显示面板及其制作方法技术

本申请提出了一种显示面板及其制作方法，该显示面板包括包括衬底、位于该衬底上的发光器件层、及位于该发光器件层上的封装层；该发光器件层包括阳极层、位于该阳极层上的发光层、位于该发光层上的阴极层、以及位于该发光层与该阴极层之间的阴极修饰层。本申请通过发光层与阴极层之间增加阴极修饰层，该阴极修饰层能改善高功函阴极能级不匹配带来的能级势垒、及器件中的电子注入和载流子传输平衡的技术问题，提高了发光器件的发光效率，提高了产品的品质。

Display panel and its fabrication method

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制作方法
本申请涉及显示领域，特别涉及一种显示面板及其制造方法。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示器具有轻薄、主动发光、响应速度快、可视角大、色域宽、亮度高和功耗低等众多优点，逐渐成为继液晶显示器后的第三代显示技术。现有的OLED器件一般采用低功函数的金属(例如Mg，Ca，Li，Cs)作为电极，低功函数金属的化学活泼性较高，使得器件性能容易劣化，也增加了OLED器件量产时的工艺控制难度。而采用高功函数的金属(Ag，Au等)作为电极时，高功函数金属能够提高OLED器件电极的稳定性，并且提高器件的稳定性和寿命。但是选择高功函金属时，阴极层的高功函很难与发光层材料的能级匹配，造成较大的电子注入势垒，影响器件的发光效率，
技术实现思路
本申请提供了一种显示面板及其制作方法，以改善现有阴极层与发光层能级不匹配的技术问题。为实现上述目的，本申请提供的技术方案如下：本申请提供一种显示面板的制作方法，其包括：提供一衬底，在所述衬底上形成阳极层；在所述阳极层上形成发光层；在所述发光层上形成阴极层；在所述阴极层上形成封装层；其中，所述显示面板的制作方法还包括：在所述发光层与所述阴极层之间形成阴极修饰层。在本申请的制作方法中，在形成所述阴极修饰层之前，还包括：利用蒸镀工艺，在所述发光层上形成界面增强层；所述界面增强层的材料包括卟啉或酞箐中的一种。在本申请的制作方法中，所述阴极层通过蒸镀工艺形成；所述阴极层的材料包括铜、银或金中的一种；所述阴极层的厚度为10nm～2000nm。在本申请的制作方法中，所述阴极修饰层通过蒸镀工艺形成；所述阴极修饰层的材料包括有机异质结层。在本申请的制作方法中，在形成发光层之前，还包括：利用喷墨打印工艺，在所述阳极层上形成空穴传输层；所述空穴传输层的厚度为10nm～100nm。本申请还提出了一种显示面板，其包括衬底、位于所述衬底上的发光器件层、及位于所述发光器件层上的封装层；所述发光器件层包括阳极层、位于所述阳极层上的发光层、位于所述发光层上的阴极层、以及位于所述发光层与所述阴极层之间的阴极修饰层。在本申请的显示面板中，所述显示面板还包括：位于所述发光层与所述阴极修饰层之间的界面增强层；所述界面增强层通过蒸镀工艺形成；所述界面增强层的材料包括卟啉或酞箐中的一种。在本申请的显示面板中，所述阴极层通过蒸镀工艺形成；所述阴极层的材料包括铜、银或金中的一种；所述阴极层的厚度为10nm～2000nm。在本申请的显示面板中，所述阴极修饰层通过蒸镀工艺形成；所述阴极修饰层的材料包括有机异质结层。在本申请的显示面板中，所述显示面板还包括：位于所述阳极层与所述发光层之间的空穴传输层；所述空穴传输层通过喷墨打印等工艺在所述阳极层上形成；所述空穴传输层的厚度为10nm～100nm。有益效果：本申请通过发光层与阴极层之间增加阴极修饰层，该阴极修饰层能改善高功函阴极能级不匹配带来的能级势垒、及器件中的电子注入和载流子传输平衡的技术问题，提高了发光器件的发光效率，提高了产品的品质。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本申请显示面板制作方法的步骤图；图2A～2F为本申请显示面板制作方法的工艺步骤图；图3为本申请显示面板的结构图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。请参阅图1，图1为本申请显示面板100制作方法的步骤图。请参阅图2A～2F，图2A～2F为本申请显示面板100制作方法的工艺步骤图。所述显示面板100制作方法包括：S10、提供一衬底10，在所述衬底10上形成阳极层20；请参阅图2A，所述衬底10可以为阵列基板。所述衬底10包括基板和位于所述基板上的薄膜晶体管层。所述基板的原材料可以为玻璃基板、石英基板、树脂基板等中的一种。当所述基板为柔性基板时，所述柔性基板的材料可以为PI(聚酰亚胺)。所述薄膜晶体管层包括多个薄膜晶体管单元。所述薄膜晶体管单元可以为蚀刻阻挡层型、背沟道蚀刻型或顶栅薄膜晶体管型等，本实施例具体没有限制。本申请以顶栅薄膜晶体管型为例进行说明。例如，所述薄膜晶体管单元可以包括：遮光层、缓冲层、有源层、栅绝缘层、栅极、间绝缘层、源漏极、钝化层及平坦层。所述阳极层20形成于所述平坦层上。形成所述阳极层20的步骤包括：在所述衬底10上通过磁控溅射等工艺形成第一金属薄膜层；使用第一光罩工艺，对所述第一金属薄膜层进行图案化处理，使所述第一金属薄膜层形成阳极层20。所述阳极层20主要用于提供吸收电子的空穴。在本实施例中，所述阳极层20的材料可以为铟锡氧化物(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In2O3)、铟镓氧化物(IGO)或氧化锌铝(AZO)中的至少一种。在本实施例中，所述阳极层20的厚度可以为20nm～200nm。在形成所述阳极层20之后，还包括步骤：利用喷墨打印等工艺，在所述阳极层20上形成空穴传输层30。所述空穴传输层30用于传输所述阳极层20产生的空穴，将该空穴传输至所述发光层40中。在本实施例中，空穴传输层30的材料可以为PEDOT/PSS。在本实施例中，空穴传输层30的厚度可以为10nm～100nm。在本实施例中，还可以包括步骤：在所述空穴传输层30与所述阳极层20之间形成空穴注入层。所述空穴注入层用于将所述阳极层20产生的空穴注入至所述空穴传输层30中。由于所述空穴注入层和所述空穴传输层30的功能相近，因此二者可以统称为空穴传输功能层。S20、在所述阳极层20形成发光层40；请参阅图2B，所述发光层40被像素定义层90分割成多个发光单元。所述像素定义层90由有机材料构成，所述像素定义层90的工艺在所述发光层40之前形成。所述发光层40包括有机发光材料，该种材料属于有机半导体。其具有特殊的能带结构，可以在吸收所述阳极迁移过来的电子后，再散发出来一定波长的光子，而这些光子进入我们眼睛就是我们看到的色彩。本申请的所述发光层40可以通过喷墨打印法等工艺形成。在本实施例中，所述发光层40的厚度可以为10nm～100nm。在本实施例中，请参阅图2C，还可以包括：利用蒸镀工艺等，在所述发光层40上形成界面增强层50。所述界面增强层50的材料包括卟啉或酞箐等中的一种。所述界面增强层50的厚度可以为0.1nm～10nm。在本实施例中，所述界面增强层50的引入能够改善溶液制程中薄膜和蒸镀薄膜膜层状态带来的界面缺陷。例如发光层40(由喷墨工艺形成)和阴极层70(由蒸镀工艺形成)等。在本实施例中，请参阅图2D，还可以包括：利用蒸镀工艺等，在所述界面增强层50上形成阴极修饰60层。所述阴极修饰层60的材料可以包括有机异质结层本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：提供一衬底，在所述衬底上形成阳极层；在所述阳极层上形成发光层；在所述发光层上形成阴极层；在所述阴极层上形成封装层；其中，所述显示面板的制作方法还包括：在所述发光层与所述阴极层之间形成阴极修饰层。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：提供一衬底，在所述衬底上形成阳极层；在所述阳极层上形成发光层；在所述发光层上形成阴极层；在所述阴极层上形成封装层；其中，所述显示面板的制作方法还包括：在所述发光层与所述阴极层之间形成阴极修饰层。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在形成所述阴极修饰层之前，还包括：利用蒸镀工艺，在所述发光层上形成界面增强层；所述界面增强层的材料包括卟啉或酞箐中的一种。3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述阴极层通过蒸镀工艺形成；所述阴极层的材料包括铜、银或金中的一种；所述阴极层的厚度为10nm～2000nm。4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述阴极修饰层通过蒸镀工艺形成；所述阴极修饰层的材料包括有机异质结层。5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在形成发光层之前，还包括：利用喷墨打印工艺，在所述阳极层上形成空穴传输层；所述空穴传输层的厚度为10nm～100nm。6.一种显示面板，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：史婷，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44