阻气性层合片、阻气性层合片的制造方法和电子部件或光学部件技术

技术编号:21281052 阅读:31 留言:0更新日期:2019-06-06 11:53
本发明专利技术涉及:阻气性层合片及其制造方法、以及具备来自上述阻气性层合片的阻气层和粘接性树脂层的电子部件和光学部件,所述阻气性层合片的特征在于:其是具有剥离片(A)/阻气层/粘接性树脂层/剥离片(B)的层结构的阻气性层合片,上述阻气层的剥离片(A)侧的表面的算术平均粗糙度(Ra)为5nm以下,上述表面的最大截面高度(Rt)为100nm以下。根据本发明专利技术,提供密封性能和屈挠性优异的阻气性层合片及其制造方法、以及具备来自上述阻气性层合片的阻气层和粘接性树脂层的电子部件和光学部件。

Manufacturing methods and electronic or optical components of gas-resisting laminates and gas-resisting laminates

The invention relates to a gas-resisting laminate and its manufacturing method, as well as electronic and optical components having a gas-resisting layer and an adhesive resin layer from the gas-resisting laminate. The gas-resisting laminate is characterized in that it is a layer-structured gas-resisting laminate with a stripping sheet (A)/a gas-resisting layer/an adhesive resin layer/a stripping sheet (B), and the surface of the stripping sheet (A) side of the gas-resisting layer. The arithmetic average roughness (Ra) of the surface is less than 5 nm, and the maximum cross-sectional height (Rt) of the surface is less than 100 nm. According to the invention, gas-resisting laminates with excellent sealing performance and flexibility and their manufacturing methods are provided, as well as electronic components and optical components having gas-resisting layer and adhesive resin layer from the gas-resisting laminates.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阻气性层合片、阻气性层合片的制造方法和电子部件或光学部件
本专利技术涉及密封性能和屈挠性(弯曲性)优异的阻气性层合片及其制造方法、以及具备来自上述阻气性层合片的阻气层和粘接性树脂层的电子部件和光学部件。
技术介绍
近年来,有机EL元件作为通过低电压直流驱动能够高亮度发光的发光元件而受到关注。然而,有机EL元件存在着以下问题:随着时间的流逝,其发光亮度、发光效率、发光均匀性等发光特性容易下降。作为该发光特性下降的问题的原因,认为是氧或水分等浸入有机EL元件的内部使电极或有机层劣化。于是,为了解决该问题,提出了几种使用密封材料的方法。例如,专利文献1中记载了密封用粘合片,其是于基材上的至少单面具有阻气层和粘合剂层的密封用粘合片,上述粘合剂层由粘合剂组合物构成,所述粘合剂组合物包含作为第1成分的重均分子量为30万~50万的聚异丁烯系树脂(A)、作为第2成分的重均分子量为1000~25万的聚丁烯树脂(B)、作为第3成分的受阻胺系光稳定剂(C)和/或受阻酚系抗氧化剂(D),其中,相对于100质量份的聚异丁烯系树脂(A)包含10~100质量份的聚丁烯树脂(B)。专利文献1中还记载了:该密封用粘合片的水蒸气透过率非常低。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2012-057065号公报。
技术实现思路
专利技术所要解决的课题如专利文献1所记载,通过于基材上形成阻气层和粘接性树脂层,可以获得密封性能优异的阻气性层合片。然而,现有的具有基材层的阻气性层合片有时会产生屈挠性差、或者难以变薄的问题。本专利技术是鉴于上述实际情况而进行的专利技术,目的在于提供:密封性能和屈挠性优异的阻气性层合片及其制造方法、以及具备来自上述阻气性层合片的阻气层和粘接性树脂层的电子部件和光学部件。用于解决课题的手段为了解决上述课题,本专利技术人对具有阻气层和粘接性树脂层的阻气性层合片进行了深入研究。其结果,发现了:1)制造带阻气层的剥离片和带粘接性树脂层的剥离片,贴合这些片使带阻气层的剥离片的阻气层与带粘接性树脂层的剥离片的粘接性树脂层相对,从而获得不具有基材层的阻气性层合片[即,剥离片(A)/阻气层/粘接性树脂层/剥离片(B)的层结构的阻气性层合片];2)在具有该层结构的阻气性层合片中,通过将上述阻气层的剥离片(A)侧表面的算术平均粗糙度(Ra)和最大截面高度(Rt)设为特定值以下,可以获得阻气性优异的阻气性层合片,从而完成了本专利技术。如此,根据本专利技术,提供下述(1)~(5)的阻气性层合片、(6)的阻气性层合片的制造方法、和(7)的电子部件或光学部件。(1)阻气性层合片,其是具有剥离片(A)/阻气层/粘接性树脂层/剥离片(B)的层结构的阻气性层合片,其特征在于:上述阻气层的剥离片(A)侧的表面的算术平均粗糙度(Ra)为5nm以下,上述表面的最大截面高度(Rt)为100nm以下。(2)(1)所述的层合体,其中,上述阻气层是由无机蒸镀膜构成的层、或者是将包含高分子化合物的层的表面改质而形成的层。(3)(1)或(2)所述的阻气性层合片,其中,上述粘接性树脂层是使用橡胶系粘接性树脂、聚烯烃系粘接性树脂或环氧系粘接性树脂形成的层。(4)(1)~(3)中任一项所述的阻气性层合片,其中,上述剥离片(B)在温度40℃、相对湿度90%的气氛下的水蒸气透过率为1g/m2/天以下。(5)(1)~(4)中任一项所述的阻气性层合片,该阻气性层合片是电子部件用或光学部件用的层合片。(6)(1)~(5)中任一项所述的阻气性层合片的制造方法,上述制造方法具有以下的工序1~3:工序1:在具剥离性的面的算术平均粗糙度(Ra)为5nm以下、上述面的最大截面高度(Rt)为100nm以下的第1剥离片的上述面上形成阻气层,获得带阻气层的剥离片;工序2:在第2剥离片的具剥离性的面上形成粘接性树脂层,得到带粘接性树脂层的剥离片;工序3:将上述带阻气层的剥离片和带粘接性树脂层的剥离片贴合,使上述带阻气层的剥离片的阻气层与上述带粘接性树脂层的剥离片的粘接性树脂层相对。(7)电子部件或光学部件,其是具备来自上述(1)~(5)中任一项所述的阻气性层合片的阻气层和粘接性树脂层的电子部件或光学部件。专利技术效果根据本专利技术,提供密封性能和屈挠性优异的阻气性层合片及其制造方法、以及具备来自上述阻气性层合片的阻气层和粘接性树脂层的电子部件和光学部件。具体实施方式以下,将本专利技术分为1)阻气性层合片、2)阻气性层合片的制造方法和3)电子部件或光学部件详细地进行说明。1)阻气性层合片本专利技术的阻气性层合片是具有剥离片(A)/阻气层/粘接性树脂层/剥离片(B)的层结构的阻气性层合片,其特征在于:上述阻气层的剥离片(A)侧的表面的算术平均粗糙度(Ra)为5nm以下,上述表面的最大截面高度(Rt)为100nm以下。需要说明的是,在本说明书中,“片”不仅包括短条状的片,还包括长条状(带状)的片。“长条”是指相对于片的宽度方向具有至少5倍左右以上的长度、优选具有10倍或其以上的长度,具体而言,具有卷成圆筒状进行保管或搬运的程度的长度。[阻气层]构成本专利技术的阻气性层合片的阻气层是具有抑制氧或水蒸气的透过的特性(在本说明书中,有时称作“阻气性”)的层。本专利技术的阻气性层合片的阻气层的水蒸气透过率在温度40℃、相对湿度90%的气氛下通常为1.0g/m2/天以下,优选为0.8g/m2/天以下,更优选为0.5g/m2/天以下,进一步优选为0.1g/m2/天以下。在本专利技术中,阻气层的水蒸气透过率实质上看作是胶粘性片的水蒸气透过率的值。胶粘性片的水蒸气透过率可以使用公知的气体透过率测定装置来测定。具体而言,可以利用实施例中记载的方法进行测定。从阻气性和操作性的角度考虑,阻气层的厚度通常为1~2000nm、优选3~1000nm、更优选5~500nm、进一步优选为40~200nm的范围。阻气层的剥离片(A)侧的表面的算术平均粗糙度(Ra)为5nm以下,优选3nm以下。下限值没有特别说明,通常为0.1nm。因此,该表面的算术平均粗糙度(Ra)通常为0.1~5nm,优选为0.1~3nm。阻气层的剥离片(A)侧的表面的最大截面高度(Rt)为100nm以下,优选50nm以下。下限值没有特别说明,通常为10nm以上。因此,该表面的最大截面高度(Rt)通常为10~100nm,优选为10~50nm。具有这样的表面的阻气层,其阻气性更优异。具有这样的表面的阻气层可以通过使用平滑性优异的剥离片(A)而高效率地形成。阻气层表面的算术平均粗糙度(Ra)或最大截面高度(Rt)可以在从阻气性层合片上剥下剥离片(A)后,使用光干渉显微镜观察露出的阻气层的表面来求得。利用光干渉显微镜进行的观察可以按照实施例中记载的方法进行。阻气层只要具有阻气性即可,对材质等没有特别限定。例如可以列举:由无机蒸镀膜构成的阻气层、包含阻气性树脂的阻气层、将包含高分子化合物的层(以下有时称作“高分子”)的表面改质而形成的阻气层[这种情况下,阻气层不是仅指被改质的区域,而是指“包括被改质的区域在内的高分子层”]等。其中,从可以高效率地形成薄且阻气性优异的层的角度考虑,优选由无机蒸镀膜构成的阻气层、或者将高分子层的表面改质而形成的阻气层。作为无机蒸镀膜,可以列举无机化合物或金属的蒸镀膜。作为无机化合物的蒸镀膜的原本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.阻气性层合片,其是具有剥离片A/阻气层/粘接性树脂层/剥离片B的层结构的阻气性层合片,其特征在于:上述阻气层的剥离片A侧的表面的算术平均粗糙度Ra为5nm以下,上述表面的最大截面高度Rt为100nm以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.11.10 JP 2016-2194981.阻气性层合片,其是具有剥离片A/阻气层/粘接性树脂层/剥离片B的层结构的阻气性层合片,其特征在于:上述阻气层的剥离片A侧的表面的算术平均粗糙度Ra为5nm以下,上述表面的最大截面高度Rt为100nm以下。2.权利要求1所述的阻气性层合片,其中,上述阻气层是由无机蒸镀膜构成的层、或者是将包含高分子化合物的层的表面改质而形成的层。3.权利要求1或2所述的阻气性层合片,其中,上述粘接性树脂层是使用橡胶系粘接性树脂、聚烯烃系粘接性树脂或环氧系粘接性树脂形成的层。4.权利要求1~3中任一项所述的阻气性层合片,其中,上述剥离片B在温度40℃、相对湿度90%的气氛下的水蒸气透过率为1g/m2/天以...

【专利技术属性】
技术研发人员:永绳智史古屋拓己西嶋健太
申请(专利权)人:琳得科株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1