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本发明公开了一种等离子喷射式石墨烯透明导电膜基材预处理方法,其特征在于,采用氢气、氧气、氮气或者氦气等处理气体,经过交流电磁场处理使其等离子化并喷出到基材表面;以对薄膜基材进行表面改性预处理,清洗表面及降低表面张力,并在表面生成极性基团。还...该专利属于重庆元石盛石墨烯薄膜产业有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过重庆元石盛石墨烯薄膜产业有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种等离子喷射式石墨烯透明导电膜基材预处理方法,其特征在于,采用氢气、氧气、氮气或者氦气等处理气体,经过交流电磁场处理使其等离子化并喷出到基材表面;以对薄膜基材进行表面改性预处理,清洗表面及降低表面张力,并在表面生成极性基团。还...