复制模具形成用树脂组合物、复制模具、以及使用了该复制模具的图案形成方法技术

本发明专利技术提供一种能够容易除去残膜，并能够形成可以形成高精度图案的压印用复制模具的树脂组合物。本发明专利技术的复制模具形成用树脂组合物在200～450nm中至少一个波长处的光透射率为50％以上，并且含有热塑性或热固性树脂(A)与具有吸收上述波长的光线或使其散射的作用的化合物(B)，且相对于所述(A)100重量份，以0.5～50重量份的比例含有所述(B)。树脂(A)优选为烯烃类树脂或聚硅氧烷树脂。

Resin composition for duplicating die forming, duplicating die, and pattern forming method using the duplicating die

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】复制模具形成用树脂组合物、复制模具、以及使用了该复制模具的图案形成方法
本专利技术涉及一种复制模具形成用树脂组合物、包含所述复制模具形成用树脂组合物的硬化物或固化物的复制模具、以及使用了所述复制模具的图案形成方法。本申请主张2016年11月18日在日本提交的日本特愿2016-225226号的优先权，并应用于此。
技术介绍
在制造半导体装置等的工序中，作为形成微细图案的方法，一般使用光刻法。然而，存在需要曝光装置等高价机材、工序数多且作业复杂等问题。因此，正在讨论采用压印法以取代光刻法。在压印法中，在基板上所设置的树脂膜上，压接具有凹凸图案形状的模具，以转印图案形状，之后，通过使树脂膜固化，可形成具有凹凸图案的树脂膜。通过该方法，可通过单纯的操作形成更微细的图案，并且能减低成本。然而，在使模具压接于树脂膜时，在模具的凸部与基板之间，无论怎样都会产生间隙，在该间隙中会形成薄树脂膜(将其称为残膜)，因此必须除去残膜，但要干净地除去该残膜则非常困难，因此对压印法的采用仍有所犹豫。专利文献1记载了，在石英基板上形成具有遮光性的铬膜，并对其进行蚀刻，由此制成具有凹凸图案形状并且在所述凸部具有具遮本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种复制模具形成用树脂组合物，其在200～450nm中至少一个波长处的光透射率为50％以上，并且含有热塑性或热固性树脂(A)与具有吸收所述波长的光线或使其散射的作用的化合物(B)，且相对于所述(A)100重量份，以0.5～50重量份的比例含有所述(B)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.11.18 JP 2016-2252261.一种复制模具形成用树脂组合物，其在200～450nm中至少一个波长处的光透射率为50％以上，并且含有热塑性或热固性树脂(A)与具有吸收所述波长的光线或使其散射的作用的化合物(B)，且相对于所述(A)100重量份，以0.5～50重量份的比...

【专利技术属性】
技术研发人员：三宅弘人，堤圣晴，
申请(专利权)人：株式会社大赛璐，
类型：发明
国别省市：日本,JP