【技术实现步骤摘要】
用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置
本专利技术涉及一种洗涤装置,特别是涉及一种用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置。
技术介绍
湿式蚀刻清洗台广泛用于半导体等制程。以半导体湿式蚀刻清洗台为例,其会产生包括例如异丙醇(IPA)等有机溶剂气体的排气。这些含有异丙醇气体的排气必须以洗涤装置加以洗涤去除,以避免造成空污问题。一般洗涤装置是利用至少两个水洗部中的喷头喷洒水液,而将排气中的异丙醇气体洗涤去除。然而,被水洗去除的异丙醇落至贮水槽中,再排至环境中,反而造成水污染问题。因此,有必要寻求解决方案。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置,适用于处理来自湿式蚀刻清洗台的排气中的醇类,并包含入口部,所述入口部做为所述来自湿式蚀刻清洗台的排气的入口。所述用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置还包含过滤部。所述过滤部衔接于所述入口部的出口,并包括化学滤材。所述化学滤材用于吸附来自所述入口部的排气中的醇类,且为经改质过后的活性碳本专利技术用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置,所述化学滤材的形状为矩形体,且所述过滤部还包括用于铅直地安装所述化学滤材的安装架。本专利技术用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置,还包含位于所述过滤部下游处且包括至少一个喷头的水洗部,所述喷头是利用水液洗涤来自所述过滤部的排气中的残余醇类。本专利技术用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置,所述水洗部包括数个喷头。本专利技术用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置,还包含位于所述水洗部下方并用于盛接所述喷头喷出的水液的水槽。本专利技术用于湿 ...
【技术保护点】
1.一种用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置,适用于处理来自湿式蚀刻清洗台的排气中的醇类,并包含入口部,所述入口部做为所述来自湿式蚀刻清洗台的排气的入口,其特征在于,所述用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置还包含过滤部,所述过滤部衔接于所述入口部的出口,并包括化学滤材,所述化学滤材用于吸附来自所述入口部的排气中的醇类,且为经改质过后的活性碳。
【技术特征摘要】
1.一种用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置,适用于处理来自湿式蚀刻清洗台的排气中的醇类,并包含入口部,所述入口部做为所述来自湿式蚀刻清洗台的排气的入口,其特征在于,所述用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置还包含过滤部,所述过滤部衔接于所述入口部的出口,并包括化学滤材,所述化学滤材用于吸附来自所述入口部的排气中的醇类,且为经改质过后的活性碳。2.根据权利要求1所述的用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置,其特征在于:所述化学滤材的形状为矩形体,且所述过滤部还包括用于铅直地安装所述化学滤材的安装架。3.根据权利要求1所述的用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗涤装置,其特征在于:还包含位于所述过滤部下游处且包括至少一个喷头的水洗部,所述喷头是利用水液洗涤来自所述过滤部的排气中的残余醇类。4.根据权利要求3所述的用于湿式蚀刻清洗台的排气的高吸附洗...
【专利技术属性】
技术研发人员:李建霖,曾伟庭,高浩鑫,洪伟珉,
申请(专利权)人:汉科系统科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾,71
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