【技术实现步骤摘要】
一种平面直线位移监测控制系统
本专利技术涉及检测控制系统
，特别涉及一种平面直线位移监测控制系统。
技术介绍
近年来，随着我国工业水平的不断提高，在国防工业、航天宇航技术、生物工程、微电子工程、纳米科学与技术等多种领域对超精密技术的需求日益迫切，精度的提高，意味着产品性能和质量大幅度地提高。具体的，微型机电系统的制造与检测、大规模集成电路的生产、超精密加工及其精密测量等等，都离不开超精密定位技术，超精密定位技术已成为精密工程领域的关键技术之一。随着压电驱动技术的发展，在一定程度上缓解了高精度测量难题，但是压电材料驱动行程小，其最大行程只有几十微米，然而超精密技术的发展，要求进给系统能够实现大行程范围内的超精密微位移。同时，为了实现大行程的位移输出，需要借助不同工作原理的驱动位移装置，比如油缸或气缸等驱动部件，此类驱动位移装置的工作行程很大，可满足生产制造过程中的工件大行程位移需求，但此类驱动位移装置的位移量控制比较粗糙，无法精确控制工件的位移量，容易出现位移偏差，无法适用于高精密工程的生产制造。为实现大行程位移输出，需要借助不同工作原理的驱动位移装置，比如组...
【技术保护点】
1.一种平面直线位移监测控制系统，其特征在于，包括基准支撑面(1)、设置于所述基准支撑面(1)上的直线驱动机构(2)、设置于所述直线驱动机构(2)的输出端上并用于在其动力驱动下进行直线位移的工件(3)、设置于所述基准支撑面(1)的表面上并用于检测所述工件(3)相对于所述基准支撑面(1)的位置变化信息的位移测量单元(4)，以及与所述位移测量单元(4)及所述直线驱动机构(2)信号连接、用于计算所述工件(3)的当前姿态修正量的计算单元(5)，与所述直线驱动机构(2)的控制端信号连接、用于根据所述计算单元(5)的计算结果控制所述直线驱动机构(2)改变驱动状态的控制单元(6)。
【技术特征摘要】
1.一种平面直线位移监测控制系统，其特征在于，包括基准支撑面(1)、设置于所述基准支撑面(1)上的直线驱动机构(2)、设置于所述直线驱动机构(2)的输出端上并用于在其动力驱动下进行直线位移的工件(3)、设置于所述基准支撑面(1)的表面上并用于检测所述工件(3)相对于所述基准支撑面(1)的位置变化信息的位移测量单元(4)，以及与所述位移测量单元(4)及所述直线驱动机构(2)信号连接、用于计算所述工件(3)的当前姿态修正量的计算单元(5)，与所述直线驱动机构(2)的控制端信号连接、用于根据所述计算单元(5)的计算结果控制所述直线驱动机构(2)改变驱动状态的控制单元(6)。2.根据权利要求1所述的平面直线位移监测控制系统，其特征在于，所述基准支撑面(1)的表面上设置有底部支撑板(7)，且所述直线驱动机构(2)设置于所述底部支撑板(7)的表面上。3.根据权利要求2所述的平面直线位移监测控制系统，其特征在于，所述直线驱动机构(2)包括若干根立设于所述底部支撑板(7)表面上的驱动组件(201)，且各根所述驱动组件(201)沿所述底部支撑板(7)的周向均匀分布。4.根据权利要求3所述的平面直线位移监测控制系统，其特征在于，所述驱动组件(201)在所述底部支撑板(7)的表面上分布有3～6根。5.根据权利要求3所述的平面直线位移监测控制系统，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：姚东，李全超，田大鹏，孟令通，沈宏海，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：吉林,22
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。