The application discloses a gluing device and a gluing method. The gluing device includes a substrate placement area for placing a substrate to be glued. A movable sprinkler is arranged above the substrate placement area. The sprinkler is used for spraying photoresist, and a plurality of lasers are arranged below the substrate placement area. According to the technical scheme provided by the embodiment of this application, the irregular flow of photoresist caused by the transmission of the substrate can be effectively prevented by adding several lasers to the coating equipment to solidify the edge of the substrate, the uniformity of the photoresist film before exposure can be improved, the exposure accuracy can be improved, the residual photoresist can be effectively prevented, and the photoresist can be coated at the same time. The integration of coating and curing saves the following steps and reduces the production time of single product.
【技术实现步骤摘要】
涂胶设备及涂胶方法
本专利技术一般涉及面板制备领域，尤其涉及涂胶设备及涂胶方法。
技术介绍
目前，薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，以下简称TFT-LCD)以其薄体积，宽视角，高清晰等优点，已成为当今市场主流的平板显示器件，并且随着经济的发展，电视显示面板逐渐趋于大尺寸化，这对像素充电能力、工艺均匀性都提出了更大的挑战。为了提高面板像素充电能力，最直接有效的方式就是增大金属导电膜层厚度，以降低面电阻，抵消信号传输过程中由于电阻消耗引起的电压降低。当前TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)基板的主要制备流程为镀膜、光刻、刻蚀三大工艺，其中光刻工艺是在镀膜膜层上均匀涂覆光刻胶，利用掩膜板在曝光机的作用下进行区域曝光，最后利用显影液将发生曝光的光刻胶显影掉形成特征图案，光刻胶特征图案作为后续Etch工艺的阻挡层保护下方镀膜，光刻工艺形成的图案质量直接决定最终形成的图案。当前高世代线光刻工艺中的光刻胶涂覆单元主要为精细刮涂，涂覆完的基板由机械手臂取出放置于减压干燥单元进行光刻胶固化。液...
【技术保护点】
1.一种涂胶设备，其特征在于，包括基板放置区，所述基板放置区用于放置待涂胶基板，所述基板放置区上方设有可移动喷头，所述喷头用于喷涂光刻胶，所述基板放置区下方设有多个激光器。
【技术特征摘要】
1.一种涂胶设备，其特征在于，包括基板放置区，所述基板放置区用于放置待涂胶基板，所述基板放置区上方设有可移动喷头，所述喷头用于喷涂光刻胶，所述基板放置区下方设有多个激光器。2.根据权利要求1所述的涂胶设备，其特征在于，多个所述激光器均匀分布在所述基板放置区下方。3.根据权利要求2所述的涂胶设备，其特征在于，所述基板放置区与所述激光器之间还设有多个温度传感器。4.根据权利要求3所述的涂胶设备，其特征在于，所述激光器与所述温度传感器一一对应设置。5.根据权利要求1-4任一所述的涂胶设备，其特征在于，还包括涂胶腔室，所述基板放置区、所述可移动喷头以及所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：汪涛，高锦成，刘泽旭，张瑞锋，李涛，钱海蛟，刘知畅，
申请(专利权)人：合肥京东方显示技术有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34
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