The invention discloses a cleaning solution, which comprises 5%-9% flocculant of raw materials, 0.05%-0.5% weak acid and 0.05%-1.2% strong acid of the following mass percentages; the remaining amount is water; the invention also discloses a preparation method of cleaning solution, which comprises the following steps: water with 89.3-94.9% mass percentages, flocculant with 5-9% mass percentages and weak acid with 0.05-0.5% mass percentages are added to the cleaning solution sequentially. In the mixing tank, the first mixing liquid is obtained after stirring uniformly; the second mixing liquid is obtained by adding strong acid with the mass percentage of 0.05-1.2% into the first mixing liquid; the second mixing liquid is stirred for 55-65 minutes to obtain the cleaning liquid. The cleaning solution of the invention has strong cleaning power, can quickly remove the residual glue and glass slag in the process of etching thinning, greatly reduces the impact of impurities on the etching of glass substrates, avoids the appearance defective products such as uneven bumps and concaves on glass substrates, and has a high yield of good products. The preparation method of the cleaning solution is simple, easy to operate and easy to industrialize and popularize. Application.
【技术实现步骤摘要】
一种清洗液及其制备方法
本专利技术涉及清洗液
,具体地,涉及一种清洗液及其制备方法。
技术介绍
目前,玻璃基板一般通过化学蚀刻的方法进行减薄处理,在化学蚀刻的工艺中,其工艺过程一般为封胶、减薄及研磨,通过封胶将玻璃基板的边缘进行密封处理,防止后续蚀刻药剂进入玻璃基板内部而影响产品性能。蚀刻会将1.0mm或者0.8mm的玻璃基板减薄至0.3mm或者0.4mm,与此同时,在蚀刻减薄过程中会产生一定量的沉淀物,玻璃减薄行业称其为玻璃渣,其主要成分是氟硅酸盐、原硅酸、氟盐等组成的混合物。随着蚀刻减薄过程的进行,封胶残留的胶液和玻璃渣等杂质将沉积在鼓泡管或者槽壁,如果不去除会杂质,当再次利用时杂质会影响减薄的玻璃基板,导致玻璃基板的蚀刻减薄无法均匀进行,影响产品的良品率。现有技术中的清洗液无法将玻璃减薄过程中残留的胶液和玻璃渣等杂质清洗干净。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本专利技术提供一种清洗液及其制备方法。本专利技术公开的一种清洗液,包括以下质量百分比的原料:5~9%絮凝剂、0.05~0.5%弱酸及0.05~1.2%强酸;余量为水。根据本专利技术的一实施方式,清洗液包括以下质量百分比的原料:9%絮凝剂、0.5%弱酸及1.2%强酸;余量为水。根据本专利技术的一实施方式,清洗液包括以下质量百分比的原料:7%絮凝剂、0.2%弱酸及0.6%强酸;余量为水。根据本专利技术的一实施方式,清洗液包括以下质量百分比的原料:5%絮凝剂、0.05%弱酸及0.05%强酸;余量为水。根据本专利技术的一实施方式,絮凝剂为硫酸铝。本专利技术提供的清洗液的制备方法包括如下步骤:质量百分 ...
【技术保护点】
1.一种清洗液,其特征在于,包括以下质量百分比的原料:5~9%絮凝剂、0.05~0.5%弱酸及0.05~1.2%强酸;余量为水。
【技术特征摘要】
1.一种清洗液,其特征在于,包括以下质量百分比的原料:5~9%絮凝剂、0.05~0.5%弱酸及0.05~1.2%强酸;余量为水。2.根据权利要求1所述的清洗液,其特征在于,包括以下质量百分比的原料:9%絮凝剂、0.5%弱酸及1.2%强酸;余量为水。3.根据权利要求1所述的清洗液,其特征在于,包括以下质量百分比的原料:7%絮凝剂、0.2%弱酸及0.6%强酸;余量为水。4.根据权利要求1所述的清洗液,其特征在于,包括以下质量百分比的原料:5%絮凝剂、0.05%...
【专利技术属性】
技术研发人员:郑资来,
申请(专利权)人:惠州市清洋实业有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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