带有自清洁刷的晶圆片刷洗装置制造方法及图纸

技术编号:21063271 阅读:87 留言:0更新日期:2019-05-08 08:42
本发明专利技术公开了一种带有自清洁刷的晶圆片刷洗装置,解决了晶圆片刷洗中如何清洁刷套底部污渍的问题。在滚刷空心轴顶接圆柱套体(2)中活动设置有滚刷空心轴顶接圆柱(16),在滚刷空心轴顶接圆柱(16)中设置有清洁液进水水路(21),在滚刷空心轴顶接圆柱(16)与滚刷驱动轴(9)之间连接有滚刷空心轴(7),在滚刷空心轴(7)的圆柱体上设置有出水口(18),出水口(18)与滚刷空心轴(7)的空心内腔(20)连通在一起,清洁液进水水路(21)与滚刷空心轴(7)的空心内腔(20)连通在一起,在滚刷空心轴(7)上套接有滚刷套(6)。实现了刷套的自清洁,提高了晶圆片的清洗质量。

Wafer scrubbing device with self-cleaning brush

【技术实现步骤摘要】
带有自清洁刷的晶圆片刷洗装置
本专利技术涉及一种晶圆片刷洗装置,特别涉及一种刷体具有自清洁功能并可快速更换的晶圆片刷洗装置。
技术介绍
在晶圆片生产制造过程中,晶圆片经过化学机械抛光后,晶圆片表面会残留大量颗粒、有机物和金属离子,因此需要对晶圆片表面进行刷洗。现有的晶圆片刷洗装置有很多,如单面刷洗的及双面刷洗的,但基本原理是一样的,均是通过一个自转的圆柱形清洁刷在圆片形晶圆片的表面进行滚刷,在滚刷过程中,晶圆片表面的斜上方的喷淋装置,喷出清洁水到刷体和晶圆片表面上,实现对晶圆片表面的清洁;在整个洗刷过程中,晶圆片表面的大量颗粒、有机物和金属离子首先是进入到圆柱形清洁刷的刷套中,喷淋装置所喷淋出的水可以将刷套上的清洗出的颗粒大部分冲洗掉,但也有一部分会滞留在刷套的底部,带污渍的刷体对下一晶圆片的刷洗时,会影响到清洗质量;此外,刷套属消耗品,使用一段时间就需要更换,如何缩短更换时间,是提高现场工作效率的一个关键环节。
技术实现思路
本专利技术提供了一种带有自清洁刷的晶圆片刷洗装置及刷洗方法,解决了晶圆片刷洗中如何清洁刷套底部污渍的技术问题。本专利技术是通过以下技术方案解决以上技术问题的:一种本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带有自清洁刷的晶圆片刷洗装置,包括彼此平行设置的左支撑板(22)和右支撑板(23),在左支撑板(22)与右支撑板(23)之间设置有晶圆片传送皮带(24),在晶圆片传送皮带(24)上设置有晶圆片(25),在晶圆片(25)的后侧上方设置有清洁液喷淋管(32),在晶圆片(25)的前侧上方的左支撑板(22)上设置有滚刷驱动轴轴承(14),在晶圆片(25)的前侧上方的右支撑板(23)上设置有滚刷空心轴顶接圆柱套体(2),在滚刷驱动轴轴承(14)中穿接有滚刷驱动轴(9),其特征在于,在滚刷空心轴顶接圆柱套体(2)中活动设置有滚刷空心轴顶接圆柱(16),在滚刷空心轴顶接圆柱(16)中设置有清洁液进水...

【技术特征摘要】
1.一种带有自清洁刷的晶圆片刷洗装置,包括彼此平行设置的左支撑板(22)和右支撑板(23),在左支撑板(22)与右支撑板(23)之间设置有晶圆片传送皮带(24),在晶圆片传送皮带(24)上设置有晶圆片(25),在晶圆片(25)的后侧上方设置有清洁液喷淋管(32),在晶圆片(25)的前侧上方的左支撑板(22)上设置有滚刷驱动轴轴承(14),在晶圆片(25)的前侧上方的右支撑板(23)上设置有滚刷空心轴顶接圆柱套体(2),在滚刷驱动轴轴承(14)中穿接有滚刷驱动轴(9),其特征在于,在滚刷空心轴顶接圆柱套体(2)中活动设置有滚刷空心轴顶接圆柱(16),在滚刷空心轴顶接圆柱(16)中设置有清洁液进水水路(21),在滚刷空心轴顶接圆柱(16)与滚刷驱动轴(9)之间连接有滚刷空心轴(7),在滚刷空心轴(7)的圆柱体上设置有出水口(18),出水口(18)与滚刷空心轴(7)的空心内腔(20)连通在一起,清洁液进水水路(21)与滚刷空心轴(7)的空心内腔(20)连通在一起,在滚刷空心轴(7)上套接有滚刷套(6)。2.根据权利要求1所述的一种带有自清洁刷的晶圆片刷洗装置,其特征在于,在滚刷空心轴顶接圆柱(16)的右端面与滚刷空心轴顶接圆柱套体(2)的右端盖之间设置有顶接螺...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙德全师开鹏张峰
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第二研究所
类型:发明
国别省市:山西,14

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