一种石英晶片检测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种石英晶片检测装置，包括控制器，输送带一，输送带二，输送带三，定位座，气缸一，气杆一，检测架，安装架，气缸二，气杆二，活动块一，气缸三，气杆三，吸嘴，拨料装置，限位架，所述的控制器在安装架的一侧，其特征在于：所述的输送带一在检测架的一侧，所述的输送带一在检测架的一端，所述的气缸一安装在定位座上，所述的气杆一与气缸一连接，所述的检测架安装在气杆一上，所述的活动块一安装在导轨一上，所述的气缸二安装在安装架上，所述的限位架在检测块的上方，所述的拨料装置在限位架的下方。本实用新型专利技术通过石英晶片检测装置的设置，实现了石英晶片尺寸的自动化检测，提高了生产效率，降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】
一种石英晶片检测装置
本技术涉及一种石英晶片检测装置。
技术介绍
现有的石英晶片一般都采用半自动化进行测量检测，不但生产效率低，同时生产成本也较高。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，本技术提供了一种石英晶片检测装置。为解决上述问题，本技术所采用的技术方案是：一种石英晶片检测装置，包括控制器，输送带一，输送带二，输送带三，定位座，气缸一，气杆一，检测架，安装架，气缸二，气杆二，活动块一，气缸三，气杆三，吸嘴，拨料装置，限位架，所述的控制器在安装架的一侧，其特征在于：所述的输送带一在检测架的一侧，所述的输送带一在检测架的一端，所述的气缸一安装在定位座上，所述的气杆一与气缸一连接，所述的检测架安装在气杆一上，所述的检测架包括检测块，下料道，踢料道，所述的检测块的一侧为下料道，所述的检测块的另一侧为踢料道，所述的安装架安装在定位座的一侧，所述的安装架上设有导轨一，所述的活动块一安装在导轨一上，所述的气缸二安装在安装架上，所述的气杆二一端与气缸二连接，所述的气杆二另一端与活动块一连接，所述的活动块一下方安装有气缸三，所述的气杆三一端与气缸三连接，所述的气杆三另一端与吸嘴连接，所述的限位架在检测块的上方，所述的拨料装置在限位架的下方。作为一种优选，所述的输送带一上设有传感器一。作为一种优选，所述的下料道与踢料道下方设有下限位传感器。作为一种优选，所述的限位架下方设有上限位传感器。作为一种优选，所述的拨料装置包括导轨二，活动块二，气缸四，气杆四，气缸五，拨料端，所述的导轨二安装在安装架的中部，所述的活动块二安装在导轨二上，所述的气缸四固定在导轨二的一端，所述的气杆四一端与气缸四连接，所述的气杆四另一端与活动块二连接，所述的气缸五安装在活动块二上，所述的拨料端安装在气缸五的一端。作为一种优选，所述的检测块为红外检测板。作为一种优选，所述的安装架一侧设有空压机。作为一种优选，所述的输送带一一侧安装有电机一。作为一种优选，所述的输送带二一侧安装有电机二。作为一种优选，所述的输送带三一侧安装有电机三。由于采用了上述技术方案，与现有技术相比，本技术通过石英晶片检测装置的设置，实现了石英晶片尺寸的自动化检测，提高了生产效率，降低了生产成本。同时下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步说明。附图说明图1为本技术一种石英晶片检测装置的正视图。图2为本技术一种石英晶片检测装置的右视图。图3为本技术一种石英晶片检测装置的右剖视图。图4为本技术一种石英晶片检测装置的轴视图。图5为本技术一种石英晶片检测装置的局部视图一。图中：1、控制器，2、输送带一，3、输送带二，4、输送带三，5、定位座，6、气缸一，7、气杆一，8、检测架，81、检测块，82、下料道，83、踢料道，9、安装架，10、气缸二，11、气杆二，12、活动块一，13、气缸三，14、气杆三，15、吸嘴，16、拨料装置，161、导轨二，162、活动块二，163、气缸四，164、气杆四，165、气缸五，166、拨料端，17、限位架，18、导轨一，19、传感器一，20、下限位传感器，上限位传感器21，22、电机一，23、电机二，24、电机二，25、空压机。具体实施方式实施例：如图1-5所示，一种石英晶片检测装置，包括控制器1，输送带一2，输送带二3，输送带三4，定位座5，气缸一6，气杆一7，检测架8，安装架9，气缸二10，气杆二11，活动块一12，气缸三13，气杆三14，吸嘴15，拨料装置16，限位架17，所述的控制器1在安装架9的一侧，其特征在于：所述的输送带一2在检测架8的一侧，所述的输送带一2在检测架8的一端，所述的气缸一6安装在定位座5上，所述的气杆一7与气缸一6连接，所述的检测架8安装在气杆一7上，所述的检测架8包括检测块81，下料道82，踢料道83，所述的检测块81的一侧为下料道82，所述的检测块81的另一侧为踢料道83，所述的安装架9安装在定位座5的一侧，所述的安装架9上设有导轨一18，所述的活动块一12安装在导轨一18上，所述的气缸二10安装在安装架9上，所述的气杆二11一端与气缸二10连接，所述的气杆二11另一端与活动块一12连接，所述的活动块一12下方安装有气缸三13，所述的气杆三14一端与气缸三13连接，所述的气杆三14另一端与吸嘴15连接，所述的限位架17在检测块81的上方，所述的拨料装置16在限位架17的下方。进一步的，所述的输送带一2上设有传感器一19，通过传感器一19的设置，实现了输送带一2上石英晶片的信息反馈。进一步的，所述的下料道82与踢料道83下方设有下限位传感器20，通过下限位传感器20的设置，实现了下料道82与踢料道83的下行限位。进一步的，所述的限位架17下方设有上限位传感器21，通过上限位传感器21的设置，实现了检测架8上行的上限位进行限制。进一步的，所述的拨料装置16包括导轨二161，活动块二162，气缸四163，气杆四164，气缸五165，拨料端166，所述的导轨二161安装在安装架9的中部，所述的活动块二162安装在导轨二61上，所述的气缸四163固定在导轨二161的一端，所述的气杆四164一端与气缸四163连接，所述的气杆四164另一端与活动块二162连接，所述的气缸五165安装在活动块二162上，所述的拨料端166安装在气缸五165的一端，通过拨料装置16，对检测后的石英晶片进行分类拨送。进一步的，所述的检测块81为红外检测板，通过红外检测板的设置，能够对石英晶片的尺寸进行精准检测，确保分类。进一步的，所述的安装架9一侧设有空压机25，通过空压机25的设置，为气缸一6，气缸二10，气缸三13，气缸四163，气缸五165和吸嘴15提供高压空气。进一步的，所述的输送带一2一侧安装有电机一22，通过电机一22的设置，为输送带一2提供了动力。进一步的，所述的输送带二3一侧安装有电机二23，通过电机二23的设置，为输送带二3提供了动力。进一步的，所述的输送带三4一侧安装有电机三24，通过电机二24的设置，为输送带二4提供了动力。本技术中，通过输送带一2将石英晶片输送至传感器一19一侧，当传感器一19感应到石英晶片，电机一22停止作业，通过气缸一6推动气杆一7上行，从而带动检测架8上行，通过上限位传感器21，实现了检测架8的上限位，随后通过气缸二10推动气杆二11，气缸三13推动气杆三14下行，通过吸嘴15将石英晶片吸起，随后通过气缸二10带动气杆二11后移，从而带动活动块一12后移，从而带动气缸三13和气杆三14后移，随后通过吸嘴15将石英晶片放置在检测块81上，通过限位架9对石英晶片进行限位，随后通过检测块8对石英晶片的尺寸进行检测，当尺寸符合要求时，通过拨料装置16的气缸四163推动气杆四164，通过气缸五165推动拨料端166，将石英晶片拨至下料道82，通过下料道82输送至输送带二3上，当尺寸不符合要求时，通过拨料装置16的气缸四163推动气杆四164，通过气缸五165推动拨料端166，将石英晶片拨至踢料道83，通过踢料道83输送至输送带三4上，满足石英晶片的尺寸检测。由于采用了上述技术方案，与现有技术相比，本技术通过石英晶片检测装置的设置，实现了石英晶片尺寸的自动化本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种石英晶片检测装置，包括控制器，输送带一，输送带二，输送带三，定位座，气缸一，气杆一，检测架，安装架，气缸二，气杆二，活动块一，气缸三，气杆三，吸嘴，拨料装置，限位架，所述的控制器在安装架的一侧，其特征在于：所述的输送带一在检测架的一侧，所述的输送带一在检测架的一端，所述的气缸一安装在定位座上，所述的气杆一与气缸一连接，所述的检测架安装在气杆一上，所述的检测架包括检测块，下料道，踢料道，所述的检测块的一侧为下料道，所述的检测块的另一侧为踢料道，所述的安装架安装在定位座的一侧，所述的安装架上设有导轨一，所述的活动块一安装在导轨一上，所述的气缸二安装在安装架上，所述的气杆二一端与气缸二连接，所述的气杆二另一端与活动块一连接，所述的活动块一下方安装有气缸三，所述的气杆三一端与气缸三连接，所述的气杆三另一端与吸嘴连接，所述的限位架在检测块的上方，所述的拨料装置在限位架的下方。

【技术特征摘要】
1.一种石英晶片检测装置，包括控制器，输送带一，输送带二，输送带三，定位座，气缸一，气杆一，检测架，安装架，气缸二，气杆二，活动块一，气缸三，气杆三，吸嘴，拨料装置，限位架，所述的控制器在安装架的一侧，其特征在于：所述的输送带一在检测架的一侧，所述的输送带一在检测架的一端，所述的气缸一安装在定位座上，所述的气杆一与气缸一连接，所述的检测架安装在气杆一上，所述的检测架包括检测块，下料道，踢料道，所述的检测块的一侧为下料道，所述的检测块的另一侧为踢料道，所述的安装架安装在定位座的一侧，所述的安装架上设有导轨一，所述的活动块一安装在导轨一上，所述的气缸二安装在安装架上，所述的气杆二一端与气缸二连接，所述的气杆二另一端与活动块一连接，所述的活动块一下方安装有气缸三，所述的气杆三一端与气缸三连接，所述的气杆三另一端与吸嘴连接，所述的限位架在检测块的上方，所述的拨料装置在限位架的下方。2.如权利要求1所述的石英晶片检测装置，其特征在于：所述的输送带一上设有传感器一。3.如权利要求1所述的石英晶片检...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘文越，葛四合，邓天将，
申请(专利权)人：益阳市华光科技电子有限公司，
类型：新型
国别省市：湖南,43