A thin film electrochemical deposition system, unwinding module, used for unwinding film surface; pre-treatment module, used for Micro-etching and cleaning film surface; first deposition module, used for double-sided pre-plating of composite copper layer on film surface; second deposition module, used for double-sided thickening of composite copper layer on film surface; cleaning module, used for cleaning film surface; The deposition module is used to deposit protective layer on the cleaned film surface; the post-processing module is used to clean, dry and cut the film surface; and the winding module is used to roll the film surface. The ultra-thin film electrochemical deposition system according to the present invention can rapidly process the ultra-thin film by electroplating, double-sided electroplating can be completed at one time, the processing efficiency is high, the mechanism is reasonable, the production cost is effectively saved, the production efficiency is improved, the quality is controllable, the tension control precision is high, and the appearance performance of the ultra-thin film is good.
【技术实现步骤摘要】
一种超薄薄膜电化学沉积系统
本专利技术属于储能单元材料加工设备
,具体涉及一种超薄薄膜电化学沉积系统。
技术介绍
随着工业的发展和化石能源的枯竭,环境污染和能源匮乏的压力越来越大,寻找新的能源和发展新的节能工具。超薄导电膜是一种广泛应用于储能单元制造的薄膜,其极大的影响了储能单元的质量。现有技术存在的问题是,如何提供一种生产效率高、膜面外观好的电化学沉积系统。
技术实现思路
本专利技术的专利技术目的在于克服现有技术存在的问题,提供一种生产效率高、膜面外观好的电化学沉积系统。本专利技术技术方案如下:一种超薄薄膜电化学沉积系统,包括放卷模块,用于放卷膜面;前处理模块,用于微蚀洗及清洁膜面的表面;第一沉积模块,用于对膜面的双面预镀沉积复合铜层;第二沉积模块,用于对膜面的复合铜层进行双面增厚沉积铜层;清洗模块,用于对膜面进行清洗;保护层沉积模块,用于在清洗后的膜面上沉积保护层;后处理模块,用于对膜面进行清洁、烘干、切割;收卷模块,用于收卷膜面。其中,所述第一沉积模块设置有1~10个镀液槽,膜面经输送辊依次通过镀液槽。其中,所述第二沉积模块设置有2~40个镀液槽,膜面经输送辊依次通过镀液槽。其中,所述第一沉积模块、第二沉积模块中每组镀液槽之间设置有浮动张力检测与控制系统,用于检测和调节前段的膜面的张力,每组镀液槽为相邻的两个镀液槽。其中,所述第一沉积模块、第二沉积模块中每个镀液槽设置有固定张力检测与控制系统,用于检测和调节前段的膜面的张力。其中,所述镀液槽内的阴极棍直径100-150mm,镀液槽的液位面以下的膜面的长度为500~1400mm,阳极板距离膜面的距离1 ...
【技术保护点】
1.一种超薄薄膜电化学沉积系统,其特征在于:包括放卷模块,用于放卷膜面;前处理模块,用于微蚀洗及清洁膜面的表面;第一沉积模块,用于对膜面的双面预镀沉积复合铜层;第二沉积模块,用于对膜面的复合铜层进行双面增厚沉积铜层;清洗模块,用于对膜面进行清洗;保护层沉积模块,用于在清洗后的膜面上沉积保护层;后处理模块,用于对膜面进行清洁、烘干、切割;收卷模块,用于收卷膜面。
【技术特征摘要】
1.一种超薄薄膜电化学沉积系统,其特征在于:包括放卷模块,用于放卷膜面;前处理模块,用于微蚀洗及清洁膜面的表面;第一沉积模块,用于对膜面的双面预镀沉积复合铜层;第二沉积模块,用于对膜面的复合铜层进行双面增厚沉积铜层;清洗模块,用于对膜面进行清洗;保护层沉积模块,用于在清洗后的膜面上沉积保护层;后处理模块,用于对膜面进行清洁、烘干、切割;收卷模块,用于收卷膜面。2.根据权利要求1所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统,其特征在于:所述第一沉积模块、第二沉积模块中每组镀液槽之间设置有浮动张力检测与控制系统,用于检测和调节前段的膜面的张力,每组镀液槽为相邻的两个镀液槽。3.根据权利要求1或2所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统,其特征在于:所述第一沉积模块、第二沉积模块中每个镀液槽设置有固定张力检测与控制系统,用于检测和调节前段的膜面的张力。4.根据权利要求1所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统,其特征在于:所述第一沉积模块设置有1~10个预镀镀液槽,膜面经输送辊依次通过预镀镀液槽。5.根据权利要求2所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统,其特征在于:所述第二沉积模块设置有2~40个增厚镀液槽,膜面经输送辊依次通过增厚镀液槽。6.根据权利要求4所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统,其特征在于:所述预镀镀液槽内的阴极棍直径50-200mm,预镀镀液槽的液位面以下的膜面的长度为500~1400mm,阳极板距离膜面的距离10-100mm,阴极棍和膜面切线处和液面距离50-200mm。7.根据权利要求6所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统,其特征在于:所述预镀镀液槽内的阴极棍直径优选100-150mm。8.根据权利要求7所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统,其特征在于:所述预镀镀液槽内的阳极棍设置为可溶性阳极且阴阳极面积比大于2或不溶性阳极且阴阳极面积比大于0.4。9.根据权利要求5所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统,其特征在于:所述增厚镀液槽内的阴极棍直径130-200mm,增厚镀液槽的液位面以下的膜面长度为800-2000mm,阳极板距离膜面的距离20-100mm,阴极棍与页面距离100-400mm。10.根据权利要求9所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统,其特征在于:所述增厚镀液槽内的阳极棍设置为可溶性阳极且阴阳极面积比大于2或不溶性阳极且阴阳极面积比大于0.4。11.根据权利要求2所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统,其特征在于:所述镀液槽包括不溶性阳极金属钛板构成的镀液槽,所述金属钛板的正反面或正面二氧化铱镀层,且反面黏贴有耐腐蚀性的非导电材料。12.根据权利要求11所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统,其特征在于:所述金属钛板结构包含不限于平板状,网状和瓦楞状;或采用可溶性阳极钛篮与阳极袋相结合配置磷铜球。13.根据权利要求1所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统,其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员:叶颖辉,
申请(专利权)人:深圳市汇美新科技有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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