一种OLED显示面板及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种OLED显示面板，包括TFT器件层、以及位于所述TFT器件层上的发光层；所述TFT器件层与所述发光层之间还包括增反层，所述增反层包括位于所述TFT器件层上的绝缘层、阵列设置于所述绝缘层上且对应所述OLED显示面板的各个发光区的反射电极、以及位于所述绝缘层上且覆盖所述反射电极的平坦层；其中，所述发光层的阳极阵列设置于所述平坦层上，且与所述反射电极对位设置；有益效果：本发明专利技术通过制作两层反射薄膜，靠上一层采用钼、铝和氧化铟锡材料制备阳极，中间间隔有平坦层，下面一层采用银或者钼和银或者钼‑银合金制备反射电极，两层共同作用，达到增加反射率的技术效果。

An OLED display panel and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种OLED显示面板及其制备方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种OLED显示面板及其制备方法。
技术介绍
显示器件(如液晶显示器件(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)或主动式有机电致发光显示器(ActiveMatrix-OrganicLightEmittingDiode，简称AMOLED)等)结构中主要是通过采用电场控制液晶(LiquidCrystal，简称LC)的透光率进行显示图像，或通过采用电流控制有机发光材料发光来显示图像。目前大部分的顶发射AMOLED器件制作过程中均采用Ag(银)和ITO(氧化铟锡)材料的组合作为反射阳极，但是在利用物理气相沉积工艺制作Ag膜层的过程中易有银突起，导致阴阳极短路，形成暗点不良，而若采用其他反射阳极材料，反射率低或者得用特殊的设备制备。综上所述，现有技术的OLED显示面板，由于采用银和氧化铟锡的材料制备阳极，制备过程中易产生银突起，导致阴阳极短路，形成暗点不良，以及其他阳极材料反射率低。故，有必要提供一种新的OLED显示面板来改善这一缺陷。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种OLED显示面板，用于解决现有技术的OL本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种OLED显示面板，其特征在于，包括TFT器件层、以及位于所述TFT器件层上的发光层；所述TFT器件层与所述发光层之间还包括增反层，所述增反层包括：绝缘层，位于所述TFT器件层上；反射电极，阵列设置于所述绝缘层上，且对应所述OLED显示面板的各个发光区；平坦层，位于所述绝缘层上，且覆盖所述反射电极；其中，所述发光层的阳极阵列设置于所述平坦层上，且与所述反射电极对位设置。

【技术特征摘要】
1.一种OLED显示面板，其特征在于，包括TFT器件层、以及位于所述TFT器件层上的发光层；所述TFT器件层与所述发光层之间还包括增反层，所述增反层包括：绝缘层，位于所述TFT器件层上；反射电极，阵列设置于所述绝缘层上，且对应所述OLED显示面板的各个发光区；平坦层，位于所述绝缘层上，且覆盖所述反射电极；其中，所述发光层的阳极阵列设置于所述平坦层上，且与所述反射电极对位设置。2.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述发光层还包括像素定义层、发光材料层以及阴极，所述像素定义层设置于所述平坦层上，所述像素定义层形成有阵列分布的像素设置区，所述发光材料层对应设置于所述像素设置区，且与所述阳极相连，所述阴极位于所述发光材料层上。3.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述平坦层表面图案化形成有凹槽，所述阳极填充于所述凹槽内，且所述阳极上表面与所述平坦层上表面平齐。4.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述反射电极的材料系选自银、钼和银、钼-银合金三者之一。5.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述阳极的材料由下至上为钼、铝、以及氧化铟锡。6.如权利要求5所述的OLED显示面板，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：林碧芬，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44