光刻胶喷涂装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及半导体制备领域，针对光刻胶结晶的问题，提供了一种光刻胶喷涂装置，该技术方案如下：包括基座、工作台、主支架，主支架上设有喷头，基座上设有储液瓶，喷头包括与储液瓶连通的储液管，储液管一端朝向工作台，储液管朝向工作台的端部连接有覆盖储液管管口的挡板，挡板上开有若干喷液孔，挡板上滑动连接有隔断板，隔断板上开有若干过渡孔，过渡孔与喷液孔一一对应，储液管设有驱动隔断板滑动以使过渡孔与喷液孔正对或相错的驱动组件。喷涂完毕后，通过隔断板与挡板配合封闭储液管，使得储液管内的光刻胶的溶剂难以挥发，进而减少光刻胶结晶的情况，减少光刻胶结晶导致无法使用的情况，减少浪费。

Photoresist Spraying Device

The utility model relates to the field of semiconductor preparation. To solve the problem of photoresist crystallization, a photoresist spraying device is provided. The technical scheme is as follows: a base, a worktable, a main support, a sprinkler head on the main support, a liquid storage bottle on the base, a sprinkler head including a liquid storage pipe connected with the liquid storage bottle, one end of the liquid storage pipe faces the worktable, and the liquid storage pipe faces the end of the worktable. A baffle covering the orifice of the liquid storage pipe is connected with a number of spray holes on the baffle. The baffle slides and connects with a partition plate. There are several transition holes on the partition plate. The transition holes correspond to the spray holes one by one. The liquid storage pipe is equipped with a driving component to slide the driving partition plate so that the transition holes and the liquid injection holes are right or wrong. After spraying, the separator and baffle are used to close the liquid storage tube, which makes the solvent of the photoresist in the liquid storage tube difficult to volatilize, thus reducing the situation of photoresist crystallization, reducing the situation that photoresist crystallization can not be used, and reducing waste.

【技术实现步骤摘要】
光刻胶喷涂装置
本技术涉及半导体制备领域，尤其是涉及一种光刻胶喷涂装置。
技术介绍
在半导体制作中，需要通过在半导体元件上喷涂光刻胶以为下一步刻蚀做好工艺准备。光刻胶需要通过溶剂溶解以形成粘稠液态，方能喷涂，而溶剂易于挥发，使得光刻胶暴露在空气中时，容易因溶剂挥发导致结晶，进而使得喷头在暂停作业一段时间后可能因为喷头端部残留的光刻胶结晶导致粘性消失而滴落，甚至使得喷头内光刻胶全部结晶而滴落，导致浪费，因此，还有改善空间。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种光刻胶喷涂装置，具有减少浪费的优点。为实现上述目的，本技术提供了如下技术方案：一种光刻胶喷涂装置，包括基座，所述基座上设有工作台，还包括沿水平方向滑动的主支架，所述主支架上沿垂直于主支架滑动方向的水平方向滑动连接有喷头，所述基座上设有驱动主支架滑动的主驱动件以及驱动喷头滑动的副驱动件，所述基座上设有储液瓶，所述喷头包括与储液瓶连通的储液管，所述储液管一端朝向工作台，所述储液管朝向工作台的端部连接有覆盖储液管管口的挡板，所述挡板上开有若干喷液孔，所述挡板上滑动连接有隔断板，所述隔断板上开有若干过渡孔，所述过渡孔与喷本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻胶喷涂装置，其特征是：包括基座(1)，所述基座(1)上设有工作台(2)，还包括沿水平方向滑动的主支架(3)，所述主支架(3)上沿垂直于主支架(3)滑动方向的水平方向滑动连接有喷头(5)，所述基座(1)上设有驱动主支架(3)滑动的主驱动件(31)以及驱动喷头(5)滑动的副驱动件(41)，所述基座(1)上设有储液瓶(7)，所述喷头(5)包括与储液瓶(7)连通的储液管(51)，所述储液管(51)一端朝向工作台(2)，所述储液管(51)朝向工作台(2)的端部连接有覆盖储液管(51)管口的挡板(52)，所述挡板(52)上开有若干喷液孔(521)，所述挡板(52)上滑动连接有隔断板(53)，所...

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶喷涂装置，其特征是：包括基座(1)，所述基座(1)上设有工作台(2)，还包括沿水平方向滑动的主支架(3)，所述主支架(3)上沿垂直于主支架(3)滑动方向的水平方向滑动连接有喷头(5)，所述基座(1)上设有驱动主支架(3)滑动的主驱动件(31)以及驱动喷头(5)滑动的副驱动件(41)，所述基座(1)上设有储液瓶(7)，所述喷头(5)包括与储液瓶(7)连通的储液管(51)，所述储液管(51)一端朝向工作台(2)，所述储液管(51)朝向工作台(2)的端部连接有覆盖储液管(51)管口的挡板(52)，所述挡板(52)上开有若干喷液孔(521)，所述挡板(52)上滑动连接有隔断板(53)，所述隔断板(53)上开有若干过渡孔(531)，所述过渡孔(531)与喷液孔(521)一一对应，所述储液管(51)设有驱动隔断板(53)滑动以使过渡孔(531)与喷液孔(521)正对或相错的驱动组件(9)，所述储液瓶(7)设有投料口以及封闭投料口的瓶盖(73)，所述基座(1)还设有对储液瓶(7)加压的抽气装置(8)。2.根据权利要求1所述的光刻胶喷涂装置，其特征是：所述驱动组件(9)包括分别固定于隔断板(53)沿滑动方向两端的铁片(93)以及固定于储液管(51)上的开电磁铁(91)以及闭电磁铁(92)，所述开电磁铁(91)以及闭电磁铁(92)分别位于隔断板(...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈冬，张宇，杨维，
申请(专利权)人：深圳市致行科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44