【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】氟树脂膜
本专利技术涉及氟树脂膜。
技术介绍
已知偏二氟乙烯均聚物的膜、或由偏二氟乙烯与其它单体构成的共聚物的膜具有高相对介电常数。专利文献1中记载了一种使用氟树脂形成的高电介质膜，该氟树脂包含合计为95摩尔％以上的偏二氟乙烯单元和四氟乙烯单元。专利文献2中记载了一种包含四氟乙烯系树脂作为膜形成树脂的膜电容器用膜，该四氟乙烯系树脂以偏二氟乙烯单元/四氟乙烯单元(摩尔％比)为0/100～49/51的范围包含偏二氟乙烯单元和四氟乙烯单元。另外，专利文献3中记载了一种双轴取向聚丙烯膜，其为由以丙烯为主体的聚丙烯树脂构成的聚丙烯膜，其特征在于，该聚丙烯树脂是在直链状聚丙烯中混合0.1重量％～1.5重量％的支链状聚丙烯(H)而成的，该支链状聚丙烯(H)在230℃下测定时的熔融张力(MS)和熔体流动速率(MFR)满足log(MS)＞－0.56log(MFR)+0.74的关系式，该膜表面的至少一个面具有由梨皮样糙面的凹凸构成的基层，该表面的十点平均粗糙度(Rz)为0.50μm～1.50μm、表面光泽度为90％～135％。现有技术文献专利文献专利文献1：国际公开第2008/090...
【技术保护点】
1.一种氟树脂膜，其为包含氟树脂的氟树脂膜，其特征在于，至少一个表面的十点平均粗糙度为0.100μm～1.200μm且算术平均粗糙度为0.010μm～0.050μm，绝缘击穿强度为400V/μm以上。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.01.31 JP 2017-0160331.一种氟树脂膜，其为包含氟树脂的氟树脂膜，其特征在于，至少一个表面的十点平均粗糙度为0.100μm～1.200μm且算术平均粗糙度为0.010μm～0.050μm，绝缘击穿强度为400V/μm以上。2.如权利要求1所述的氟树脂膜，其中，氟树脂为偏二氟乙烯/四氟乙烯共聚物。3.如权利要求2所述的氟树脂膜，其中，氟树脂进一步包含基于烯键式不饱和单体的共聚物单元，其中，该烯键式不饱和单体不包括四氟乙烯和偏二氟乙烯。4.如权利要求1、2或3所述的氟树脂膜，其中，该氟树脂膜进一步包含无机颗粒。5.如权利要求4所述的氟树脂膜，其中，无机颗粒的含量相对于氟树脂100质量份为0.01质量份～5质量份。6.如权利要求1、2、3、4或5所述的氟树脂膜，其中，该氟树脂膜进行了压纹加工。7.如权利要求1、2、3、4、5或6所述的氟树脂膜，其中，该氟树脂膜进行了表面涂布。8.如权利要求1、2、3、4、5、6或7所述的氟树脂膜，其中，包含两种氟树脂作为氟树脂。9.如权利要求8所述的氟树脂膜，其中，包含未交联氟树脂和交联氟树脂作为氟树脂。10.如权利要求8或9所述的氟树脂膜，其中，包含熔体...
【专利技术属性】
技术研发人员：横谷幸治，小松信之，硲武史，立道麻有子，桧垣章夫，樋口达也，山﨑景子，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。