【技术实现步骤摘要】
一种薄膜光学常数测量装置
本技术涉及薄膜光学常数的测量
，特别涉及一种薄膜光学常数的测量装置。
技术介绍
常用的光学薄膜如减反射薄膜，高反射薄膜，滤光膜，偏振膜等一般都是用两种（或多种）折射率不同的镀膜材料，交替镀制得到的多层膜结构。这些薄膜中，虽然相邻两层膜的折射率不同，但对于同一层膜而言，其内部的折射率却近似均匀一致，不随厚度发生变化，是折射率稳定的均匀膜。由于多层膜的层与层之间存在着界面，而界面处最容易富集缺陷与杂质，界面处的吸收系数往往比体吸收大几个数量级，并且存在很大的应力，这常常导致薄膜在强激光下很容易发生损伤，因此界面的存在是多层膜系在激光系统中损伤阈值不高的重要原因。另一方面，众多的研究表明，薄膜内部的电场强度分布也是影响其激光损伤能力的重要因素：如果膜层与膜层界面处的电场强度较大，则很难提高整个膜系的激光损伤阈值。因此设计上需要不断进行优化，寻求合理的膜系结构，使驻波电场强度的峰值远离界面区域，可在一定程度上提高薄膜的抗激光损伤能力，但由于分层介质膜系本身的局限性，很难使电场强度的所有峰值都远离膜层界面，因此能获得的效果非常有限。由于单层膜...
【技术保护点】
1.一种梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量装置，其特征在于：包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源（7），所述真空系统包括真空室（4）和样品台（5）；所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪（8）；所述样品台（5）安装在真空室（4）的顶部，离子源（7）安装在真空室（4）底部，其离子束输出口正对样品台（5）设置；所述椭偏参数检测系统由光源（1）、起偏器（2）、波片（3）、检偏器（9）和探测器（10）组成且位于真空室（4）的外部，真空室（4）的两侧相对设置有入射光路窗口和出射光路窗口，所述起偏器（2）和波片（3）依次设置于光源（1）的入射光路上，光源（1）发出的光经起偏...
【技术特征摘要】
1.一种梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量装置，其特征在于：包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源（7），所述真空系统包括真空室（4）和样品台（5）；所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪（8）；所述样品台（5）安装在真空室（4）的顶部，离子源（7）安装在真空室（4）底部，其离子束输出口正对样品台（5）设置；所述椭偏参数检测系统由光源（1）、起偏器（2）、波片（3）、检偏器（9）和探测器（10）组成且位于真空室（4）的外部，真空室（4）的两侧相对设置有入射光路窗口和出射光路窗口，所述起偏器（2）和波片（3...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐均琪，苏俊宏，惠迎雪，李建超，吴慎将，杨利红，李阳，诗云云，
申请(专利权)人：西安工业大学，
类型：新型
国别省市：陕西,61
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