The invention discloses a one-component polysiloxane photoinitiator which can overcome oxygen inhibition. The structure of the photoinitiator is as follows:
【技术实现步骤摘要】
一种可克服氧阻聚的单组分聚硅氧烷光引发剂及其制备方法
本专利技术涉及光引发剂领域，特别是可克服氧阻聚的单组分聚硅氧烷引发剂。
技术介绍
光聚合技术在光固化涂料、胶黏剂、油墨、微电子、光刻胶等诸多领域中被广泛使用。但在使用过程中，一些固有的难点或缺点也影响其使用，如自由基光固化体系中的氧阻聚作用。自由基光固化体系中，一般物质的基态是单线态，而O2的稳定态却是三线态，有两个自旋方向相同的未成对电子。因此，它会与自由基的聚合反应竞争而消耗自由基。氧阻聚主要表现为在空气光固化过程中，常常会导致涂层底层固化、表面未固化而发黏。氧阻聚最终可导致涂层表层出现大量羟基、羰基、过氧基等氧化性结构，从而影响涂层的长期稳定性，甚至可能影响固化后漆膜的硬度、光泽度和抗划伤性等性能。现有抑制氧阻聚方法包括物理方法和化学方法。物理方法如惰性气体保护法、浮蜡、覆膜、强光照射、分步照射等，这些方法可能带来成本提高和影响涂膜性质等问题。而化学方法则是通过加入能提供活泼氢的物质，如硫醇、胺和醚类，可以带来有效的氧阻聚改善，但硫醇的使用带来了高气味、胺的的使用带来了黄变及残留、以及醚类的使用带来了涂层...
【技术保护点】
1.一种用下列结构式表示的可克服氧阻聚的单组分聚硅氧烷光引发剂：
【技术特征摘要】
1.一种用下列结构式表示的可克服氧阻聚的单组分聚硅氧烷光引发剂：式中0≤x<1，0<y<1，0<z<1，x+y+z＝1，n＝2～200；R选自以下结构中的一种，2.权利要求1所述的可克服氧阻聚的单组分聚硅氧烷光引发剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将光引发剂与含氢聚硅氧烷在氩气氛围下混溶于溶剂中得到溶液A；(2)加入适量硅氢化催化剂到溶液A中，控制反应温度，直至光引发剂反应完全得到反应液B；(3)将反应液B在氩气氛围下冷却至室温，减压抽去溶剂即得。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中光引发剂选自2-(N-甲基-N-烯丙基)硫杂蒽酮、4-(N-甲基-N-烯丙基)-N-(2-甲氧基乙基)萘二酰亚胺、2-(烯丙氧基)硫杂蒽酮、4-(N-甲基-N-苄基)-N-(烯丙基)萘二酰亚胺、4-(N-甲基-N-烯丙基)-N-(2-(二甲基氨基)乙基)萘二酰亚胺、4-(十二巯基)-N-(烯丙基)萘二酰亚胺、4-(哌嗪基)-N-(烯丙基)萘二酰亚胺、...
【专利技术属性】
技术研发人员：唐红定，杨建静，武青青，熊英，
申请(专利权)人：武汉大学，
类型：发明
国别省市：湖北,42
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