掩模板及其制备方法技术

本发明专利技术的实施例提供一种掩模板及其制备方法，涉及蒸镀技术领域，可改善掩模板角位置处的混色现象，提高产品良率。一种掩模板的制备方法，包括：将多个第一掩模条依次间隔固定于第一掩模板框架上，每个第一掩模条均跨设于第一掩模板框架的中空区域，且第一掩模条的两端与第一掩模板框架固定；除最靠近第一掩模板框架的第一边和第二边的两个第一掩模条外，其余第一掩模条的延伸方向与第一掩模板框架的第一边平行，第一边和第二边相对；分别靠近第一边和第二边的第一掩模条相对其余第一掩模条倾斜设置，且倾斜角度根据蒸镀偏差计算得到。

Mask template and its preparation method

The embodiment of the invention provides a mask and a preparation method thereof, which relates to the technical field of evaporation plating, and can improve the color mixing phenomenon at the corner position of the mask and improve the product yield. A mask preparation method includes: fixing a plurality of first mask strips on the first mask frame in sequence, each first mask strip spans the hollow area of the first mask frame, and the two ends of the first mask strip are fixed with the first mask frame; the other first masks except the first and second first masks which are closest to the first mask frame. The extension direction of the strip is parallel to the first side of the first mask frame, and opposite to the first side and the second side. The first mask strip near the first side and the second side is inclined to the rest of the first mask strip, and the inclination angle is calculated according to the evaporation deviation.

【技术实现步骤摘要】
掩模板及其制备方法
本专利技术涉及蒸镀
，尤其涉及掩模板及其制备方法。
技术介绍
以有机电致发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示器为例，有机发光材料层一般都是通过对有机材料进行真空蒸发镀膜形成。其中，对于RGB子像素独立发光的OLED，由于每个RGB子像素采用不同的有机发光材料，因而RGB子像素的有机发光层需要分别进行蒸镀，在此过程中一般采用精细掩模板来控制有机材料在基板上的镀膜位置，然后依次在每个子像素区域中蒸镀相应的有机材料。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种掩模板及其制备方法，可以改善掩模板角位置处的混色现象，提高产品良率。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：一方面，提供一种掩模板的制备方法，包括：将多个第一掩模条依次间隔固定于第一掩模板框架上，其中，每个所述第一掩模条均跨设于所述第一掩模板框架的中空区域，且所述第一掩模条的两端与所述第一掩模板框架固定；除最靠近所述第一掩模板框架的第一边和第二边的两个第一掩模条外，其余所述第一掩模条的延伸方向与所述第一掩模板框架的所述第一边平行，所述第一边和所述第二边相对；分别靠近所述第一边和所述第二边的所述第一掩模条相对其余所述第一掩模条倾斜设置，且倾斜角度根据蒸镀偏差计算得到。可选的，相对所述第一边的方向，分别靠近所述第一边和所述第二边的所述第一掩模条各自沿顺时针或逆时针方向转动一定角度呈倾斜设置。可选的，分别靠近所述第一边和所述第二边的所述第一掩模条的倾斜角度通过如下方法获得：采用测试掩模板进行蒸镀工艺，其中，所述测试掩模板包括所述第一掩模板框架以及多个间隔且平行设置的第二掩模条；所述第二掩模条的个数与所述第一掩模条的个数相等，且所述第二掩模条的延伸方向与所述第一掩模板框架的第一边平行；通过图像传感器获取靠近所述第一边的所述第二掩模条沿其延伸方向两侧边缘的两个蒸镀孔的坐标，分别为(x1，y1)和(x2，y2)；以及，获取靠近所述第二边的所述第二掩模条沿其延伸方向两侧边缘的两个蒸镀孔的坐标，分别为(x3，y3)和(x4，y4)；通过图像传感器获取与该四个蒸镀孔对应的蒸镀图案的坐标；根据该四个蒸镀孔的坐标以及该四个蒸镀孔对应的蒸镀图案的坐标，计算得到该四个蒸镀孔中每个蒸镀孔蒸镀后的偏差；通过每个蒸镀孔蒸镀后的偏差，将该四个蒸镀孔的坐标分别修正为(x1′，y1′)、(x2′，y2′)、(x3′，y3′)、(x4′，y4′)；根据坐标(x1′，y1′)和(x2′，y2′)，获取靠近所述第一边的所述第一掩模条的倾斜角度；根据坐标(x3′，y3′)和(x4′，y4′)，获取靠近所述第二边的所述第一掩模条的倾斜角度。进一步可选的，根据坐标(x1′，y1′)和(x2′，y2′)，获取靠近所述第一边的所述第一掩模条的倾斜角度，包括：以靠近所述第一边的所述第二掩模条的中心点为原点，建立直角坐标系，其中，第一边的方向为X轴方向，与第一边的方向垂直的方向为Y轴方向；根据坐标(x1′，y1′)的位置，在该直角坐标系，获取该位置对应的坐标(x1″，y1″)；根据(x2′，y2′)的位置，在该直角坐标系，获取该位置对应的坐标(x2″，y2″)；靠近所述第一边的所述第一掩模条的倾斜角度其中，a为张网机的修正系数。可选的，根据坐标(x3′，y3′)和(x4′，y4′)，获取靠近所述第二边的所述第一掩模条的倾斜角度，包括：以靠近所述第二边的所述第二掩模条的中心点为原点，建立直角坐标系，其中，第一边的方向为X轴方向，与第一边的方向垂直的方向为Y轴方向；根据坐标(x3′，y3′)的位置，在该直角坐标系，获取该位置对应的坐标(x3″，y3″)；根据(x4′，y4′)的位置，在该直角坐标系，获取该位置对应的坐标(x4″，y4″)；靠近所述第二边的所述第一掩模条的倾斜角度其中，a为张网机的修正系数。可选的，靠近所述第一边的所述第二掩模条沿其延伸方向两侧边缘的两个蒸镀孔的形状，与该第二掩模条中其他蒸镀孔的形状不同；靠近所述第二边的所述第二掩模条沿其延伸方向两侧边缘的两个蒸镀孔的形状，与该第二掩模条中其他蒸镀孔的形状不同。可选的，在将每个所述第一掩模条固定于所述第一掩模板框架之前，所述掩模板的制备方法还包括：对所述第一掩模板框架进行对位。进一步可选的，对所述第一掩模板框架进行对位，包括：通过图像传感器获取所述第一掩模板框架上的多个对位标记的坐标；根据每个所述对位标记的坐标与理论坐标，判断每个所述对位标记与理论坐标对应位置的距离是否在预设范围内，若是，则对位结束；若否，控制张网机的机台移动，直至每个所述对位标记与理论坐标对应位置的距离在预设范围内。可选的，控制张网机的机台移动，直至每个所述对位标记与理论坐标对应位置的距离在预设范围内，包括：控制张网机的机台移动，且机台每移动一次，进行一次判断过程，直至每个所述对位标记与理论坐标对应位置的距离在预设范围内；其中，所述判断过程包括：获取所述第一掩模板框架上的多个对位标记的坐标；根据每个所述对位标记的坐标与理论坐标，判断每个所述对位标记与理论坐标对应位置的距离是否在预设范围内。另一方面，提供一种掩模板，包括：中空的第一掩模板框架和多个间隔设置的第一掩模条，每个所述第一掩模条跨设于所述第一掩模板框架的中空区域，且所述第一掩模条的两端与所述第一掩模板框架固定；除最靠近所述第一掩模板框架的第一边和第二边的两个第一掩模条外，其余所述第一掩模条的延伸方向与所述第一掩模板框架的所述第一边平行，所述第一边和所述第二边相对；分别靠近所述第一边和所述第二边的所述第一掩模条相对其余所述第一掩模条倾斜设置，且倾斜角度根据蒸镀偏差计算得到。可选的，相对所述第一边的方向，分别靠近所述第一边和第二边的所述第一掩模条各自沿顺时针或逆时针方向转动一定角度呈倾斜设置。可选的，所述掩模板通过上述的掩模板的制备方法制备得到。再一方面，提供一种掩模板的制备方法，包括：重复进行第二掩模板框架的对位以及将每个第三掩模条固定于所述第二掩模板框架的步骤；对所述第二掩模板框架进行对位，包括：将第二掩模板框架固定于张网机的机台上；通过图像传感器获取所述第二掩模板框架上的多个对位标记的坐标；根据每个所述对位标记的坐标与理论坐标，判断每个所述对位标记与理论坐标对应位置的距离是否在预设范围内，若是，则对位结束；若否，控制张网机的机台移动，直至每个所述对位标记与理论坐标对应位置的距离在预设范围内；将第三掩模条固定于所述第二掩模板框架，包括：将所述第三掩模条跨设于所述第二掩模板框架的中空区域，使所述第三掩模条的两端与所述第二掩模板框架固定。可选的，控制张网机的机台移动，直至每个所述对位标记与理论坐标对应位置的距离在预设范围内，包括：控制张网机的机台移动，且机台每移动一次，进行一次判断过程，直至每个所述对位标记与理论坐标对应位置的距离在预设范围内；其中，所述判断过程包括：获取所述第二掩模板框架上的多个对位标记的坐标；根据每个所述对位标记的坐标与理论坐标，判断每个所述对位标记与理论坐标对应位置的距离是否在预设范围内。又一方面，提供一种掩模板，通过上述的掩模板的制备方法制备得到。本专利技术的实施例提供的掩模板及其制备方法，利用蒸镀偏差计算得到倾斜角度，从而在张网时，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模板的制备方法，其特征在于，包括：将多个第一掩模条依次间隔固定于第一掩模板框架上，其中，每个所述第一掩模条均跨设于所述第一掩模板框架的中空区域，且所述第一掩模条的两端与所述第一掩模板框架固定；除最靠近所述第一掩模板框架的第一边和第二边的两个第一掩模条外，其余所述第一掩模条的延伸方向与所述第一掩模板框架的所述第一边平行，所述第一边和所述第二边相对；分别靠近所述第一边和所述第二边的所述第一掩模条相对其余所述第一掩模条倾斜设置，且倾斜角度根据蒸镀偏差计算得到。

【技术特征摘要】
1.一种掩模板的制备方法，其特征在于，包括：将多个第一掩模条依次间隔固定于第一掩模板框架上，其中，每个所述第一掩模条均跨设于所述第一掩模板框架的中空区域，且所述第一掩模条的两端与所述第一掩模板框架固定；除最靠近所述第一掩模板框架的第一边和第二边的两个第一掩模条外，其余所述第一掩模条的延伸方向与所述第一掩模板框架的所述第一边平行，所述第一边和所述第二边相对；分别靠近所述第一边和所述第二边的所述第一掩模条相对其余所述第一掩模条倾斜设置，且倾斜角度根据蒸镀偏差计算得到。2.根据权利要求1所述的掩模板的制备方法，其特征在于，相对所述第一边的方向，分别靠近所述第一边和所述第二边的所述第一掩模条各自沿顺时针或逆时针方向转动一定角度呈倾斜设置。3.根据权利要求1或2所述的掩模板的制备方法，其特征在于，分别靠近所述第一边和所述第二边的所述第一掩模条的倾斜角度通过如下方法获得：采用测试掩模板进行蒸镀工艺，其中，所述测试掩模板包括所述第一掩模板框架以及多个间隔且平行设置的第二掩模条；所述第二掩模条的个数与所述第一掩模条的个数相等，且所述第二掩模条的延伸方向与所述第一掩模板框架的第一边平行；通过图像传感器获取靠近所述第一边的所述第二掩模条沿其延伸方向两侧边缘的两个蒸镀孔的坐标，分别为(x1，y1)和(x2，y2)；以及，获取靠近所述第二边的所述第二掩模条沿其延伸方向两侧边缘的两个蒸镀孔的坐标，分别为(x3，y3)和(x4，y4)；通过图像传感器获取与该四个蒸镀孔对应的蒸镀图案的坐标；根据该四个蒸镀孔的坐标以及该四个蒸镀孔对应的蒸镀图案的坐标，计算得到该四个蒸镀孔中每个蒸镀孔蒸镀后的偏差；通过每个蒸镀孔蒸镀后的偏差，将该四个蒸镀孔的坐标分别修正为(x1′，y1′)、(x2′，y2′)、(x3′，y3′)、(x4′，y4′)；根据坐标(x1′，y1′)和(x2′，y2′)，获取靠近所述第一边的所述第一掩模条的倾斜角度；根据坐标(x3′，y3′)和(x4′，y4′)，获取靠近所述第二边的所述第一掩模条的倾斜角度。4.根据权利要求3所述的掩模板的制备方法，其特征在于，根据坐标(x1′，y1′)和(x2′，y2′)，获取靠近所述第一边的所述第一掩模条的倾斜角度，包括：以靠近所述第一边的所述第二掩模条的中心点为原点，建立直角坐标系，其中，第一边的方向为X轴方向，与第一边的方向垂直的方向为Y轴方向；根据坐标(x1′，y1′)的位置，在该直角坐标系，获取该位置对应的坐标(x1″，y1″)；根据(x2′，y2′)的位置，在该直角坐标系，获取该位置对应的坐标(x2″，y2″)；靠近所述第一边的所述第一掩模条的倾斜角度其中，a为张网机的修正系数。5.根据权利要求3所述的掩模板的制备方法，其特征在于，根据坐标(x3′，y3′)和(x4′，y4′)，获取靠近所述第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕文旭，王永茂，张文畅，周俊吉，郭登俊，马超，伍青峰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11