检测方法和装置，光谱检测设备及存储介质制造方法及图纸

本公开涉及一种检测方法和装置，光谱检测设备及存储介质，所述检测方法应用于光谱检测设备，所述方法包括：获取被测样品表面的待测区域的区域信息；根据所述区域信息确定所述待测区域内的测量点的数量和位置信息；根据所述测量点的数量和位置信息调整所述光谱检测设备射入的光的入射角，以使所述光谱检测设备射出的光在所述待测区域的不同位置聚焦。通过本公开的技术方案，在对被测样品进行光谱检测时，只需通过一次测量便能够获取被测样品不同位置的独立光谱数据，基于不同位置的光谱数据可以准确得到整个被测样品的完整、真实的物质成分信息，有效避免了被测样品物质分布不均导致的测量结果不完整、不准确的问题。

Detection methods and devices, spectral detection devices and storage media

【技术实现步骤摘要】
检测方法和装置，光谱检测设备及存储介质
本公开涉及检测
，具体地，涉及一种检测方法和装置，光谱检测设备及存储介质。
技术介绍
当前的光谱检测，通常是将激光或者其他光源通过透镜聚焦到被测样品表面的某一点，然后测量这一点的光谱数据，根据这一点的光谱数据确定被测样品在此点处的物质信息。由于被测样品往往物质分布不均匀，基于某一点的光谱数据无法准确得到整个被测样品的真实信息。此外，该方法得到的测量结果的重复性差，难以实现大批量的检测作业。
技术实现思路
本公开的目的是提供一种检测方法和装置，光谱检测设备及存储介质，用以解决上述技术问题。为了实现上述目的，根据本公开实施例的第一方面，提供一种检测方法，应用于光谱检测设备，所述方法包括：获取被测样品表面的待测区域的区域信息；根据所述区域信息确定所述待测区域内的测量点的数量和位置信息；根据所述测量点的数量和位置信息调整所述光谱检测设备射入的光的入射角，以使所述光谱检测设备射出的光在所述待测区域的不同位置聚焦。根据本公开实施例的第二方面，提供一种检测装置，应用于光谱检测设备，所述装置包括：获取模块，用于获取被测样品表面的待测区域的区域信息；确定模块，用于根据所述区域信息确定所述待测区域内的测量点的数量和位置信息；调整模块，用于根据所述测量点的数量和位置信息调整所述光谱检测设备射入的光的入射角，以使所述光谱检测设备射出的光在所述待测区域的不同位置聚焦。根据本公开实施例的第三方面，提供一种光谱检测设备，包括本公开实施例第二方面提供的检测装置。根据本公开实施例的第四方面，提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现本公开实施例第一方面所述方法的步骤。本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：通过获取被测样品表面的待测区域的区域信息，根据区域信息确定待测区域内的测量点的数量和位置信息，并根据测量点的数量和位置信息调整光谱检测设备射入的光的入射角，使光谱检测设备射出的光在待测区域的不同位置聚焦，从而在对被测样品进行光谱检测时，只需通过一次测量便能够获取被测样品不同位置的独立光谱数据，基于不同位置的光谱数据可以准确得到整个被测样品的完整、真实的物质成分信息，有效避免了被测样品物质分布不均导致的测量结果不完整、不准确的问题。并且，通过该检测方法，使得用户无需对被测样品进行多次测量，测量效率高、速度快，适用于大批量的检测作业。本公开的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。附图说明附图是用来提供对本公开的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本公开，但并不构成对本公开的限制。在附图中：图1是本公开实施例提供的一种检测方法的流程图；图2是本公开实施例提供的一种待测区域内的测量点的示意图；图3是本公开实施例提供的一种各个测量点对应的测量子区域内的扫描轨迹示意图；图4是本公开实施例提供的一种检测装置的框图；图5是本公开实施例提供的另一种检测装置的框图。具体实施方式以下结合附图对本公开的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本公开，并不用于限制本公开。值得说明的是，本公开的说明书和权利要求书以及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必理解为特定的顺序或先后次序。为了使本领域技术人员更容易理解本公开实施例提供的技术方案，下面首先对本公开提供的检测方法所适用的光谱检测设备进行说明。本公开提供的检测方法所适用的光谱检测设备可以为内部设置有角度扫描机构的光谱检测设备。示例地，该角度扫描机构可以包括控制单元和光反射单元。其中，光源发射的光经光反射单元反射后射出光在被测样品表面的某一点聚焦。控制单元可用于控制光反射单元旋转，不断改变光源射入到光反射单元的光的入射角(即光谱检测设备射入的光的入射角)，以使经光反射单元射出的光(即光谱检测设备射出的光)在被测样品表面的不同位置聚焦。光反射单元可以为电机转镜或者MEMS(MicroelectromechanicalSystem，微机电系统)扫描镜。进一步地，通过测量每一聚焦点处的光谱数据便可确定被测样品在该聚焦点处的物质成分信息。值得说明的是，上述光谱检测设备可以是手持式光谱检测设备。另外，上述光谱检测设备使用的测量谱线可以包括以下谱线中的一种或者多种：拉曼光谱、红外光谱、激光诱导击穿光谱(LaserInducedBreakdownSpectroscopy，LIBS)、质谱、色谱以及离子迁移谱等。本公开提供一种检测方法，该方法的执行主体可以是上述光谱检测设备，具体地，可以是上述光谱检测设备中的角度扫描机构。该检测方法的具体流程如图1所示，包括以下步骤：S101、获取被测样品表面的待测区域的区域信息。具体地，在本实施例中，待测区域的区域信息可以包括待测区域的形状、尺寸信息等。例如，若待测区域为矩形，则其尺寸信息可以包括每一条边的长度、该待测区域的面积等；若待测区域为圆形，则其尺寸信息可以包括半径、面积等。此处仅为举例，应用中待测区域也可以设置为其他任意形状，本申请不对待测区域的形状进行限制。被测样品表面的待测区域可由用户自定义设置并输入光谱检测设备。在具体实施时，获取被测样品表面的待测区域的区域信息的实现方式有很多种，例如，光谱检测设备可以接收用户输入的被测样品表面的待测区域的区域信息。又例如，用户可以将被测样品放置在承载装置上并将被测样品表面的待测区域呈现出来以便使光谱检测设备能够测量到，接着用户可向光谱检测设备输入用于指示开始测量指令，光谱检测设备接收到该指令后，对被测样品表面的待测区域进行图像采集，通过对采集到的图像进行识别，确定该待测区域的区域信息。当然，此处仅为举例，应用中也可以采用其他获取方式，本申请不对采用的具体获取方式进行限制。S102、根据待测区域的区域信息确定待测区域内的测量点的数量和位置信息。其中，测量点的位置信息可以包括测量点之间的相对位置、测量点与待测区域之间的相对位置等。在具体实施时，获取待测区域内的测量点的数量和位置信息的实现方式可以有很多种。在一种可选的实现方式中，可以在待测区域内设置多个均匀分布的测量点，具体地，可以根据区域尺寸信息与测量点数量/密度之间的预设对应关系，以及待测区域的尺寸信息，确定待测区域内的测量点数量，根据测量点数量和待测区域的尺寸信息进一步确定每一测量点的位置信息。例如，以图2所示的待测区域100示意，通过该实现方式可设置48个均匀分布的测量点。又例如，以图3所示的待测区域200示意，通过该实现方式可设置6个均匀分布的测量点。在另一种可选的实现方式中，考虑到不同形状的被测样品其物质分布情况不同，为了获取对不同形状的被测样品的完整、准确的测量结果，可以根据待测区域的形状设置多个测量点，具体地，可以根据区域形状与测量点分布信息之间的预设对应关系，以及待测区域的形状，确定待测区域的测量点分布信息，并根据待测区域的尺寸信息和测量点分布信息确定待测区域内的测量点数量以及各个测量点的位置信息，其中，测量点分布信息包括测量点在区域中的分布区域，以及各个分布区域内的测量点密度或者数量。其中，测量点密度是指单位面积内所包含的测量点数量。区域形状与测量点分布信息之间的对本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种检测方法，其特征在于，应用于光谱检测设备，所述方法包括：获取被测样品表面的待测区域的区域信息；根据所述区域信息确定所述待测区域内的测量点的数量和位置信息；根据所述测量点的数量和位置信息调整所述光谱检测设备射入的光的入射角，以使所述光谱检测设备射出的光在所述待测区域的不同位置聚焦。

【技术特征摘要】
1.一种检测方法，其特征在于，应用于光谱检测设备，所述方法包括：获取被测样品表面的待测区域的区域信息；根据所述区域信息确定所述待测区域内的测量点的数量和位置信息；根据所述测量点的数量和位置信息调整所述光谱检测设备射入的光的入射角，以使所述光谱检测设备射出的光在所述待测区域的不同位置聚焦。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述区域信息包括所述待测区域的形状和尺寸信息；所述根据所述区域信息确定所述待测区域内的测量点的数量和位置信息，包括：根据区域形状与测量点分布信息之间的预设对应关系，以及所述待测区域的形状，确定所述待测区域的测量点分布信息，其中，所述测量点分布信息包括测量点在区域中的分布区域，以及各个所述分布区域内的测量点密度或者数量；根据所述待测区域的尺寸信息和测量点分布信息，确定所述待测区域内的测量点数量以及各个测量点的位置信息。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述区域信息包括所述待测区域的尺寸信息；所述根据所述测量点的数量和位置信息调整所述光谱检测设备射入的光的入射角，以使所述光谱检测设备射出的光在所述待测区域的不同位置聚焦，包括：根据所述测量点的数量和所述待测区域的尺寸信息，确定所述待测区域内的测量点密度；若所述测量点密度大于或等于预设阈值，则依次根据每一所述测量点的位置信息调整所述光谱检测设备射入的光的入射角，以使所述光谱检测设备射出的光依次在各个所述测量点聚焦。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述测量点的数量和位置信息调整所述光谱检测设备射入的光的入射角，以使所述光谱检测设备射出的光在所述待测区域的不同位置聚焦，还包括：若所述测量点密度小于所述预设阈值，则根据所述待测区域的尺寸信息和各个所述测量点的位置信息，将所述测量区域划分为与所述测量点的数量相等的多个测量子区域，得到每一所述测量子区域的尺寸信息，其中，一个所述测量子区域包含一个所述测量点，且各个所述测量子区域之间互不重叠；依次针对每一所述测量子区域，根据该测量子区域的尺寸信息和预设的平面扫描方式调整所述光谱检测设备射入的光的入射角，以使所述光谱检测设备射出的光依次在每一所述测量子区域的不同位置聚焦。5.一种检测装置，其特征在于，应用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘武宏，杨威，牟涛涛，
申请(专利权)人：北京云端光科技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11