【技术实现步骤摘要】
等离子喷射式石墨烯透明导电膜基材预处理方法
本专利技术属于石墨烯透明导电膜制备领域，具体涉及到一种等离子喷射式石墨烯透明导电膜基材预处理方法。
技术介绍
石墨烯是一种理想的光子与光电子材料,石墨烯透明导电膜可以广泛应用于手机、平板电脑和触摸屏设备等领域，是一种应用非常广泛电子工业基础材料。现有常规的石墨烯透明导电薄膜制备方法，一般是CVD法，需要先在铜箔上生长形成石墨烯膜，然后再涂抹一层有机玻璃保护层，然后溶蚀掉铜箔后将石墨烯膜转移到薄膜基材表面，然后再去掉有机玻璃保护层。这种制备方法，存在工艺条件苛刻；操作工艺复杂；存在无法克服的内在、固有缺陷，导致成品率低于40%，成本高，效率低，无法实现连续生产；且产品只有较低的导电/透光比，即品质因数低，导电性能较差等缺陷。专利申请号201510481379.7曾公开过一种石墨烯薄膜的制备方法，采用超声波浸泡搅拌氧化石墨烯、过滤杂质、将氧化石墨烯溶液涂布到PET薄膜上、碳化、石墨化并得到石墨烯薄膜。但这种方式仍然存在工艺复杂，且碳化和石墨化步骤难以精确控制，导致产品质量较差的缺陷。这种制备方式并不能得到可用的PET承载的石...
【技术保护点】
1.一种等离子喷射式石墨烯透明导电膜基材预处理方法，其特征在于，采用氢气、氧气、氮气或者氦气等处理气体，经过交流电磁场处理使其等离子化并喷出到基材表面；以对薄膜基材进行表面改性预处理，清洗表面及降低表面张力，并在表面生成极性基团。
【技术特征摘要】
1.一种等离子喷射式石墨烯透明导电膜基材预处理方法，其特征在于，采用氢气、氧气、氮气或者氦气等处理气体，经过交流电磁场处理使其等离子化并喷出到基材表面；以对薄膜基材进行表面改性预处理，清洗表面及降低表面张力，并在表面生成极性基团。2.如权利要求1所述的等离子喷射式石墨烯透明导电膜基材预处理方法，其特征在于，采用气体等离子喷射处理装置实现，所述气体等离子喷射处理装置包括水平设置的基板，基板位于薄膜基材一段水平路径上方，基板下表面竖直向下固定设置有由喷射炬喷管构成的离子喷射炬阵列，喷射炬喷管为绝缘材料制得，喷射炬喷管上端连接气源，喷射炬喷管外周侧面上沿直径方向的两端还固定设置有成对的电极，还设置有和电极相连的控制器。3.如权利要求2所述的等离子喷射式石墨烯透明导电膜基材预处理方法，其特征在于，所述喷射炬喷管为均匀但错位排布在基板上的多排。4.如权利要求2所述的等离子喷射式石墨烯透明导电膜基材预处理方法，其特征在于，所述喷射炬喷管上设置有两对电极，两对电极沿竖向间隔排布，且每对电极连线方向垂直布置。5.一种卷对卷石墨烯透明导电膜连续制备方法，其特征在于，包括依次连续进行的以下步骤：a、采用权利要求3或4所述的等离子喷射式石墨烯透明导电膜基材预处理方法实现对透明的薄膜基材进行表面改性预处理，清洗表面及降低表面张力；b、薄膜基材表面连续涂布多功能底涂层，使其进一步降低表面张力，增加与石墨烯导电材料层的结合力；c、再涂布至少一层石墨烯材料层，石墨烯材料层至少包括若干微小片状石墨烯，以及其上生长的金属纳米线；d、使得涂布铺展在多功能底涂层上的石墨烯材料上的金属纳米线之间无数个相互搭接点熔接为整体，且各层之间固定为一体；d步骤后还包括e步骤、在上述步骤处理后的薄膜基材表面连续涂布增透光学匹配层；e步骤后还包括步骤f覆膜，...
【专利技术属性】
技术研发人员：王昉，蒋彦，吴德操，彭格，余政霖，徐化力，王永禄，冉超志，钟朝伦，王珩，刘先康，吴至一，王子猷，
申请(专利权)人：重庆元石盛石墨烯薄膜产业有限公司，
类型：发明
国别省市：重庆,50
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