一种除硼树脂的制法及其在超纯水制造系统中的应用技术方案

本发明专利技术公开了一种除硼树脂的制备方法，包括如下步骤：(1)将壳聚糖溶解在乙酸水溶液中，得到呈黏稠状的壳聚糖溶液；再往其中加入NaOH溶液，壳聚糖与NaOH反应形成颗粒，颗粒硬化后用蒸馏水冲洗干净，得到壳聚糖颗粒；(2)将壳聚糖颗粒溶解在异丙醇中，搅拌均匀并静置，静置后再往其中加入环氧氯丙烷，调节pH＝11，以不低于65℃的高温回流不低于5小时；反应后过滤，用乙醇洗涤未反应的环氧氯丙烷，得到产物I；(3)将产物I加入二恶烷和乙醇的混合溶液中，再往其中加入三乙胺和2‑氨基‑1,3‑丙二醇，以不低于60℃的高温回流不低于8小时；反应后过滤，用乙醇洗涤未反应的2‑氨基‑1,3‑丙二醇，得到球形壳聚糖除硼树脂。本发明专利技术还公开了上述方法制得的除硼树脂在超纯水制造系统中的应用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种除硼树脂的制备方法，还涉及上述方法制得的除硼树脂在超纯水制造系统中的应用。

技术介绍

1、在半导体、液晶面板等电子设备制造领域，为了清洗产品，需要使用大量含有极少量杂质、离子和有机物的超纯水。伴随着半导体制程的减小、晶圆尺寸的扩大，对所使用的超纯水提出了越来越高的要求。随着超纯水水质要求的提升，对超纯水中硼含量要求低于20ng/l。

2、硼(b)是一种p型杂质，它会使n型硅发生反转，并对载流子浓度产生影响，从而影响半导体制程中得到的产品的良率。近年来，超纯水制造系统中深度除硼技术主要采用除硼树脂，这是一种螯合树脂，可以与硼酸形成非常稳定的配合物，而对其它阴离子呈惰性，有助于与水体中硼酸根离子形成稳定的络合物，从而去除硼酸盐。现有除硼树脂大部分为含n-甲基-d-葡糖胺功能基的硼螯合树脂，这类除硼树脂除硼效率受溶液ph值影响较大，弱碱性环境有利于树脂吸附b(oh)4-形式的硼酸，而超纯水的ph一般低于7，因此硼去除效率较低。另外目前超纯水制造系统中，通常将除硼树脂放置于超纯水制造系统的抛光阶段，抛光阶段属于超纯水制造系统的水质把关本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种除硼树脂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的除硼树脂的制备方法，其特征在于：步骤(1)中，壳聚糖与乙酸水溶液的质量体积比为1g：20～25mL。

3.根据权利要求1所述的除硼树脂的制备方法，其特征在于：步骤(1)中，乙酸水溶液与NaOH溶液的体积比为5：3～4；乙酸水溶液的质量浓度为8～10％；NaOH溶液的质量浓度为3～5％。

4.根据权利要求1所述的除硼树脂的制备方法，其特征在于：步骤(1)中，颗粒的硬化时间为不低于12小时。

5.根据权利要求1所述的除硼树脂的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，壳聚...

【技术特征摘要】

1.一种除硼树脂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的除硼树脂的制备方法，其特征在于：步骤(1)中，壳聚糖与乙酸水溶液的质量体积比为1g：20～25ml。

3.根据权利要求1所述的除硼树脂的制备方法，其特征在于：步骤(1)中，乙酸水溶液与naoh溶液的体积比为5：3～4；乙酸水溶液的质量浓度为8～10％；naoh溶液的质量浓度为3～5％。

4.根据权利要求1所述的除硼树脂的制备方法，其特征在于：步骤(1)中，颗粒的硬化时间为不低于12小时。

5.根据权利要求1所述的除硼树脂的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，壳聚糖颗粒与环氧氯丙烷的质量体积比为1g：4.5～5ml。

6.根据权利要求1所述的除硼树脂的制备方法，其特征在于：步骤(3)中，混合溶液中，二恶烷和乙醇的混合体积比为1：1。

7.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊江磊，潘婷，田宇鸣，周伟，陈炜彧，高康，罗嘉豪，冯骞，
申请(专利权)人：江苏中电创新环境科技有限公司，
类型：发明
国别省市：