包含光敏部分的嵌段共聚物制造技术

本申请可以提供嵌段共聚物及其用途。本申请可以提供嵌段共聚物及其用途。本申请的嵌段共聚物可以具有优异的自组装特性或相分离特性，并且同时具有能够改变首先形成的自组装结构的特性，或者提供能够在聚合物膜中形成相分离结构的图案的嵌段共聚物。

Block copolymers containing photosensitive components

This application can provide block copolymers and their applications. This application can provide block copolymers and their applications. The block copolymers in this application may have excellent self-assembly or phase separation characteristics, and also have characteristics that can change the first self-assembly structure, or provide block copolymers that can form patterns of phase separation structure in polymer films.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包含光敏部分的嵌段共聚物
本申请要求基于2016年10月19日提交的韩国专利申请第10-2016-0135870号的优先权的权益，其公开内容通过引用整体并入本文。本申请涉及包含光敏部分的嵌段共聚物。
技术介绍
嵌段共聚物具有其中具有不同化学结构的聚合物嵌段经由共价键连接的分子结构。嵌段共聚物可以通过相分离形成周期性排列的结构，例如球体、柱体、螺旋体或层状。可以广泛地控制通过嵌段共聚物的自组装现象形成的结构的区域尺寸并且可以制造各种类型的结构，使得嵌段共聚物可以应用于高密度磁存储介质、纳米线制造、各种下一代纳米装置(例如量子点或金属点或磁记录介质)或通过光刻的图案形成等。
技术实现思路
技术问题本申请提供了嵌段共聚物及其用途。技术方案本申请涉及嵌段共聚物。在本说明书中，术语嵌段共聚物为以其中彼此不同的两个聚合物链段通过共价键连接的形式的共聚物。在本申请中，两种聚合物链段相同的事实意指对应于以下三种情况中的任一种的情况。首先，(1)当在任何两种聚合物链段中，作为主要组分包含的单体单元的种类彼此相同，或者(2)当包含在两种聚合物链段中的单体单元种类的50％或更大、55％或更大、60％或更大、6本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种嵌段共聚物，包含第一聚合物链段、第二聚合物链段和第三聚合物链段，其中所述嵌段共聚物具有三个聚合物链段共价键合至一个连接点同时共用所述点的星形结构，并且将所述三个聚合物链段中的至少一个聚合物链段连接至所述连接点的连接基团为可断裂连接基团。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.10.19 KR 10-2016-01358701.一种嵌段共聚物，包含第一聚合物链段、第二聚合物链段和第三聚合物链段，其中所述嵌段共聚物具有三个聚合物链段共价键合至一个连接点同时共用所述点的星形结构，并且将所述三个聚合物链段中的至少一个聚合物链段连接至所述连接点的连接基团为可断裂连接基团。2.根据权利要求1所述的嵌段共聚物，其中所述第一聚合物链段至所述第三聚合物链段中的任一者与另外两个聚合物链段不同。3.根据权利要求1所述的嵌段共聚物，其中所述第一聚合物链段至所述第三聚合物链段中的两个聚合物链段彼此相同，并且另一聚合物链段与所述两个聚合物链段不同。4.根据权利要求3所述的嵌段共聚物，其中在所述第一聚合物链段至所述第三聚合物链段中的彼此相同的链段中，组分单体单元的50％或更多彼此相同，并且相应链段中的相同单体的差异在20重量％以内。5.根据权利要求3所述的嵌段共聚物，其中在所述第一聚合物链段至所述第三聚合物链段中的彼此相同的链段中，各聚合物链段的溶解度参数的偏差在10％以内。6.根据权利要求3所述的嵌段共聚物，其中在所述第一聚合物链段至所述第三聚合物链段中彼此相同的两个链段中的任一链段通过所述可断裂连接基团连接至所述连接点。7.根据权利要求1所述的嵌段共聚物，其中所述第一聚合物链段至所述第三聚合物链段各自为选自以下的任一链...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴鲁振，金进坤，崔青龙，尹圣琇，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国,KR