一种测量单晶端面垂直度的夹具制造技术

技术编号:21837108 阅读:41 留言:0更新日期:2019-08-10 19:43
本实用新型专利技术提供一种测量单晶端面垂直度的夹具,包括测量部一、测量部二和测量部三,测量部一与测量部二相互平行设置,测量部一与测量部三垂直连接,测量部二与测量部三垂直连接,测量部一设有测量孔一,测量部二设有测量孔二,测量部三设有测量孔三。本实用新型专利技术的有益效果是结构简单,制作方便,且制作成本低,使用方便,便于对单晶端面的垂直度及单晶拼缝时的端面的垂直度,便于线切过程中甩厚片处理,减少单晶切割过程中单晶的损失。

A Fixture for Measuring Verticality of Single Crystal End Face

【技术实现步骤摘要】
一种测量单晶端面垂直度的夹具
本技术属于直拉单晶设备
,尤其是涉及一种测量单晶端面垂直度的夹具。
技术介绍
目前光伏硅片主要源于多线切割制成,从拉晶整棒进行分段线切割,在切割过程中由于金刚线线据的摆动会产生断面部平整情况,在硅片切割前准备时由于误差1~2mm肉眼无法直接识别,准备过程中如果没有测底将厚片甩出,会导致卷线、断线异常,浪费钢线、浪费单晶、浪费工时。
技术实现思路
鉴于上述问题,本技术要解决的问题是提供一种测量单晶端面垂直度的夹具,尤其适合测量单晶端面的垂直度,保证单晶端面的垂直度及单晶拼接时端面的垂直度,便于线切过程中甩厚片处理,减少单晶切割时的损失。为解决上述技术问题,本技术采用的技术方案是:一种测量单晶端面垂直度的夹具,包括测量部一、测量部二和测量部三,测量部一与测量部二相互平行设置,测量部一与测量部三垂直连接,测量部二与测量部三垂直连接,测量部一设有测量孔一,测量部二设有测量孔二,测量部三设有测量孔三。进一步的,测量孔一、测量孔二与测量孔三位于同一平面上。进一步的,测量孔一与测量孔二相互平行,且测量孔一与测量孔二在竖直平面的投影重合。进一步的,测量孔三与测量孔一垂本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种测量单晶端面垂直度的夹具,其特征在于:包括测量部一、测量部二和测量部三,所述测量部一与所述测量部二相互平行设置,所述测量部一与所述测量部三垂直连接,所述测量部二与所述测量部三垂直连接,所述测量部一设有测量孔一,所述测量部二设有测量孔二,所述测量部三设有测量孔三。

【技术特征摘要】
1.一种测量单晶端面垂直度的夹具,其特征在于:包括测量部一、测量部二和测量部三,所述测量部一与所述测量部二相互平行设置,所述测量部一与所述测量部三垂直连接,所述测量部二与所述测量部三垂直连接,所述测量部一设有测量孔一,所述测量部二设有测量孔二,所述测量部三设有测量孔三。2.根据权利要求1所述的测量单晶端面垂直度的夹具,其特征在于:所述测量孔一、所述测量孔二与所述测量孔三位于同一平面上。3.根据权利要求2所述的测量单晶端面垂直度的夹具,其特征在于:所述测量孔一与所述测量孔二相互平行,且所述测量孔一与所述测量孔二在竖直平面的投影重合。4.根据权利要求2或3所述的测量单晶端面垂直度...

【专利技术属性】
技术研发人员:侯建明郭俊文郭志荣王冬雪高树良赵越崔伟
申请(专利权)人:内蒙古中环光伏材料有限公司
类型:新型
国别省市:内蒙古,15

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