所述遮挡区在所述基板表面的投影位于所述开孔区内；本发明专利技术提供一种掩膜板、掩膜装置及掩膜板的应用方法，使用两种不同的掩膜板对同一基板表面先后进行二次沉积处理，使得基板上表面除被遮挡区外的每处位置都被涂覆成膜，且不会产生附膜重叠的现象，可以提高有机材料在通孔周边区域成膜的均匀性，防止基板表面的同一位置存在多个不同色的子像素，从而可以防止混色或者色偏的现象产生，提高显示面板的质量。

Mask plate, mask device and its application method

【技术实现步骤摘要】
掩膜板、掩膜装置及其应用方法
本专利技术涉及显示领域，尤其涉及一种掩膜板、掩膜装置及其应用方法。
技术介绍
随着智慧终端的迅速发展，对于显示面板的显示品质、耗能效率以及应用场合的要求越来越高。有机电致发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示器因具有色彩鲜艳、对比度高、功耗低、延展性佳等诸多优点，成为了显示领域的开发重点。随着OLED显示器制作工艺的日趋成熟，应用领域也越来越广。目前，显示面板从异形屏发展到如今的全面屏。“全面屏”逐渐成为智慧终端的主流，智慧终端具有显示面板，显示面板包括一开孔区，是用来放置前置摄像头、扩音元件、测光元件、补光元件等需要设置于显示面板上的元件。OLED生产制造中，与一般液晶显示面板最大的不同的是，需要利用真空蒸镀工艺。蒸镀过程中会将掩膜板(Mask)与基板精确贴合，然后将蒸镀材料通过掩膜板真空蒸镀至基板上，形成有机材料层。蒸镀材料包括红(R)、绿(G)、蓝(B)三色的有机发光材料，OLED显示面板即是通过能自发光的有机材料发出红绿蓝三原色，组成不同色彩。现有技术中，掩膜板包括遮光区与开口区。基板与开口区对应的位置会被沉积有机材料，基板与遮光区对应的位置不被沉积有机材料，进而形成特有的图案。在蒸镀的过程中，通过掩膜板对基板进行掩膜处理，并使用蒸镀源对基板进行蒸镀处理，掩膜板开口区对应的基板上的子像素被蒸镀。但采用掩膜板蒸镀的方法，容易产生阴影效应(shadoweffect)，也就是对第一种子像素蒸镀时，有机材料可能扩散到第一种子像素规定区域之外，即扩散至第二种子像素区域、或第三种子像素区域而造成混色或者色偏的现象，影响OLED的发光显示效果。当有机材料被扩散到其他区域时，容易导致某一位置被镀膜多次，进而导致该位置的膜层偏厚，影响膜层的均匀性。另外，掩膜板还包括至少一分隔线，用以分隔遮光区与开口区，但现有技术中，没有明确规定分隔线的方向、角度。因此，成膜后，掩膜板分隔线对应基板的位置，容易出现显示异常的现象。现有技术中，显示面板一般采用LCD技术实现屏下摄像头(CameraUnderPanel,CUP)，而尚未有人采用OLED技术实现CUP。
技术实现思路
本专利技术提供一种掩膜板、掩膜装置及其应用方法，以解决现有技术中存在的掩膜板导致有机材料在开孔区周边区域容易产生混色或者色偏的现象，以及在基板上表面的膜层不均匀的技术问题。为实现上述目的，本专利技术提供一种掩膜板，用于基板成膜，所述基板包括一预设的开孔区，所述掩膜板被一分隔线分为遮光区和开口区两部分；所述掩膜板包括一遮挡区，突出于所述遮光区的一侧边，该侧边在所述分隔线处连接至所述开口区，当所述掩膜板与所述基板被对位设置时，所述遮挡区在所述基板表面的投影位于所述开孔区内。进一步地，所述遮挡区为半圆形，所述开孔区为圆形，所述遮挡区的半径与所述开孔区的半径相同。进一步地，所述基板包括一基板分隔线，与所述分隔线在所述基板表面的投影部分地重合。进一步地，所述掩膜板为矩形或圆角矩形；和/或，所述分隔线的两端分别设于所述掩膜板两条相邻的侧边上；所述分隔线与所述掩膜板两条相邻侧边分别形成一夹角，所述夹角的角度为40°～50°。为实现上述目的，本专利技术还提供一种掩膜装置，包括前文所述的任一项所述的掩膜板，分别为第一掩膜板及第二掩膜板；其中，所述第一掩膜板被第一分隔线分为第一遮光区和第一开口区，所述第一遮光区面积大于所述第一开口区的面积；所述第二掩膜板被第二分隔线分为第二遮光区和第二开口区，所述第二遮光区面积小于所述第二开口区；所述第一掩膜板的尺寸与第二掩膜板的尺寸相同；所述第一分隔线在所述基板表面的投影，与所述第二分隔线在所述基板表面的投影部分地重合。进一步地，所述第一分隔线包括第一直线部和第一弧线部；所述第二分隔线包括第二直线部和第二弧线部；所述第一直线部在所述基板表面的投影，与所述第二直线部在所述基板表面的投影重合；所述第一弧线部在所述基板表面的投影，与所述第二弧线部在所述基板表面的投影围成一圆形，与所述开孔区的边际线重合。为实现上述目的，本专利技术还提供一种掩膜装置的应用方法，包括如下步骤：基板设置步骤，将一基板放置一蒸镀腔体内，所述基板包括一预设的开孔区；第一对位步骤，将所述基板与第一掩膜板进行第一对位处理；第一沉积步骤，在所述基板一侧表面沉积有机材料，形成一第一膜层，所述第一膜层具有第一缺口；第二对位处理，将所述基板与第二掩膜板进行第二对位处理；以及第二沉积步骤，在所述基板一侧表面沉积有机材料，形成一第二膜层，连接至所述第一膜层；所述第二膜层具有第二缺口；其中，所述第一缺口和所述第二缺口在所述基板表面围成一通孔，与所述开孔区相对设置。进一步地，在所述第一沉积步骤中，在真空蒸镀的环境下，对所述基板沉积有机材料，在所述基板表面形成所述第一膜层；在所述第二沉积步骤中，在真空蒸镀的环境下，对所述基板沉积有机材料，在所述基板表面形成所述第二膜层。进一步地，所述基板包括一基板分隔线；所述第一膜层与所述第二膜层的连接处与所述基板分隔线相对设置。进一步地，所述第一膜层包括两个以上第一像素，所述第二膜层包括两个以上第二像素；所述第一像素、所述第二像素被排列为矩阵；所述第一像素、所述第二像素分别位于所述基板分隔线的两侧。本专利技术的技术效果在于，提供一种掩膜板、掩膜装置及其应用方法，使用两种不同的掩膜板对同一基板表面先后进行二次沉积处理，使得基板上表面除开孔区外的每处位置都被涂覆成膜，且不会产生附膜重叠的现象，可以提高有机材料在开孔区周边区域成膜的均匀性，防止基板表面的同一位置存在多个不同色的子像素，从而可以防止混色或者色偏的现象产生，提高显示面板的质量。附图说明图1为所述第一掩膜板的结构示意图；图2为所述第二掩膜板的结构示意图；图3为所述基板的结构示意图；图4为所述掩膜板的应用方法的流程图；图5为所述第一掩膜板在所述基板成膜的结构示意图；图6为所述第二掩膜板在所述基板成膜的结构示意图；图7为像素位于所述基板分隔线两侧的结构示意图。附图中部分标识如下：100第一掩膜板；10第一分隔线；11第一遮光区；12第一开口区；101第一直线部；102第一弧线部；111第一遮挡区；200第二掩膜板；20第二分隔线；21第二遮光区；22第二开口区；201第二直线部；202第二弧线部；211第二遮挡区；300基板；30开孔区；31基板分隔线；301第一区；302第二区；401第一像素；402第二像素；1第一夹角；2第二夹角；3第三夹角；4第四夹角；5第五夹角；6第六夹角。具体实施方式以下参考说明书附图介绍本专利技术的优选实施例，用以举例证明本专利技术可以实施，这些实施例可以向本领域中的技术人员完整介绍本专利技术的
技术实现思路
，使得本专利技术的
技术实现思路
更加清楚和便于理解。然而本专利技术可以通过许多不同形式的实施例来得以体现，本专利技术的保护范围并非仅限于文中提到的实施例。本专利技术的说明书和权利要求书以及上述附图中的术语“第一”、“第二”等(如果存在)是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应当理解，这样描述的对象在适当情况下可以互换。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。如图1～3所示，本实施例提供一种掩膜装置，包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板，用于基板成膜，其特征在于，所述基板包括一预设的开孔区，所述掩膜板被一分隔线分为遮光区和开口区两部分；所述掩膜板包括一遮挡区，突出于所述遮光区的一侧边，该侧边在所述分隔线处连接至所述开口区，当所述掩膜板与所述基板被对位设置时，所述遮挡区在所述基板表面的投影位于所述开孔区内。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，用于基板成膜，其特征在于，所述基板包括一预设的开孔区，所述掩膜板被一分隔线分为遮光区和开口区两部分；所述掩膜板包括一遮挡区，突出于所述遮光区的一侧边，该侧边在所述分隔线处连接至所述开口区，当所述掩膜板与所述基板被对位设置时，所述遮挡区在所述基板表面的投影位于所述开孔区内。2.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述遮挡区为半圆形，所述开孔区为圆形，所述遮挡区的半径与所述开孔区的半径相同。3.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述基板包括一基板分隔线，与所述分隔线在所述基板表面的投影部分地重合。4.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板为矩形或圆角矩形；和/或，所述分隔线的两端分别设于所述掩膜板两条相邻的侧边上；所述分隔线与所述掩膜板两条相邻侧边分别形成一夹角，所述夹角的角度为40°～50°。5.一种掩膜装置，包括两个如权利要求1-4中任一项所述的掩膜板，分别为第一掩膜板及第二掩膜板；其中，所述第一掩膜板被第一分隔线分为第一遮光区和第一开口区；所述第二掩膜板被第二分隔线分为第二遮光区和第二开口区；所述第一掩膜板的尺寸与第二掩膜板的尺寸相同；所述第一分隔线在所述基板表面的投影，与所述第二分隔线在所述基板表面的投影部分地重合。6.如权利要求5所述的掩膜装置，其特征在于，所述第一分隔线包括第一直线部和第一弧线部；所述第二分隔线包括第二直线部和第二弧线部；所述第一直线部在所述基板表面的投影，与所述第二直线部在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖世艳，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42