【技术实现步骤摘要】
用于全固态锂离子电池的超薄锂负极膜的制备工艺
本专利技术是关于新能源
，特别是关于一种用于全固态锂离子电池的超薄锂负极膜的制备工艺。
技术介绍
“锂电池”，是一类由锂金属或锂合金为负极材料、使用非水电解质溶液的电池。1912年锂金属电池最早由GilbertN.Lewis提出并研究。20世纪70年代时，M.S.Whittingham提出并开始研究锂离子电池。由于锂金属的化学特性非常活泼，使得锂金属的加工、保存、使用，对环境要求非常高。随着科学技术的发展，现在锂电池已经成为了主流。全固态锂电池分为聚合物全固态锂电池和无机全固态锂电池。对于全固态锂电池的研究制造，锂电池厂家也极力追求轻薄的新型质轻薄的锂电池。全固态锂电池主要包括正极、固态电解质以及负极三部分，较于具有正极、负极、电解液及薄膜的液态锂离子电池，全固态锂离子电池在构造上更加的简化。现有技术CN202817039U公开了一种锂电池的电池芯，包含一芯棒、一第一隔离膜、一第二隔离膜、一正极膜、一负极膜及一外包膜。该第一隔离膜包括一第一初始反折段、一第一中间段及一第一结束段，该第二隔离膜包括一第二初始反折段、...
【技术保护点】
1.一种用于全固态锂离子电池的超薄锂负极膜的制备工艺，其特征在于：所述用于全固态锂离子电池的超薄锂负极膜的制备工艺包括如下步骤：在基片上通过磁控溅射方法沉积Cu3N薄膜，其中所述Cu3N薄膜的厚度为10‑12nm；在所述Cu3N薄膜上通过磁控溅射方法沉积第一TiO2薄膜，其中所述第一TiO2薄膜的厚度为12‑15nm；在所述第一TiO2薄膜上通过磁控溅射方法沉积Zn3N4薄膜，其中所述Zn3N4薄膜的厚度为10‑12nm；在所述Zn3N4薄膜上通过磁控溅射方法沉积第一Li4Ti5O12薄膜，其中所述第一Li4Ti5O12薄膜的厚度为10‑12nm；在所述第一Li4Ti5O1...
【技术特征摘要】
1.一种用于全固态锂离子电池的超薄锂负极膜的制备工艺，其特征在于：所述用于全固态锂离子电池的超薄锂负极膜的制备工艺包括如下步骤：在基片上通过磁控溅射方法沉积Cu3N薄膜，其中所述Cu3N薄膜的厚度为10-12nm；在所述Cu3N薄膜上通过磁控溅射方法沉积第一TiO2薄膜，其中所述第一TiO2薄膜的厚度为12-15nm；在所述第一TiO2薄膜上通过磁控溅射方法沉积Zn3N4薄膜，其中所述Zn3N4薄膜的厚度为10-12nm；在所述Zn3N4薄膜上通过磁控溅射方法沉积第一Li4Ti5O12薄膜，其中所述第一Li4Ti5O12薄膜的厚度为10-12nm；在所述第一Li4Ti5O12薄膜上通过磁控溅射方法沉积第二TiO2薄膜，其中所述第二TiO2薄膜的厚度为10-12nm；在所述第二TiO2薄膜上通过磁控溅射方法沉积Fe3N薄膜，其中所述Fe3N薄膜的厚度为7-9nm；在所述Fe3N薄膜上通过磁控溅射方法沉积Al2O3薄膜，其中所述Al2O3薄膜的厚度为7-9nm；以及在所述Al2O3薄膜上通过磁控溅射方法沉积第二Li4Ti5O12薄膜，其中第二Li4Ti5O12薄膜的厚度为7-9nm。2.如权利要求1所述的用于全固态锂离子电池的超薄锂负极膜的制备工艺，其特征在于：在基片上通过磁控溅射方法沉积Cu3N薄膜的具体工艺为：利用射频磁控溅射在基片上沉积Cu3N薄膜，溅射靶材为金属Cu靶，溅射功率为100-200W，溅射电压为50-100V，溅射气氛为氮气，氮气流量为30-50sccm，基片温度为300-400℃。3.如权利要求1所述的用于全固态锂离子电池的超薄锂负极膜的制备工艺，其特征在于：在所述Cu3N薄膜上通过磁控溅射方法沉积第一TiO2薄膜的具体工艺为：利用射频磁控溅射在所述Cu3N薄膜上通过磁控溅射方法沉积第一TiO2薄膜，溅射靶材为TiO2靶材，溅射功率为150-250W，溅射电压为70-120V，溅射气氛为氩气，氩气流量为30-50sccm，基片温度为300-400℃。4.如权利要求1所述的用于全固态锂离子电池的超薄锂负极膜的制备工艺，其特征在于：在所述第一TiO2薄膜上通过磁控溅射方法沉积Zn3N4薄膜的具体工艺为：利用射频磁控溅射在所述第一TiO2薄膜上通过磁控溅射方法沉积Zn3N4薄膜，溅射靶材为金属Zn靶，溅射功率为50-100W，溅射电压为60-80V，溅射气氛为氮气，氮气流量...
【专利技术属性】
技术研发人员：张渊君，董启妍，刘志华，胡家漓，刘爽，秦天兴，
申请(专利权)人：新乡芯蕴智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：河南,41
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