【技术实现步骤摘要】
一种含镍废水深度处理装置
本技术涉及工业废水处理
，具体涉及一种含镍废水深度处理装置。
技术介绍
半导体生产过程中的镀镍环节会产生大量的含镍废水，而镍作为第一类污染物，其排放须严格遵循GB21900-2008《电镀污染物排放标准》，其中当前执行的表2标准(简称表2)中要求排放废水中总镍的浓度不可超过0.5mg/L，更为严格的表3标准(简称表3)中要求不可超过0.1mg/L。这对含镍废水处理技术的开发提出了新的要求和导向。化学沉淀法是电镀工业中应用最广泛的除镍方法，它具有操作简单、原料易得、处理成本低、管理方便等的有点，但是单一的化学沉淀法已经很难满足GB21900-2008《电镀污染物排放标准》表2、表3的高排放要求。专利CN104086022A公开了一种含镍废水的处理方法，其包含氧化破络、加碱沉淀、共沉淀的工艺。在加碱沉淀后，再加入沉淀剂和混凝剂，产生共沉淀，强化除镍效果。但是，其出水尚不能达到表3中要求的＜0.1mg/L。此外，在加碱沉淀后，为形成共沉淀，势必会大量使用沉淀剂，增加了日常运营成本。因此，急需含镍废水一种深度处理的装置，以便能够对现有的工艺进行升级改造，从而实现含镍废水的达标排放。
技术实现思路
专利技术目的：本技术提供一种含镍废水深度处理装置，以解决现有技术存在的含镍废水处理时出水总镍浓度无法达到高排放标准的问题。技术方案：本技术公开了一种含镍废水深度处理装置，包括依次连接的加碱池、沉淀池、pH调节池、暂存池、提升泵、保安过滤器、螯合树脂塔和排水池。其中，所述沉淀池为竖流沉淀池。经过预处理的水进入到加碱池，调节pH为碱性后废水自流入竖流式...
【技术保护点】
1.一种含镍废水深度处理装置，其特征是，包括依次连接的加碱池(1)、沉淀池(2)、pH调节池(3)、暂存池(4)、提升泵(5)、保安过滤器(6)、螯合树脂塔(7)和排水池(8)。
【技术特征摘要】
1.一种含镍废水深度处理装置，其特征是，包括依次连接的加碱池(1)、沉淀池(2)、pH调节池(3)、暂存池(4)、提升泵(5)、保安...
【专利技术属性】
技术研发人员：陆晟星，熊江磊，彭文刚，章星异，庞毓旻，陈义，
申请(专利权)人：江苏中电创新环境科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。