一种抛光衬垫及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种抛光衬垫，用于3D产品单面抛光，所述抛光衬垫包括工作层和缓冲层，所述缓冲层覆盖在工作层表面，工作层远离缓冲层的一面设有多个沟槽；其中，所述工作层按重量百分比由以下组份配制而成：填料20～50份，结合剂45～70份，分散剂1～10份。本发明专利技术还提供了一种抛光衬垫的制备方法，采用该方法制备的抛光衬垫强度大、耐研磨。同时因为没有加入金刚石、氧化铝等硬度大的磨料，特别适用于3D产品的单面抛光。本发明专利技术提供的抛光衬垫没有加入磨料，对3D产品下层表面无损伤，可以起到缓冲和保护作用，使3D产品下层表面完好无损，大大提高产品的良品率。且该抛光衬垫制备简便，无需制作特定夹治具，价格低廉。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光衬垫及其制备方法
本专利技术涉及抛光
，特别地，涉及一种抛光衬垫及其制备方法。
技术介绍
、抛光衬垫是抛光技术中的关键部件之一，对抛光效率和加工质量有着重要的影响。抛光衬垫性能主要由抛光衬垫的材料种类、材料性能、表面结构和状态等决定。抛光衬垫的合理选择对于控制和优化抛光过程有着重要的意义。目前，国内抛光衬垫多数含有磨料，能同时起到研磨抛光的作用，但是多用于加工玻璃、蓝宝石、陶瓷等2D产品，对其进行双面抛光，达到减薄产品的目的。而针对3D产品加工，目前一般通过制作夹具固定产品，达到单面抛光的效果；或者通过抛光衬垫进行加工，但是现有抛光衬垫多数含有磨料，不仅寿命短，而且良率低。针对3D产品单面抛光，通常需要利用复杂的工艺和机器设备，而且不良率高，极大地增加了加工成本。因此，业内急需一种抛光衬垫的新型技术。
技术实现思路
本专利技术目的在于提供一种抛光衬垫，以解决针对3D产品单面抛光，抛光工艺和机器设备复杂，不良率高，加工成本高的技术问题。为实现上述目的，本专利技术提供了一种抛光衬垫，所述抛光衬垫包括工作层和缓冲层，所述缓冲层覆盖在工作层表面，工作层远离缓冲层的一面设有多个沟槽；其中，所述工作层按重量百分比由以下组份配制而成：填料20～50份，结合剂45～70份，分散剂1～10份。进一步的，所述工作层按重量百分比由以下组份配制而成：填料20％～50％，结合剂45％～70％，分散剂1％～10％。进一步的，所述填料为碳酸钙、硫酸钡、碳酸氢钠、硅酸钙中的一种或几种的组合。进一步的，所述结合剂为缩水甘油酯类环氧树脂、脂环族类环氧树脂、有机硅环氧树脂、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、乙烯基醚树脂中的一种或几种的组合。进一步的，所述分散剂包括单不局限于乙烯基双硬脂酰胺、硬脂酸甘油酯、聚乙二醇、油氨基油酸酯。进一步的，所述缓冲层为PC板材。本专利技术提供还提供了上述抛光衬垫的制备方法，包括以下步骤：步骤1)称取抛光衬垫中工作层所需的原料；步骤2)将步骤1中称取的原料充分混合后，填充到模具中；步骤3)利用真空机脱泡处理，最后放置于烘箱中固化成型，自然冷却至室温；步骤4)自然冷却至室温，在制作好的工作层上覆盖一层缓冲层。进一步的，所述步骤2)中各物料搅拌20～30min。进一步的，所述步骤3)中在真空机中脱泡处理20-30min，真空机中的压强为-90～-110kpa。进一步的，所述步骤3)中真空机脱泡处理后放置于烘箱中固化成型的温度为120-150℃。本专利技术具有以下有益效果：(1)本专利技术提供的一种抛光衬垫，用于3D产品单面抛光，由工作层和缓冲层组成，所述缓冲层覆盖在工作层表面，工作层远离缓冲层的一面设有多个沟槽，所述缓冲层为PC板材，所述工作层按重量百分比由以下组份配制而成：填料20～50份，结合剂45～70份，分散剂1～10份。其中，填料主要起增加强度的作用且含量适中，否则会影响抛光衬垫的成型，结合剂起粘结和固化作用，分散剂主要是混合均匀的作用。尤其是作为工作层主要成分的结合剂(优选环氧树脂)，不仅具有优异的粘结性能，而且耐磨性能和机械性能良好，化学稳定性好，收缩率低，易加工成型且成本低廉。同时，因为没有加入金刚石、氧化铝等硬度大的磨料，特别适用于3D产品的单面抛光。本专利技术提供的抛光衬垫没有加入磨料，对3D产品下层表面无损伤，可以起到缓冲和保护作用，使3D产品下层表面完好无损，大大提高产品的良品率。同时，本专利技术提供的抛光衬垫，工作层远离缓冲层的一面设有多个沟槽，不仅具有容屑的作用，且能够及时排除抛光液致使本抛光衬垫相当耐研磨，同时，能够很好的保护所加工产品。(2)本专利技术提供的抛光衬垫的制备方法，其制备工艺为热固成型，操作简便，无需制作特定夹治具，价格低廉。本专利技术制备的抛光衬垫不仅强度大、耐研磨，且配合树脂铜盘使用，可广泛应用于玻璃、蓝宝石、陶瓷等3D产品的单面抛光领域。该抛光衬垫能够很好的保护产品表面，同时工作层远离缓冲层的一面设有多个沟槽可以及时排除玻璃粉、宝石粉、陶瓷粉。另外，因为抛光衬垫的制作有上下模具，所述沟槽是根据具体形状需求设计相应的上模具压制而成。(3)相对于现有的含有磨料的抛光衬垫(使用寿命为6-8天，曲面不良率超过7％)，本专利技术提供的抛光衬垫使用寿命长，且曲面不良率较低，在磨机上的使用寿命可以达到12-15天，与3D产品接触的曲面不良率可以控制在5％以内。除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本专利技术还有其它的目的、特征和优点。下面将对本专利技术作进一步详细的说明。具体实施方式以下对本专利技术的实施例进行详细说明，但是本专利技术可以根据权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。实施例1：一种抛光衬垫，所述抛光衬垫包括工作层和缓冲层，所述缓冲层覆盖在工作层表面，工作层远离缓冲层的一面设有多个沟槽；其中，所述工作层按重量百分比由以下组份配制而成：35％碳酸钙，60％有机硅环氧树脂，5％聚乙二醇。所述缓冲层为PC板材(也叫聚碳酸酯板材)。该抛光衬垫由如下方法制成，将上述质量组分的工作层的各物质混合搅拌20～30分钟后，填充到模具中，利用真空机脱泡处理20-30min，真空机中的压强为-90～-110kpa，然后放置于烘箱中高温固化成型，固化成型的温度为120-150℃，最后自然冷却至室温，粘贴PC板材。实施例2：一种抛光衬垫，所述抛光衬垫包括工作层和缓冲层，所述缓冲层覆盖在工作层表面，工作层远离缓冲层的一面设有多个沟槽；其中，所述工作层由以下组份配制而成：20％硫酸钡，70％脂环族类环氧树脂，10％硬脂酸甘油酯。所述缓冲层为PC板材。本实施例抛光衬垫具体制备方法同时实施例1。实施例3：一种抛光衬垫，所述抛光衬垫包括工作层和缓冲层，所述缓冲层覆盖在工作层表面，工作层远离缓冲层的一面设有多个沟槽；其中，所述工作层由以下组份配制而成：20％碳酸氢钠，30％硅酸钙，49％环氧丙烯酸酯，1％乙烯基双硬脂酰胺。所述缓冲层为PC板材。本实施例抛光衬垫具体制备方法同时实施例1对比例1：(填料过低，结合剂过高)一种抛光衬垫，所述抛光衬垫包括工作层和缓冲层，所述缓冲层覆盖在工作层表面，工作层远离缓冲层的一面设有多个沟槽；其中，所述工作层由以下组份配制而成：15％碳酸钙，75％有机硅环氧树脂，10％聚乙二醇。所述缓冲层为PC板材。本实施例抛光衬垫具体制备方法同时实施例1。对比例2：(结合剂过低，填料过高)一种抛光衬垫，所述抛光衬垫包括工作层和缓冲层，所述缓冲层覆盖在工作层表面，工作层远离缓冲层的一面设有多个沟槽；其中，所述工作层由以下组份配制而成：55％碳酸钙，40％有机硅环氧树脂，5％聚乙二醇。所述缓冲层为PC板材。本实施例抛光衬垫具体制备方法同时实施例1。对比例3：(加入金刚石磨料)一种抛光衬垫，所述抛光衬垫包括工作层和缓冲层，所述缓冲层覆盖在工作层表面，工作层远离缓冲层的一面设有多个沟槽；其中，所述工作层由以下组份配制而成：25％金刚石，20％硅酸钙，50％有机硅环氧树脂，5％聚乙二醇。所述缓冲层为PC板材。采用实施例1-3和对比例1-5制备的抛光衬垫，贴在磨机下盘，上盘粘贴树脂铜盘，协同加工3D玻璃产品，试验结果如下：抛光衬垫曲面不良率使用寿命实施例14.8％12天实施例24.5％13天实施例34.3％15天对比例15.5％9天对比例2本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光衬垫，其特征在于，所述抛光衬垫包括工作层和缓冲层，所述缓冲层覆盖在工作层表面，工作层远离缓冲层的一面设有多个沟槽；其中，所述工作层按重量百分比由以下组份配制而成：填料20～50份，结合剂45～70份，分散剂1～10份。

【技术特征摘要】
1.一种抛光衬垫，其特征在于，所述抛光衬垫包括工作层和缓冲层，所述缓冲层覆盖在工作层表面，工作层远离缓冲层的一面设有多个沟槽；其中，所述工作层按重量百分比由以下组份配制而成：填料20～50份，结合剂45～70份，分散剂1～10份。2.根据权利要求1所述的一种抛光衬垫，其特征在于，所述工作层按重量百分比由以下组份配制而成：填料20％～50％，结合剂45％～70％，分散剂1％～10％。3.根据权利要求1所述的一种抛光衬垫，其特征在于，所述填料为碳酸钙、硫酸钡、碳酸氢钠、硅酸钙中的一种或几种的组合。4.根据权利要求1所述的一种抛光衬垫，其特征在于，所述结合剂为缩水甘油酯类环氧树脂、脂环族类环氧树脂、有机硅环氧树脂、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、乙烯基醚树脂中的一种或几种的组合。5.根据权利要求1所述的一种抛光衬垫，其特征在于，所述分散剂包括单不局限于乙烯基双硬脂酰胺、硬脂酸甘油酯、聚乙二...

【专利技术属性】
技术研发人员：周群飞，马海翔，
申请(专利权)人：蓝思科技长沙有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南,43